专利名称：具有微波能输送装置的微波等离子体源的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种具有根据权利要求1特征的微波等离子体源，其具有用于给保护管内部的内导体输送微波能装置的微波能输送装置。
背景技术：
按照现有技术已知各种不同类型的微波等离子体源，在此尤其感兴趣的是线状等离子体源，在线状等离子体源中，至少一个线状内导体在由绝缘材料制成的保护管中设置在真空室中，并可用于大面积基片的工业化等离子体处理。例如DE 4136297A1提供一种装置，用于借助于微波激励在处理室中局部产生等离子体，利用该装置可以有针对性地在任意位置将微波耦合至处理室中。作为同轴波型优选在内导体和所产生的等离子体之间的中间空间中执行微波传输。在空心波导体中与同轴波导定律相类似地传输微波，周围的等离子体担当外导体的功能。该装置具有由石英玻璃制成的空心波导体，该空心波导体与由金属制成的内导体同轴地且保持一定间距地延伸。该空心波导体在法兰区域内由金属壳体包围。该金属壳体充当微波的波导体，其阻止在法兰区域中已经触发等离子体。该法兰也用于将整个装置插入处理室的壁中。空心波导体通过0形环密封件相对于金属壳体密封。法兰式引导元件以真空密封方式固定在法兰的外侧上，其用于接纳空心导体，在其一个端部上连接微波发生器。该引导元件和空心导体的法兰通过夹紧环彼此夹紧。空心导体通过螺纹管件固定在法兰的这一个端部上。为了产生等离子体场，多个这种装置并排设置在一个真空室中。内导体和空心波导体可以为了更换而沿轴向从法兰中取出。DE 198 01 366 B4涉及一种装置，用于借助于交变电磁场在真空室中产生等离子体。在由绝缘材料制成的管的内部的棒形导体在真空室中延伸。绝缘管的内径大于导体的直径。绝缘管在一端部上保持在真空室的壁中并且相对于外表面密封。导体在一个端部上连接在用于生产交变电磁场的电源上。平行定向的两个这种装置能被馈送相同频率的高频，它们在时间上是彼此固定的相位关系。由此实现，在T形连接波导的两个分配路径之一中使用所谓的半波平衡-不平衡变换器。该基本原则应用于装置内部的其他T形连接波导，使得高频功率可以分配至等离子体产生系统的多个内导体。在此缺点在于，为了更换绝缘管必须拆下整个分配装置，并且必须精确制造所使用的半波平衡-不平衡变换器，以便可以获得相位相同和所定义的高频分配。DE 196 289 49 B4提供一种装置用于产生等离子体，其中，为了分配高频功率而在结实金属块内部设置多个T形连接波导。通过对称地构造T形连接波导，获得定义的高频功率分布。此处的缺点在于，为了维护绝缘管必须拆下高频分配装置。DE 198 478 48 Cl提供一种装置用于在等离子体中产生激励的/电离的粒子。该装置尤其应该在低于大约13 的压力范围中具有足够高的效率并且提供足够数量的激励的/电离的粒子。该装置具有入口用于将过程气体输送至同轴导体的外导体和内导体之间的内室，该内室形成等离子体区。DE 197 56 774 B4描述一种微波等离子体源，其具有设置在真空室中的等离子体室和至少一个进入开口，通过进入开口能定量地输送过程气体并且在进入开口中可以产生具有确定强度的适当频率的微波场。构成等离子体室的物体设置在真空室中。在真空室的壁和微波导体的外壳之间执行真空室相对于外部环境的密封，微波导体的外壳延伸穿过进入开口并且输送在真空室外部产生的微波。等离子体室在所有侧承受均勻的压力状况，并且在等离子体室以及真空室相对于大气的密封部之间保持空间间隔。微波等离子体源应该提供持续且工作可靠的真空密封。DE 10 2004 057 851 Al提供一种方法用于通过微波辐射在敷药器/反应器中加热活性介质。通过同轴天线系统传输微波能并且通过杆式天线将微波能馈送至敷药器/反应器中，其中，杆式天线比所应用的微波辐射的波长更长，并且穿过振荡器的大部分。通过非常紧凑的设置方式，较小的敷药器也可以均质地或者视系统设计而定也分级地被辐射微波能。
