本公开至少一个实施例涉及一种盖板及其制备方法、电子装置。
背景技术：
在智能终端领域，由于指纹识别具有高唯一性、高稳定性、高准确性、高安全性、高的可采集性以及低成本等优点，使得指纹识别在电子产品中的应用越来越广泛。使用过程中，用户对指纹识别的区域进行定位以进行操作。但是，当处于例如光线昏暗等环境中时，用户难以确定指纹识别区域的准确位置，容易导致操作失误，影响用户体验。
技术实现要素：
本公开至少一个实施例提供一种盖板，包括工作区域，所述工作区域包括识别区和非识别区，所述盖板包括接触面，所述接触面包括第一接触面和第二接触面，所述第一接触面位于所述识别区中，所述第二接触面位于所述非识别区中，所述第一接触面和所述第二接触面的接触性质不同。
例如，本公开至少一个实施例提供的盖板还包括构成所述第一接触面和第二接触面的涂层。
例如，在本公开至少一个实施例提供的盖板中，所述接触性质包括表面粗糙度，并且所述第一接触面的表面粗糙度与所述第二接触面的表面粗糙度不同。
例如，在本公开至少一个实施例提供的盖板中，所述接触性质包括顺滑度，并且所述第一接触面和所述第二接触面的顺滑度不同。
例如，在本公开至少一个实施例提供的盖板中，所述第一接触面的疏液性和所述第二接触面的疏液性不同，使得所述第一接触面和所述第二接触面的顺滑度不同。
例如，在本公开至少一个实施例提供的盖板中，所述第一接触面和所述第二接触面的制备材料包括卤素化合物，并且所述第一接触面中的所述卤素化合物的含量为第一含量，所述第二接触面中的所述卤素化合物的含量为第二含量，所述第一含量与所述第二含量不同，使得所述第一接触面和所述第二接触面的疏液性不同。
例如，在本公开至少一个实施例提供的盖板还包括：设置于所述接触面的与预定接触侧相对一侧的光学匹配层，所述光学匹配层位于所述识别区或者所述非识别区中；其中，所述光学匹配层配置为使得所述识别区的光学特性和所述非识别区的光学特性相同。
例如，在本公开至少一个实施例提供的盖板中，所述第一接触面和所述第二接触面位于同一平面中。
本公开至少一个实施例提供一种电子装置，包括上述任一实施例中的盖板。
例如，在本公开至少一个实施例提供的电子装置中，所述识别区包括指纹识别区。
例如，本公开至少一个实施例提供的电子装置还包括显示区域或触控区域，所述工作区域与所述显示区域或所述触控区域重合。
本公开至少一个实施例提供一种盖板的制备方法，所述盖板包括工作区域，所述工作区域包括识别区和非识别区，所述方法包括：形成所述盖板的接触面；其中，所述盖板包括接触面，所述接触面包括第一接触面和第二接触面，所述第一接触面位于所述识别区中，所述第二接触面位于所述非识别区中，且所述第一接触面和所述第二接触面的接触性质不同。
例如，在本公开至少一个实施例提供的制备方法中，形成所述接触面包括：形成涂层，以提供所述接触面。
例如，在本公开至少一个实施例提供的制备方法中，所述接触性质包括表面粗糙度，形成所述涂层包括：对所述涂层进行刻蚀处理，以使得所述第一接触面的表面粗糙度与所述第二接触面的表面粗糙度不同。
例如，在本公开至少一个实施例提供的制备方法中，所述接触性质包括顺滑度，形成所述涂层包括：形成所述第一接触面和所述第二接触面，所述第一接触面和所述第二接触面的疏液性不同，从而使得所述第一接触面和所述第二接触面的顺滑度不同。
例如，在本公开至少一个实施例提供的制备方法中，形成所述第一接触面和所述第二接触面包括：在所述识别区中形成第一材料层以形成所述第一接触面；以及在所述非识别区中形成第二材料层以形成所述第二接触面；所述第一接触面和所述第二接触面的制备材料包括卤素化合物，并且所述第一材料层中的所述卤素化合物的含量为第一含量，所述第二材料层中的所述卤素化合物的含量为第二含量，所述第一含量和所述第二含量不同以使得所述第一接触面和所述第二接触面的疏液性不同。
例如，在本公开至少一个实施例提供的制备方法中，形成光学匹配层并在所述光学匹配层上形成所述接触面；其中，所述光学匹配层形成在所述识别区中或者所述非识别区中，所述光学匹配层形成为使得所述识别区的光学特性和所述非识别区的光学特性相同。