发明内容
因此本发明的任务在于，提供一种微波等离子体源，其具有微波能输送装置，所述装置用于将微波能输送至保护管内部的内导体，所述装置可以按照简单方式且以小的空间需求在处理室中安装和拆卸。所述微波等离子体源尤其应该适用于构造大面积的等离子体源。在此优选使用激励频率为2. 45GHz的微波能。视应用方式而定也可以使用例如 915MHz的较低的激励频率，以及比2. 45GHz明显更高的激励频率。按照相应激励频率的波导技术的要求确定所需波导的尺寸。所述装置尤其应该适用于构造大面积的等离子体源。在此优选以及与技术要求和选择的处理技术相关，应该组合多个单个的等离子体源并通过共同的微波分配系统与至少一个微波供应器连接。本发明通过权利要求1所给出的特征解决该任务。本发明的有利的进一步方案在从属权利要求中表示，并且以下结合对本发明优选实施方式的说明以及附图进一步描述。所述装置用于将微波能从微波供应器通过波导过渡接头输送至微波等离子体源的保护管内部的内导体，该保护管设置在真空室内部并且相对于大气密封。本发明的要点在于，所波导过渡接头按照波导技术在一边处于接地电位，在波导过渡接头内部有导管，所述导管大约直达微波等离子体源的保护管内部的内导体，所述微波等离子体源的内导体大约终结于真空室的壁。因此满足将导体棒从波导过渡接头的大气侧和接地端引导直至微波等离子体源的内导体的连接点处的基本前提，而不会干扰这种结构的波导功能。为了安装微波能输送装置，在真空室的真空侧上设置连接管接头，按照有利方式， 所述连接管接头为真空法兰。附属的是联接器，其可以与连接管接头连接并且居中地保持内导体和保护管。在此，联接器同时保证真空密封地封闭保护管。
作为联接器可以设有至少一个带联接环的锁紧螺母，所述锁紧螺母可以拧接在连接-管接头上，或者例如借助于卡口式接头相互相连。按照有利方式，导体棒如此构造，以使其可以插入内导体。为此可以按实施例I在导体棒上构造变细的尖端，所述尖端伸入管形内导体。在此，内导体的变细的尖端的重叠长度应该优选是激励频率波长的至少1/4。波长的1/4以下简称为λ/4。由此除了欧姆接触之外还可以在两个构件之间得到介电接触。 但所期望的纯粹的欧姆接触应该更好地通过根据现有技术的插头-插座连接方式实施。如果要达到介电的场接触(也称为电容接触)，则变细的尖端按照有利方式可以涂覆适当的介电材料。适当的材料例如是氧化铝或者二氧化硅。所施加的介电材料应当具有足够的耐电强度并且具有尽可能高的介电常数。在需要时导体棒也可以在导管内部电绝缘地引导。所述导体棒于是可以与电压源连接，并且给内导体供应叠加有微波的适当频率的交变电压。因而在实践中可以实现附加地影响等离子体。适当的频率在大约IMHz至几百MHz频率范围内。为了改善在保护管上构造的微波等离子体区域中以及微波等离子体源的内导体中的电容耦合，内导体的外径在需要电容耦合的区域中相应适配于要求。有利的是，内导体的外径的变化仅在间距大于微波频率的λ/4处才从内导体和可移动的导体棒之间的接触点过渡到新的直径。内导体在接触点处的外径和直至内导体新的外径之间的过渡区域应该尽可能按照波导技术“平缓” 地实现。在最简单情况下可以选择连续的过渡。可移动导体棒的操作可以简单地手动或者利用任意的驱动装置例如以马达、气动或者磁性方式执行。
以下借助六个实施例进一步说明本发明。属于实施例I的图1以剖面图示出本发明装置，其在一边与微波供应器连接。属于实施例II的图2示出一装置，其在两边与微波供应器连接。属于实施例III的图3示意性示出一装置，其中，两个内导体与一个微波供应器连接。属于实施例IV的图4以总体图示出一装置，其具有两个内导体。属于实施例V的图5以总体图示出一装置，其中，根据图4的两个装置并联地组合为一个总单元。属于实施例VI的图6示意性示出一装置，其中，四个内导体与一个微波供应器连接。图7示出图6的侧视图。
具体实施例方式实施例I在实施例I中示出本发明装置的基本结构。该结构也能以等效方式在其他实施例中应用。图1以剖面图示出本发明的微波能输送装置，其用于给线状微波等离子体源输送微波能。微波能从微波供应器1输送至由石英玻璃制成的介电保护管3内部的内导体2。 在此，微波能至内导体2的馈送在一边进行。该装置在真空室4的壁中作为一个整体保持在真空法兰5中，在该真空室4中可以执行等离子体过程。在大气侧，同轴外导体6法兰连接在真空法兰5上，波变换器7法兰连接在同轴外导体6上，并且波变换器自身与微波供应器1耦联。根据本发明在内导体2和同轴外导体6的纵轴线上设置导管8，导管8在波变换器 7内部居中地支承在波导过渡接头9中以及在真空法兰5内部居中地支承在绝缘片10中。 导管8和真空法兰5朝向内导体2取向的端面基本位于一平面中，该平面位于真空室4内部，并且在真空法兰5上设有外螺纹。在真空法兰5的轴向上设有锁紧螺母11，其可以用配合的内螺纹拧接在真空法兰5上。在真空法兰5和锁紧螺母11之间设有联接环12。联接环12具有平行于真空法兰5端面的内凸缘13，保护管3的端面通过绝缘片14紧贴内凸缘 13，其中，沿径向在保护管3和联接环12之间设有真空密封件15。另一真空密封件16位于真空法兰5和联接环12之间。在第一实施例中示例性地将矩形空心导体-同轴导体-变换器用作为波变换器7。 波导过渡接头9位于波变换器7内部。波导过渡接头9或者可以是锥形过渡接头或者是所谓的“门钮形”过渡接头。波导过渡接头居中地具有与导管8的外径相配合的孔。在此优选规定，波导过渡接头9和导管8之间的过渡按照波导技术低欧姆地连接。这例如可以通过对这些零件进行焊接而实现。波导过渡接头9的特性是，其按照波导技术在一边处于接地电位。在本实施例中，已知的0形环作为真空密封件15和16。因而保护管3在大气侧的空间相对于真空室4内部的真空空间被真空密封地分隔。在保护管3内部，内导体2通过绝缘片14以及另一绝缘片17保持，内导体2直达导管8端面的平面。在安装状态下，保护管3连同内导体2固定保持在联接环12中，联接环12通过锁紧螺母11与真空法兰5夹紧。内导体2和导管8可以相接触或者也可以彼此分开。导管8和内导体2之间的微波能的实际耦合通过可移动的导体棒18实现，导体棒 18在导管8内引导并且可以与内导体2接触。在本例中，导体棒18具有变细的尖端19，变细的尖端19伸入管形内导体2，直达止挡处。变细的尖端19的长度在此是所应用激励频率的波长的大约1/4。在此，仅在安装或者拆卸保护管3或者内导体2时才需要移动导体棒 18。大多数情况下手动器械足以执行移动，也可以设置任意类型的用机器驱动的驱动装置。在使用本发明等离子体产生装置的情况下使微波供应器1运转，从而将微波馈送入波变换器7，之后继续通过波导过渡接头9馈送至导管8，在导管的端部至导体棒18，最后至内导体2。按已知方式实现围绕保护管3产生等离子体。本发明的主要优点在于，为了实现安装或者更换内导体2和/或保护管3的目的， 仅需将锁紧螺母11与真空法兰5分离，进而联接环12连同内导体2和保护管3可以在相对于它们的轴线在径向方向上取下。此外在示例性实施方式中，先前必须要从内导体2和保护管3中抽出导体棒18的变细的尖端19。利用本发明装置在安装或者拆卸内导体和/ 或保护管时不需要如现有技术所需的相当大的轴向空间需求。