附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。
图1为本公开一个实施例提供的一种盖板的平面图；
图2为图1所示盖板沿m-n的截面图；
图3为本公开一个实施例提供的另一种盖板的截面图；
图4为本公开一个实施例提供的另一种盖板的截面图；
图5为本公开一个实施例提供的另一种盖板的截面图；
图6为本公开一个实施例提供的一种电子装置的局部结构示意图；以及
图7a～图7c为本公开一个实施例提供的一种盖板的制备方法的过程图。
附图标记：
100-盖板；101-识别区；102-非识别区；110-接触面；111-第一接触面；112-第二接触面；120-光学匹配层；130-过渡层；140-基底；201，202-子像素单元；203-指纹识别单元。
具体实施方式
为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
本公开至少一个实施例提供一种盖板，包括工作区域，工作区域包括识别区和非识别区；盖板包括接触面，接触面包括第一接触面和第二接触面，第一接触面位于识别区中，第二接触面位于非识别区中，第一接触面和第二接触面的接触性质不同。示例性的，当用户触摸盖板的接触面时，通过体验第一接触面的接触性质和第二接触面的接触性质的差异，可以准确定位识别区。对盖板中的识别区的定位不受光线昏暗等环境条件的限制，显著提高盖板的适用性。
下面，结合附图对根据本公开至少一个实施例的盖板及其制备方法、电子装置进行说明。
本公开至少一个实施例提供一种盖板，图1为本公开一个实施例提供的一种盖板的平面图，图2为图1所示盖板沿m-n的截面图。例如图1和图2所示，盖板100包括工作区域a(例如图1中的虚线区域)，工作区域a包括识别区101和位于识别区101一侧的非识别区102，盖板100的接触面110包括位于识别区101的第一接触面111和位于非识别区102的第二接触面112，第一接触面111和第二接触面112的接触性质不同。第一接触面111和第二接触面112之间的不同的接触性质会造成用户不同的触摸感觉，用户根据不同的触摸感觉可以准确找到识别区101的位置，以进行例如指纹识别等准确操作。
例如，在本公开至少一个实施例中，盖板包括构成第一接触面和第二接触面的涂层。示例性的，以涂层构成盖板的接触面为例，如图2所示，盖板100可以包括基底140，涂层设置于基底140上，该涂层作为盖板100的接触面110(包括第一接触面111和第二接触面112)。该基底140包括功能层或结构层等，根据不同的情形，该功能层可以包括识别电路、显示电路等。
在本公开的实施例中，对盖板中的识别区和非识别区的位置关系不做限制，可以根据实际应用来确定。例如，非识别区可以位于识别区的一侧。示例性的，盖板100的识别区101可以位于如图1所示的非识别区102之中，也可以位于非识别区102的边缘。
在本公开的实施例中，对盖板中的工作区域的范围不做限制，可以根据实际应用来决定。例如，工作区域a可以设计为对应于如图1所示的盖板100部分表面；例如，工作区域a也可以设计为对应于盖板100的整个表面。
在本公开的实施例中，对盖板表面的接触性质的类型不做限制。例如，对于用户而言，只要用户可以根据不同的触摸性质体验到不同的触摸感觉即可。例如，该触摸性质可以包括表面粗糙度、顺滑度、热传导率等。下面，通过几个实施例对触摸性质的类型进行分析。
例如，在本公开至少一个实施例提供的盖板中，接触性质可以为表面粗糙度，并且第一接触面的表面粗糙度与第二接触面的表面粗糙度不同。示例性的，如图1和图2所示，第一接触面111的表面粗糙度大于第二接触面112的表面粗糙度，或者第一接触面111的表面粗糙度大于第二接触面112的表面粗糙度。例如，当用户触碰接触面110时，不同表面粗糙度的动摩擦系数不同，相应地，用户察觉到不同的摩擦感，可以据此定位盖板100的识别区101。