内导体2和保护管3在真空室4内部简单地安装和拆卸。多个这种微波等离子体源(它们具有在一边的用于给内导体2输送微波能的微波能输送装置)也可以在一个共同的平面内部彼此排列，以便用彼此叠加的微波等离子体面状地覆盖期望的处理区域。在此有利之处还可以在于，这些微波等离子体源轮流地先后依次换边地法兰连接在真空室上，从而构成各微波等离子体源的梳状布局。实施例II属于实施例II的图2示意性示出微波等离子体源的透视图，该微波等离子体源包括在两边给保护管3内部的内导体2输送微波能。也就是说，内导体2的两个端部分别通过一个波变换器7与一个微波供应器1连接。在此，装置基本对应于实施例I的结构。示例性示出的是，在真空室1中在保护管3上方具有过程气体的输送部25以及带平放的基片的基片座21和真空泵管接头22。此外在实施例II中，在两边各设一个电动机式的驱动装置23，用于移动导体棒 18。只要在技术上有利，也可以应用其他驱动装置，例如气动驱动装置。在导管8内部的导体棒18通过绝缘管沈绝缘，并且在图2右侧的导体棒18连接在电压源M上。在这种情况下，各导体棒18也与电动机式的驱动装置23绝缘地连接。这里例如可以通过陶瓷棒实现。为了在已连接电压源M的情况下防止微波辐射或者说高频辐射泄出，借助于附加的壳体按照微波技术屏蔽导管8和导体棒18连同电动机式的驱动装置23的大气侧区域。这种壳体对应于现有技术，为简单起见未在图2中示出。实施例III属于实施例III的图3示意性示出基于同轴导体的微波分配装置。在此将连接在微波输送部30上的微波供应器所产生的微波能分配至两个路径，从而可以向所连接的微波等离子体源的两个并联内导体2分别供应所使用的微波能的大约一半。因而这种微波分配装置也可以被简称为二路微波分配器。按照有利方式，微波供应器与微波输送部30的连接，如在实施I的图1中那样借助于同轴外导体6在波变换器7上实现。在此，微波输送部30将作为新的同轴内导体在同轴外导体6内部延伸直至穿过波导过渡接头9。二路微波分配器主要包括结实的接地块27和真空法兰32，该接地块27由导电材料制成，该真空法兰32与圆柱形基体33真空密封地连接。在此优选将长方形法兰用作为真空法兰。借助于真空密封件34，真空法兰32与真空室4真空密封地拧接。在接地块27内部并且相对于基体33居中延伸的孔被实施为同轴外导体，并且这些孔完全穿透接地块27 和基体33。这两个同轴外导体与一个横向于它们延伸的附加的同轴外导体连接，由此在接地块27内部得到大约H形的同轴导体布局。导管观和横向件31居中插入同轴外导体中， 由此导管观和横向件31构成该同轴导体结构的各个同轴内导体。为了改善这些同轴内导体的轴向固定，例如可以应用图3未示出的其它介电的支承片。微波输送部30和横向件31 一起得到T形同轴导体布局，也简称为T形分配器。横向件31上的所示的圆柱形加厚部以及横向件31至两个导管观的过渡接头用于补偿在同轴内导体的连接点处出现的场干扰。导管8经由圆柱形波导过渡接头28从接地块27伸出，从而例如可以通过驱动装置四移动导体棒18。在此将所谓的λ/4管接头用作为波导过渡接头，其由良导电的材料制成。如果λ/4管接头的内端面和横向于导管观延伸的同轴外导体的内端面之间的间距 L恰好等于所用激励频率的λ /4，那么在横向件31和两个导管观之间得到按照波导技术的高欧姆的连接点，由此在波导过渡接头区域中的波传输仅受到轻微干扰。然而λ/4管接头在同轴外导体内部也可移动，从而这些λ/4管接头成为λ/4滑动件。由此例如可以实现微波能分配比例适配于二路微波分配器的这两个路径，或者可以整体改善二路微波分配器按照微波技术适配于等离子体源的负载条件。按照有利方式也可以规定，将一个波导过渡接头实施为λ/4管接头，将另一个波导过渡接头实施为λ/4滑动件。