在本公开的实施例对盖板的接触面的表面摩擦度的范围为不做限制，可以根据盖板的应用环境确定。示例性的，如图1所示，盖板100可以用于显示领域，如果盖板100的表面摩擦度过大，可能会影响显示效果。如此，可以尽量降低盖板100的接触面110的表面摩擦度，使其可以对显示效果的影响在可接受的范围内，并且能保证第一接触面111的表面摩擦度和第二接触面112的表面摩擦度之间的差异程度能够使得用户可以感受到不同的摩擦感即可。
例如，在本公开至少一个实施例提供的盖板中，接触性质为顺滑度，并且第一接触面和第二接触面的顺滑度不同。示例性的，如图1和图2所示，第一接触面111的顺滑度大于第二接触面112的顺滑度，或者第一接触面111的顺滑度大于第二接触面112的顺滑度。顺滑度可以为沿着接触面滑动的顺畅程度，用户的例如手指在第一接触面111和第二接触面112上滑动时的顺畅感觉不同，使得用户可以据此定位盖板100的识别区101。
以用户的手指为例，手指上通常会残留有液体(例如汗液、油脂等)，该液体与盖板的接触面之间会产生粘接作用。如果该粘接作用的粘结强度大，则手指在接触面上难以滑动，顺畅感差，相应地，接触面的顺滑度小；如果该粘接作用的粘结强度小，则手指在接触面上容易滑动，顺畅感好，相应地，接触面的顺滑度大。
例如，在本公开至少一个实施例提供的盖板中，第一接触面的润湿性和第二接触面的润湿性不同，使得第一接触面和第二接触面的顺滑度不同。示例性的，如图1和图2所示，第一接触面111的润湿性大于第二接触面112的润湿性，以使得第一接触面111的顺滑度小于第二接触面112的顺滑度；或者第一接触面111的润湿性小于第二接触面112的润湿性，以使得第一接触面111的顺滑度大于第二接触面112的顺滑度。
影响粘结强度的大小的因素包括接触面和液体之间的粘合力以及接触面的润湿性等，粘合力受接触面和液体本身材料的性质决定，在此不做分析。如果接触面的润湿性大，则粘结强度大，相应地，接触面的顺滑度小；如果接触面的润湿性小，则粘结强度小，相应地，接触面的顺滑度大。因此，通过改变接触面的润湿性，可以使得接触面和手指之间的粘结强度不同，即可以改变接触面的顺滑度。
例如，在本公开至少一个实施例中，第一接触面的疏液性和第二接触面的疏液性不同，使得第一接触面和第二接触面的顺滑度不同。示例性的，如图1和图2所示，第一接触面111的疏液性大于第二接触面112的疏液性，以使得第一接触面111的顺滑度大于第二接触面112的顺滑度；或者第一接触面111的疏液性小于第二接触面112的疏液性，以使得第一接触面111的顺滑度小于第二接触面112的顺滑度。接触面110具有疏液性可以提高接触面110整体的顺滑度，提高用户的体验，而且第一接触面111和第二接触面112具有不同的疏液性可以使得第一接触面111和第二接触面112的顺滑度不同，用户可以据此定位识别区101的位置。
接触面的润湿性包括亲液性和疏液性，并且接触面具有亲液性或者疏液性是相对于彼此接触的物质(例如液体)的类型而言的。液体的表面存在表面张力，接触面的表面存在表面能，如果该表面能大于该表面张力，则接触面对该液体具有亲液性；如果该表面能小于该表面张力，则接触面对该液体具有疏液性。当接触面的表面能较低例如具有疏液性的情况下，液体不易粘附在接触面上，如此，接触面不易受到外物(例如汗液等)的污染，可以显著提高盖板的接触面的整洁程度，而且接触面可以具有较高的顺滑度，可以提升用户的体验。
在本公开的实施例中，对接触面的疏液性的具体范围不做限制。示例性的，以水为参考，水在盖板的接触面上的接触角(水滴角)不小于105度，可以使得接触面具有良好的疏水性，在盖板的接触面上也不会残存例如指纹等污染物，使得盖板的接触面可以具有良好的抗指纹特性。
在本公开的实施例中，对接触面具有疏液性以及第一接触面和第二接触面具有不同的疏液性的方式不做限制。
例如，在本公开至少一个实施例的盖板中，可以通过在接触面中掺杂或注入一定量的卤素化合物，以使得接触面具有疏液性。例如，在本公开至少一个实施例提供的盖板中，第一接触面和第二接触面的制备材料包括卤素化合物，并且第一接触面中的卤素化合物的含量为第一含量，第二接触面中卤素化合物的含量为第二含量，第一含量与第二含量不同，使得第一接触面和第二接触面的疏液性不同。需要说明的是，上述含量可以通过质量百分比来表示。示例性的，第一含量为第一接触面中的卤素化合物的质量与第一接触面的总质量之比，第二含量为第二接触面中的卤素化合物的质量与第二接触面的总质量之比。
示例性的，如图1和图2所示，第一接触面111中的卤素化合物的第一含量大于第二接触面112中卤素化合物的第二含量，以使得第一接触面111的疏液性大于第二接触面112的疏液性；或者第一接触面111中的卤素化合物的第一含量小于第二接触面112中卤素化合物的第二含量，以使得第一接触面111的疏液性小于第二接触面112的疏液性。
获得具有不同疏液性的第一接触面和第二接触面的方法可以参考下述实施例(与盖板的制备方法相关的实施例)中的相关内容，本公开的实施例在此不做赘述。
在本公开的实施例中，对接触面中掺杂的卤素化合物的类型不做限制。示例性的，该卤素化合物可以包括氟化物、氯化物、溴化物、碘化物以及其它含卤素的聚合物等。例如，该卤素化合物可以为氟化钙、氟化镁或者氟化钡等，也可以为包括卤素(例如氟、氯、溴或者碘等)的有机基团。以卤素化合物为氟化物为例，含氟的有机基团可以包括全氟聚氧亚烷基的聚合物或全氟聚醚改性硅院等。
在本公开的至少一个实施例中，盖板的第一接触面和第二接触面的接触性质不同，可能会导致盖板的识别区和非识别区的光学特性例如光透过率不同，影响盖板的透光率分布的均匀度。示例性的，在盖板的接触面的接触性质为表面粗糙度的情况下，接触面中表面粗糙度大的区域的透光率低；在盖板的接触面的接触性质为表面粗糙度的情况下，接触面中例如掺杂卤素化合物的量越大的区域的透光率低。
例如，在本本公开至少一个实施例中，盖板还包括设置于接触面的与预定接触侧相对一侧的光学匹配层，光学匹配层位于识别区或者非识别区中。例如，如图1和2所示，接触面110的预定接触侧可以为接触面110的远离基底140的一侧，用户可以从该预定接触侧触摸接触面110，接触面110的预定接触侧相对一侧可以为接触面110的面向基底140的一侧。
例如，光学匹配层配置为使得识别区的光学特性和非识别区的光学特性相同或者基本相同。示例性的，以光学特性为透光率为例，工作光从光学匹配层一侧入射，光学匹配层配置为使得识别区的透光率和非识别区的透光率相同或基本相同。或者，示例性的，以光学特性为反光率为例，工作光从接触面(例如涂层)一侧入射，光学匹配层配置为使得识别区的反光率和非识别区的反光率相同或基本相同。下面，以光学特性为透光率为例进行说明。
图3为本公开一个实施例提供的另一种盖板的截面图。示例性的，如图2和图3所示，光学匹配层120设置于接触面110的与预定接触侧相对的一侧(接触面110的面向基底140的一侧)。光学匹配层120可以设置于如图2所示的识别区101中，也可以设置于如图3所示的非识别区102中。在实际应用过程中，工作光可以从盖板的设置有光学匹配层120的一侧入射。例如，通过对光学匹配层120的厚度或者材料等进行选择和设计，使得盖板的识别区101的透光率和非识别区102的透光率相同。
光学匹配层120的设置位置与接触面110的接触性质、光学匹配层120的制备材料和接触面110的制备材料之间的关系等因素相关。下面，通过几个实施例对光学匹配层120的设置方式进行说明。
例如，在本公开至少一个实施例中，接触面110的接触性质为表面粗糙度。示例性的，在第一接触面111的表面粗糙度大于第二接触面112的表面粗糙度的情况下，如果光学匹配层120的制备材料的透光性大于接触面110的制备材料的透光性，则光学匹配层120可以设置于如图2所示的识别区101中；如果光学匹配层120的制备材料的透光性小于接触面110的制备材料的透光性，则光学匹配层120可以设置于如图3所示的非识别区102中。示例性的，在第一接触面111的表面粗糙度小于第二接触面112的表面粗糙度的情况下，如果光学匹配层120的制备材料的透光性小于接触面110的制备材料的透光性，则光学匹配层120可以设置于如图2所示的识别区101中；如果光学匹配层120的制备材料的透光性大于接触面110的制备材料的透光性，则光学匹配层120可以设置于如图3所示的非识别区102中。