制造这种二路微波分配器，尤其是将H形同轴导体布局设置在接地块27内部，对制造技术方面的要求非常苛刻。因此接地块27在同轴外导体的轴线上应该由至少两个单块组合而成。进而可以相对简单地从各单块铣削出各个同轴外导体半体。H形同轴内导体布局可以预先制造并通过支承片设置于其中一个单块中。随后将这两个单块非常紧密地彼此拧接并且随后与真空法兰32连接。在这种二路微波分配器中有利的是，在此仅需要很少的维护。在安装二路微波分配器之后，例如为了维护保护管3或者导体棒18或者内导体2，不必非要拆卸二路微波分配器。这保证了装置的功能可靠性高。所提供的二路微波分配器不仅适用于在一边给两个带有附属的保护管3内导体2 输送微波能，而且也适用于在两边给两个内导体2输送微波能。在一边给两个带有附属的保护管3的内导体2输送微波能时，也可以将两个这种二路微波分配器相继排列设置在一个共同的平面中，从而构成面状的等离子体源系统，其具有四个在一边被馈送的内导体2和四个保护管3。针对等离子体过程控制，这样一种系统也会是有利的，其中，各二路微波分配器位于一个平面中，但是相继排列设置在真空室的彼此对置的壁中。尤其是如果在此带有固定的内导体2的各保护管3彼此嵌套布置，例如带有一间距大约等于一个二路微波分配器的两个内导体2的轴线之间的间距的一半，那么就可以得到非常紧凑的微波等离子体产生系统。实施例IV属于实施例IV的图4示出一装置，其用于在真空室4内部面状地产生等离子体。 在此，两个内导体2和附属的介电保护管3对应于实施例III在两边与各一个二路微波分配器连接。在这些二路微波分配器上分别设置一个同轴外导体6和一个波变换器7。在这些波变换器7上可以连接各种不同的微波供应器。与实施例I的不同之处在于，在介电保护管3两边分别设置一个具有与联接体35、36卡口式连接的卡口式接头的器具作为联接器。实施例V属于实施例V的图5示出一装置，其中，至少两个根据实施例IV的单装置彼此排列形成大面积的装置。示例示出的是，在真空室4中通过基片座37设置两倍的两个内导体 2，它们与介电保护管3共同形成微波等离子体阵列。卡口式接头仍然作为联接器。这种可应用于工业领域的装置可以非常有效地进行维护，并且可以毫不费力地更换内导体2和保护管3，而无需非要去掉二路微波分配器27和微波供应器的其他构件。实施例VI属于实施例VI的图6和图7示意性示出所谓的四路微波分配器，其中，四个内导体2可以与一个微波供应器连接。在此，图7示出图6的侧视图。在此与实施例III类似， 每两个并联的导管8通过一个横向件39彼此相耦合，并且形成具有λ/4管接头和/或λ/4 滑动件的H形同轴导体基本系统。图6示出两个这种H形同轴导体基本系统。两个单个的横向件39通过另一连接横向件38彼此相连。重要之处在于，各横向件39总是位于一个平面内，而连接横向件38位于另一平面内。每个连接横向件39在这些平面之间通过同轴外导体和包含的同轴内导体42与连接横向件38连接，并在此形成共同的T形同轴导体系统。 微波输送部41也连同连接横向件38 —起构成这样的T形同轴导体系统。各个不同的同轴导体系统位于接地块40内部。为此参见图7。因而可以构造四路微波分配器，其例如与实施例V中所述的方案(参见图幻相比能以更紧凑且费用更低廉的方式向四个单个的内导体2输送微波能。在此，通向四路微波分配器的微波输送部41也可以相对于图6错开90度。在少数情况下，需要超过四个单个的内导体与一个微波供应器连接。但如果必须如此，那么也可以按照相应方式和方法将超过两个单个的横向件39安装在其他H形同轴导体基本系统中并装入相同平面内。而所需的附加的连接横向件38设置在第二平面内。与其他微波输送部41彼此相连的附加所需的连接横向件可以安装在与连接横向件38所处的平面相同的平面内，或者在附加的其他平面内。基于可能有多个T形同轴导体系统，用于将所使用的微波能分配到多个H形同轴导体基本系统上，同样有利的是，在接地决40内部，例如可以在一边在T形同轴导体系统上使用其他λ/4管接头或者λ/4滑动件。因而可以再次修正可能影响微波分配对称性的可能的机械缺陷。例如可以将这种附加的λ/4管接头或者λ/4滑动件安装在同轴内导体42 与连接横向件38之间的两个连接点之一上。附图标记列表
1微波供应器22真空泵管接头
2内导体23驱动装置
3保护管24电压源
4真空室25横向件
5真空法兰26导管
6同轴外导体27接地块
7波导过渡接头28绝缘子
8导管29电磁驱动装置
9锥形过渡接头30卡口式接头
10绝缘片31连接横向件
11锁紧螺母32真空法兰
12联接环33基体
13内凸缘34真空密封件
14绝缘片35联接体
15真空密封部36联接体
16真空密封部37基片座
17绝缘片38连接横向件
18导体棒39连接横向件
19变细的尖端40接地块
20过程气体的输送部41微波输送部
21基片座42同轴内导体
权利要求
1.微波等离子体源，其具有微波能输送装置，所述微波能输送装置用于将微波能从微波供应器(1)经由波导过渡接头和同轴导体系统输送到保护管(3)内部的内导体O)，该保护管设置在真空室内部并且相对于大气密封，其特征在于，所述内导体(2)和保护管(3)终结且保持在真空室的真空侧的平面内；有在一边无电位地接地的波导过渡接头；在内导体O)的轴向上设置作为同轴内导体的导管(8)，所述导管沿轴向在同轴外导体 (6)内部延伸直到真空室⑷的真空侧的平面；并且在导管⑶内部设置可移动的导体棒 (18)，使得导体棒能与内导体(2)接触。
2.根据权利要求1所述的微波等离子体源，其特征在于，有锥形过渡接头作为在一边无电位地接地的波导过渡接头(9)。
3.根据权利要求1所述的微波等离子体源，其特征在于，有λ/4管接头或者λ/4滑动件作为在一边无电位地接地的波导过渡接头。
4.根据权利要求1所述的微波等离子体源，其特征在于，至少两个内导体(2)并联地设置。
5.根据权利要求1至4之一所述的微波等离子体源，其特征在于，所述内导体(2)能在一边与一个微波供应器连接，或者能在两边分别与一个微波供应器连接。
6.根据权利要求4或5所述的微波等离子体源，其特征在于，有用于将至少两个并联的内导体( 先后依次地和/或换边地与一个或者多个微波供应器连接的构件。
7.根据权利要求4所述的微波等离子体源，其特征在于，至少两个并联的内导体(2)构成一个共同的平面。
8.根据权利要求1所述的微波等离子体源，其特征在于，为了将内导体(2)和保护管 (3)保持在真空室(4)内部，设有联接器，该联接器具有至少一个带联接环(1 的锁紧螺母 (11)，所述锁紧螺母拧接在连接管接头上。
9.根据权利要求1所述的微波等离子体源，其特征在于，为了将内导体(2)和保护管 (3)保持在真空室内部，设有带卡口式接头(35、36)的器具。
10.根据权利要求1至9之一所述的微波等离子体源，其特征在于，所述导体棒(18)构造成，使得该导体棒能插入内导体O)中。
11.根据权利要求1至10之一所述的微波等离子体源，其特征在于，所述导体棒(18) 在导管(8)内部绝缘地引导。
12.根据权利要求11所述的微波等离子体源，其特征在于，所述导体棒(18)与交流电压源连接。
13.根据权利要求4至12之一所述的微波等离子体源，其特征在于，每两个并联的内导体(2)通过所属的导管(8)、波导过渡接头08)以及通过横向件(31)与居中的微波输送部 (30)连接，并且如此构成的二路微波分配器能与一个微波供应器耦合。