例如，在本公开至少一个实施例中，接触面110的接触性质为顺滑度。示例性的，在第一接触面111的顺滑度大于第二接触面112的顺滑度的情况下，如果光学匹配层120的制备材料的透光性大于接触面110的制备材料的透光性，则光学匹配层120可以设置于如图2所示的识别区101中；如果光学匹配层120的制备材料的透光性小于接触面110的制备材料的透光性，则光学匹配层120可以设置于如图3所示的非识别区102中。示例性的，在第一接触面111的表面粗糙度小于第二接触面112的表面粗糙度的情况下，如果光学匹配层120的制备材料的透光性小于接触面110的制备材料的透光性，则光学匹配层120可以设置于如图2所示的识别区101中；如果光学匹配层120的制备材料的透光性大于接触面110的制备材料的透光性，则光学匹配层120可以设置于如图3所示的非识别区102中。
在本公开的实施例中，对提供盖板的接触面的制备材料不做限制。例如，接触面的制备材料可以包括氧化硅、氮化硅等透光性良好的材料。示例性的，在本公开的实施例中，盖板的接触面的制备材料中都可以掺杂卤素化合物以具有疏液性。
在本公开的实施例中，对光学匹配层的制备材料不做限制。例如，光学匹配层的制备材料可以包括氧化硅、氮化硅等透光性良好的材料中的一种或者组合。
在本公开的实施例中，接触面在识别区和非识别区中可以彼此共面。例如，在本公开至少一个实施例中，第一接触面和第二接触面位于同一平面中。该平面可以为直面(表面在同一水平面内)、曲面或者其它的形状，平面的具体形状根据盖板的应用环境进行设计，本公开的实施例在此不做限制。示例性的，如图2和图3所示，在垂直于基底140的方向上，识别区101和非识别区102的厚度基本相等，接触面110的远离基底140的表面基本位于同一平面内。如此，可以保证盖板厚度的均匀性，提高用户的体验。
如图2和图3所示，盖板中可以设置基底140以对接触面110进行支撑。在本公开的实施例中，对基底140的制备材料不做限制。例如，基底的制备材料可以包括玻璃、聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯等透光性良好的材料。例如，在本公开的一些实施例中，基底140可以设置为刚性结构。例如，在本公开的一些实施例中，基底可以设置为柔性结构，以使得盖板可以用于柔性电子装置(例如柔性显示面板)中。
例如，在本公开至少一个实施例中，盖板还可以包括设置在接触面的与预定接触侧相对一侧的过渡层。图4为本公开一个实施例提供的另一种盖板的截面图。例如，如图4所示，过渡层130可以设置于基底140和接触面110之间。过渡层130可以起到连接接触面110和基底140的作用，以免接触面110的制备材料和基底140的制备材料不匹配而使得接触面110从基底140上分离；另外，过渡层130在形成有光学匹配层120的情况下，也可以起到平坦化的作用，从而更易于使得盖板具有平坦表面。
示例性的，该基底140的制备材料可以为玻璃，过渡层130的制备材料可以包括氧化硅材料，接触面110的制备材料包括掺杂卤素化合物的氧化硅。如此，过渡层130可以和基底140之间紧密连接，并且，过渡层130也可以和接触面110之间紧密接触，避免因基底140的制备材料和接触面110的制备材料的类型差异过大造成基底140和接触面110分离。
在本公开的实施例中，对过渡层的分布范围不做限制。示例性的，在接触面的面向基底的表面上，过渡层可以设置在未设置有光学匹配层的区域；或者，如图4所示，过渡层130也可以设置为覆盖接触面110的全部。