14.根据权利要求13所述的微波等离子体源，其特征在于，有λ/4管接头和/或λ/4 滑动件作为波导过渡接头08)。
15.根据权利要求4至14之一所述的微波等离子体源，其特征在于，两个内导体(2)在一边或者两边与二路微波分配器连接，所述二路微波分配器能与微波供应器连接。
16.根据权利要求4至15之一所述的微波等离子体源，其特征在于，至少四个内导体 (2)先后依次地设置在一个真空室中，此时，每两个先后依次设置的内导体( 构成一组，这些组分别在一边或者两边与二路微波分配器连接，所述二各微波分配器能与微波供应器连接。
17.根据权利要求4至15之一所述的微波等离子体源，其特征在于，至少两个二路微波分配器换边地设置在一个真空室中并且分别与一个微波供应器连接，使得至少四个先后依次在两组中设置的内导体O)能分别在一边被供应微波能。
18.根据权利要求4至15之一所述的微波等离子体源，其特征在于，至少两个二路微波分配器先后依次地、换边地和嵌套地设置在一个真空室上，并且能分别与一个微波供应器连接，使得至少四个内导体( 能被供应微波能，内导体( 的间距大约等于一个二路微波分配器的各导管(8)的轴线的间距的一半。
19.根据权利要求4至15之一所述的微波等离子体源，其特征在于，至少四个并联的内导体(2)通过所属的导管(8)和波导过渡接头08)设置在结实的金属块内部的一个共同的第一平面内，每两个导管(8)通过横向件(39)彼此连接，大约在各横向件(39)的中间位置设置同轴导线，所述同轴导线具有将横向件(39)与连接横向件(38)的端部相连的同轴内导体(42)，所述连接横向件位于第二平面内，因此形成四路微波分配器，所述四路微波分配器能通过微波输送部Gl)与一个微波供应器连接。
20.根据权利要求19所述的微波等离子体源，其特征在于，波导过渡接头08)采用 λ /4管接头和/或λ /4滑动件。
21.根据权利要求19所述的微波等离子体源，其特征在于，在连接横向件(38)的端部上有至少一个附加的λ/4管接头和/或λ/4滑动件。
22.根据权利要求4至21之一所述的微波等离子体源，其特征在于，至少一个由四个内导体( 组成的组在真空室的一边或者两边与四路微波分配器连接，所述四路微波分配器能与微波供应器连接。
23.根据权利要求4至21之一所述的微波等离子体源，其特征在于，至少两个由四个内导体( 组成的组先后依次地设置在一个真空室中，在此，每个组先后依次地且换边地与一个四路微波分配器连接。
24.根据权利要求4至21之一所述的微波等离子体源，其特征在于，至少两个由四个内导体( 组成的组先后依次地设置在一个真空室中，各个组彼此大约以单个组的各内导体 (2)的轴线的间距的一半间距嵌套，并且此时，每个组在一边并且先后依次换边地与一个四路微波分配器连接。
全文摘要
本发明涉及一种微波等离子体源，其具有微波能输送装置，所述微波能输送装置用于将微波能从微波供应器(1)经由波导过渡接头和同轴导体系统输送到保护管(3)内部的内导体(2)，所述保护管设置在真空室(4)内部并且相对于大气密封。所述内导体(2)和保护管(3)终结并保持在真空室(4)的真空侧的平面内；有在一边无电位地接地的波导过渡接头；在内导体(2)的轴向上设置作为同轴内导体的导管(8)，所述导管沿轴向在同轴外导体(6)内部延伸直到真空室(4)的真空侧的平面；并且在导管(8)内部设置可移动的导体棒(18)，使得导体棒能与内导体(2)接触。
文档编号H05H1/46GK102378463SQ201110294000
公开日2012年3月14日 申请日期2011年7月20日 优先权日2010年7月20日
发明者H·施勒姆, H·梅利希, J·马伊, P·沃尔夫 申请人:德国罗特·劳股份有限公司