在本公开的实施例中，对盖板中的各层结构的厚度不做限制。例如图4所示的示例中，光学匹配层120的厚度可以为约10～300纳米；接触面110(例如涂层)的厚度可以约为2～20纳米。在设置有过渡层130的情况下，过渡层130的厚度可以为10～300纳米。例如，过渡层130位于识别区101和非识别区102的厚度不限于如图4所示的保持基本一致；也可以将过渡层130设计为对盖板的表面进行平坦化，即过渡层130的远离基底140的表面基本为平面。例如，在设置有光学匹配层120的区域(如图4所示的识别区101)，过渡层130的厚度可以为10～100纳米，在未设置有学匹配层120的区域(如图4所示的非识别区102)，过渡层130的厚度可以为10～300纳米。
在本公开的实施例中，对盖板的外形不做限制，可以根据盖板的实际应用进行确定。例如，盖板的外形可以为如图4所示的2d形状，也可以为2.5d形状或者3d形状。图5为本公开一个实施例提供的另一种盖板的截面图。例如，在本公开至少一个实施例中，如图5所示，盖板100的边缘弯曲，以使得盖板100的形状为3d形状。
本公开至少一个实施例提供一种电子装置，该电子装置可以包括前述任一实施例中的盖板。在本公开的实施例中，对该电子装置的类型不做限制，例如，该电子装置可以为显示面板、触控板等，进一步可以为电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪、门禁设备等任何具有识别功能的产品或部件。
例如，在本公开至少一个实施例提供的电子装置中，电子装置还可以包括显示区域或触控区域，工作区域与显示区域或触控区域重合。示例性的，该电子装置可以为显示面板，盖板设置于该显示面板的显示面上。盖板的工作区域对应于显示面板的显示区域，即盖板的工作区域与显示面板的显示区域重合。或者，示例性的，该电子装置可以为触控板，盖板设置于该触控面板上。盖板的工作区域对应于该触控板的触控区域，即盖板的工作区域与触控面板的触控区域重合。
例如，在本公开的实施例提供的电子装置中，盖板中的识别区可以包括指纹识别区。用户可以通过盖板准确定位指纹识别区以进行与身份认证相关的例如解锁等操作。
例如，在本公开的实施例中，盖板的接触面可以设置为具有抗指纹特性。示例性的，如图2中构成接触面110的涂层可以配置为抗指纹涂层。如此，可以降低用户手指上的例如汗液等在盖板上的残留量，电子装置的表面的清洁度。示例性的，涂层相对于用户手指上的液体(例如汗液、油脂等)具有疏液性。接触面110具有疏液性的实现方式可以参考如图2所示的实施例(接触面的接触性质为顺滑度的实施例)中的相关内容，本公开的实施例在此不做赘述。
电子装置中识别区的相关结构以及位置分布等与电子装置的类型个相关，本公开的实施例在此不做限制。图6为本公开一个实施例提供的一种电子装置的局部结构示意图。下面，以该电子装置为显示面板为例，对本公开实施例中的技术方案进行说明。
例如图6所示，该电子装置的局部结构对应于显示面板的部分显示区域。该显示区域包括多个子像素区域。示例性的，在显示面板的与非识别区102对应的区域中，每个子像素区域可以包括一个子像素单元201，在显示面板的与识别区101对应的区域中，每个子像素区域可以包括一个显示子像素单元202和至少一个指纹识别子像素单元203。指纹识别子像素单元203可以阵列式设置于显示面板的识别区101中，当用户的手指通过盖板定位在识别区101中，指纹识别单元203可以检测用户的指纹以实现解锁、身份验证等操作。
在本公开的实施例中，对如图6所示的指纹识别单元203的类型不做限制。示例性的，指纹识别单元可以为电容式传感器、光学传感器或者超声波传感器等。
本公开至少一个实施例提供一种盖板的制备方法，盖板包括工作区域，工作区域包括识别区和非识别区，该方法包括：形成盖板的接触面；盖板包括接触面，接触面包括第一接触面和第二接触面，第一接触面位于识别区中，第二接触面位于非识别区中，且第一接触面和第二接触面的接触性质不同。例如，非识别区位于识别区的一侧。上述方法获得的盖板可以使得用户对盖板中识别区的定位不受光线昏暗等外界环境的干扰，显著提高盖板的适用性。
例如，在本公开至少一个实施例提供的制备方法中，形成接触面包括：形成涂层，以提供接触面。通过对该涂层进行处理，可以使得接触面的第一接触面和第二接触面的接触性质不同。
例如，在本公开至少一个实施例提供的制备方法中，接触性质包括表面粗糙度，形成涂层包括：对涂层进行刻蚀处理，以使得第一接触面的表面粗糙度与第二接触面的表面粗糙度不同。不同的表面粗糙度可以给用户不同的摩擦感，可以据此定位盖板的识别区。
例如，在本公开至少一个实施例提供的制备方法中，接触性质包括顺滑度，形成该涂层的方法包括：形成接触面中的第一接触面和第二接触面，第一接触面和第二接触面的疏液性不同，从而使得第一接触面和第二接触面的顺滑度不同。不同的顺滑度使得用户在接触面上滑动时的顺畅感觉不同，可以据此定位盖板的识别区。
例如，在本公开至少一个实施例提供的制备方法中，形成第一接触面和第二接触面包括：在识别区中形成第一材料层以形成第一接触面；以及在非识别区中形成第二材料层以形成第二接触面；其中，第一接触面和第二接触面的制备材料包括卤素化合物，并且第一接触面中的卤素化合物的含量为第一含量，第二接触面中的卤素化合物的含量为第二含量，第一含量和第二含量不同以使得第一接触面和第二接触面的疏液性不同。具有疏液性的接触面可以降低外物例如汗液等的污染，提高盖板表面的清洁度，而且不同的疏液性使得用户感觉到的顺滑度不同，可以据此定位识别区。需要说明的是，上述含量可以为质量百分比含量。示例性的，第一含量为第一接触面中的卤素化合物的质量与第一接触面的总质量之比。
例如，在本公开至少一个实施例提供的制备方法中，形成光学匹配层并且在该光学匹配层上形成接触面；光学匹配层形成在识别区中或者非识别区中，光学匹配层配置为使得识别区的光学特性和非识别区的光学特性相同。例如，光学匹配层可以使得盖板各部分的透光率或反光率分布均匀。
通过上述方法获得的盖板的具体化结构可以参考前述实施例(关于盖板的实施例)中的相关内容，本公开的实施例在此不做赘述。
图7a～图7c为本公开一个实施例提供的一种盖板的制备方法的过程图。下面，以图4所示的盖板结构为例，对本公开实施例提供的盖板的制备方法进行说明。
例如图7a所示，提供基底140，然后在基底140上沉积透光材料并对其进行构图工艺以形成光学匹配层120。基底140上可以预先形成其他功能层、结构层，该功能层可以包括识别电路、显示电路等。光学匹配层120可以形成在识别区101或者非识别区102中。光学匹配层120的结构以及制备材料可以参考前述实施例(与盖板相关的实施例)中的相关说明，本公开的实施例在此不做赘述。
构图工艺可以包括干刻或者湿刻。例如构图工艺的具体过程可以包括：在需要被构图的结构层上涂覆光刻胶层，使用掩模板对光刻胶层进行曝光，对曝光的光刻胶层进行显影以得到光刻胶图案，使用光刻胶图案作为掩模对结构层进行蚀刻，然后可选地去除光刻胶图案。
需要说明的是，也可以通过涂布或者真空镀膜等其它方式在基底140上形成光学匹配层120。
例如图7b所示，在基底140上沉积透光材料以形成过渡层130。过渡层130的结构以及制备材料可以参考前述实施例(与盖板相关的实施例)中的相关说明，本公开的实施例在此不做赘述。
过渡层130可以增加接触面110(例如涂层)在基底140上附着的牢固性。相同或相似类型的材料之间容易结晶，例如，基底140为玻璃基板，过渡层130的制备材料可以包括氧化硅等材料，当接触面的制备材料中包括氧化硅、氮化硅的情况下，接触面通过过渡层120可以牢固的附着在基底140上。
过渡层130的设置可以是避免基底140的制备材料和接触面110的制备材料相差过大导致的接触面容易分离问题。如果接触面110和基底140的制备材料之间结合紧密，也可以不需要设置过渡层130。
盖板的接触面的接触性质可以包括表面粗糙度或者顺滑度等，相应地，盖板的结构和制备方法也有所不同。下面，以盖板的接触面的接触性质为顺滑度为例，对本公开实施例中的盖板的制备方法进行说明。
例如图7c所示，在非识别区102中的基底140上形成第二材料层以形成第二接触面112。第二接触面112的制备方法有多种。
例如，第二材料层可以为涂布液，在基底140上形成涂布液，烘烤干燥后对其进行构图工艺以形成第二接触面112。烘烤的时间和温度可以根据实际情况设定。示例性的，可以在约50摄氏度的温度下烘烤约1小时，并且烘烤过程中保持清洁，防止异物附着以保证质量。
本公开的实施例对该涂布液的具体成分不做限制。示例性的，该涂布液可以包括卤素化合物，该卤素化合物例如为氟改性有机聚合物等，该氟改性有机聚合物包括活性硅烷基团和氟改性有机基团等，例如全氟聚氧亚烷基的聚合物或全氟聚醚改性硅院，质量百分比可以为约1～10％。例如，该涂布液还可以包括下述材料中的一种或者组合：(1)可固化的硬涂层聚合物，其可以包含聚硅氧烷、聚倍半硅氧烷、聚胺基甲酸酯、丙烯酸系树酯、丙烯酸系共聚物、纤维素醚及纤维素酯、其他不溶于水的聚醚、聚酯、聚苯乙烯、苯乙烯-丁二烯共聚物、丙烯腈丁二烯苯乙烯共聚物、聚硫化物及其混合物等中的至少一种，例如其质量百分比可以约占20～40％；(2)添加剂，其可以包括抗氧化剂、润湿剂或其它界面活性剂、uv稳定剂、去泡剂或抗起泡剂、抗沉降剂、粘度改善剂或其类似物等中的至少一种，例如其质量百分比不超过约5％；(3)非挥发性聚合物粘合剂，例如其质量百分比约占0.02～5％；(4)溶剂，包括(例如)水、醇、酮、醚、酯、芳族化合物、烷烃及其类似物或者烷烃与其类似物的混合物等中的至少一种,例如其质量百分比约占50～90％。
例如，可以在基底140上通过真空蒸镀的方式在非识别区102的基底140上形成第二接触面112。第二接触面112中可以掺杂有卤素化合物，也可以包括硅的氧化物或者氮化物等。
如图4所示，在识别区101的基底140上形成第一材料层以形成第一接触面111。第一接触面111的制备方法可以参考如图7c所示的实施例中的相关内容，第一材料层也可以参考如图7c所示的实施例中的第二材料层，本公开的实施例在此不做赘述。
例如，在形成第一接触面111和第二接触面112的过程中，可以使得第一接触面的111中的卤素化合物的含量和第二接触面112中的卤素化合物的含量不同，以使得第一接触面111的疏液性和第二接触面112的疏液性不同。
在上述示例中，在不同步骤中形成第一接触面111和第二接触面112，但是形成二者的顺序没有限制。另外，也可以在例如基底140的整个表面上形成涂层之后，提供掩模板或者在涂层上形成掩模层(例如光刻胶图案)，利用该掩模板或者掩模层对涂层进行离子注入，由此同时形成具有不同表面接触性质(例如疏液性)的第一接触面111和第二接触面112。
需要说明的是，在本公开的实施例中，盖板的接触面的接触性质也可以为表面粗糙度。在如图7b所示的过程之后，可以通过涂布或者真空蒸镀的方式在基底141上形成接触面110。对该接触面的表面进行物理处理(如喷砂)或化学处理(如刻蚀)，使得识别区101中的第一接触面111和非识别区102中的第一接触面112的表面粗糙度不同。
对于本公开，还有以下几点需要说明：
(1)本公开实施例附图只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。
(2)为了清晰起见，在用于描述本公开的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大或缩小，即这些附图并非按照实际的比例绘制。
(3)在不冲突的情况下，本公开的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。
以上，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，本公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。