一种用于微波等离子体化学气相沉积设备的移动样品台的制作方法

文档序号:10947121阅读:798来源:国知局
一种用于微波等离子体化学气相沉积设备的移动样品台的制作方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种用于微波等离子体化学气相沉积设备的移动样品台,属于微波等离子体化学气相沉积设备技术领域。所述移动样品台包括样品台、中心滑块、步进电机Ⅰ、基座、步进电机Ⅱ,螺杆Ⅰ、螺杆Ⅱ、滑块Ⅰ、滑块Ⅱ、滑块导轨,基座的下部实心结构,上部空心的结构,中心滑块位于基座的上部,基座上部四周均设有滑块导轨;螺杆Ⅰ的两端穿过滑块导轨,两端设有滑块Ⅰ,滑块Ⅰ位于滑块导轨上可滑动,其中一个滑块上设有步进电机Ⅰ;螺杆Ⅱ的结构与螺杆Ⅰ相同;由于螺杆Ⅰ与螺杆Ⅱ相互垂直且不在同一平面,中心滑块沿X轴、Y轴方向的移动相互独立,从而使沉积基片迅速到达与等离子球配合最佳的位置,大大提高工作效率和气相沉积效果。同时,样品台与基座接触面积小,降低样品热量的散失,可放置需高温处理的样品。
【专利说明】
一种用于微波等离子体化学气相沉积设备的移动样品台
技术领域
[0001]本实用新型涉及一种用于微波等离子体化学气相沉积设备的移动样品台,属于微波等离子体化学气相沉积设备技术领域。
【背景技术】
[0002]金刚石膜具有良好的物理和化学性能。尤其是其拥有超高的热导率和载流子迀移率、极低的热膨胀系数、高的红外透过率、宽禁带等卓越性能,在光学、微电子及航空航天等高科技领域得以广泛应用。但天然金刚石太稀少,价格昂贵,难于加工。因此,金刚石膜急需通过人工合成。
[0003]人工合成金刚石膜的方法主要有化学气相沉积和物理气相沉积法。微波等离子体化学气相沉积法因具有设备简单、金刚石膜纯度高、高的均匀性等优点而被广泛采用。然而该方法涉及易燃易爆气体及高温,需要在真空条件下进行。值得注意的是,制备过程中等离子球的大小、强度及位置会受到工艺参数(如微波功率、气体种类和浓度等)的影响,导致放电等离子体球偏离沉积基片中心,降低金刚石膜的纯度及均匀性。目前,这种偏离只能由实验者根据自己的实践经验进行微弱校正,若二者的中心偏离度较大时就只能关闭设备,根据前一次的偏离幅度估算位置重新放置沉积基片,每次设备启停均需经过抽本底真空、气体混合、逐步升高微波功率点火等系列操作过程,重复启停设备大幅降低了工作效率,增大劳动强度。

【发明内容】

[0004]针对上述现有技术存在的问题,本实用新型提供一种用于微波等离子体化学气相沉积设备的移动样品台,该样品台可沿X轴、Y轴方向独立移动,从而使沉积基片迅速到达与等离子球配合最佳的位置,大大提高工作效率。同时,样品台与基座接触面积小,降低样品热量的散失,可放置需高温处理的样品。
[0005]本实用新型所述用于微波等离子体化学气相沉积设备的移动样品台:所述移动样品台包括样品台1、中心滑块2、步进电机13、基座4、步进电机Π 5,螺杆16、螺杆Π 7、滑块18、滑块Π 9、滑块导轨10,基座4的下部实心结构,上部空心的结构,中心滑块2位于基座4的上部,基座4上部四周均设有滑块导轨10;螺杆16的两端穿过滑块导轨10,两端设有滑块18,滑块18位于滑块导轨10上可滑动,其中一个滑块上设有步进电机13;螺杆Π 7两端穿过滑块导轨10,两端设有滑块Π9,滑块Π9位于滑块导轨10上可滑动,其中一个滑块上设有步进电机Π5;螺杆16与螺杆Π 7相互垂直且不在同一平面;中心滑块2顶部与样品台I固定连接,底部与基座4相接触,螺杆16、螺杆Π 7穿过中心滑块,与中心滑块之间通过螺纹连接。
[0006]本实用新型通过螺杆的转动实现中心滑块2多方向的移动。
[0007]本实用新型中心滑块2、螺杆16、螺杆Π7的材料为氧化锆,进一步降低样品台的热散失,提高热效率。
[0008]所述螺杆16与螺杆Π 7采用正交设计且不在同一平面,基座四边均有独立滑块8、9,实现了中心滑块2沿X轴和Y轴的独立移动。
[0009]所述中心滑块2的最小移动步进取决于螺杆16与螺杆Π 7的螺距,所述螺距为I?5mm,可根据实际要求进行调整。
[0010]所述中心滑块2顶部与样品台I固定连接,底部与基座4相接触,可保证移动过程中样品台的稳定性。
[0011]所述样品台I与基座4通过中心滑块连接,接触面积小,热量传递量少,步进电机使用寿命长。
[0012]本实用新型的有益效果是:
[0013](I)该样品台的最小移动步进受螺距影响,可根据实际需要设计螺距,适应性强;
[0014](2)该样品台与基座接触面积小,中心滑块与螺杆采用氧化锆等绝热材料,提高样品的热效率和步进电机的使用寿命;
[0015](3)该样品台设计结构简单,功能实用,有效解决了人工经验放置基片不到位的问题,提高工作效率,降低劳动量及成本。
【附图说明】
[0016]图1是本实用新型一种【具体实施方式】的装备分解立体示意图;
[0017]图2是本实用新型一种【具体实施方式】的立体示意图;
[0018]图3是本实用新型一种【具体实施方式】的去样品台俯视图;
[0019]图4是本实用新型一种【具体实施方式】的右视图。
[0020 ] 图中:1-样品台,2-中心滑块,3-步进电机I,4-基座,5-步进电机Π,6-螺杆I,7-螺杆Π,8-滑块I,9-滑块Π,10-滑块导轨I,11-滑块导轨Π。
【具体实施方式】
[0021]为了更好地解释本实用新型,下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步详细的说明。
[0022]实施例1
[0023]本实施例所述用于微波等离子体化学气相沉积设备的移动样品台:所述移动样品台包括样品台1、中心滑块2、步进电机13、基座4、步进电机Π 5,螺杆16、螺杆Π 7、滑块18、滑块Π 9、滑块导轨10,基座4的下部实心结构,上部空心的结构,中心滑块2位于基座4的上部,基座4上部四周均设有滑块导轨10;螺杆16的两端穿过滑块导轨10,两端设有滑块18,滑块I8位于滑块导轨10上可滑动,其中一个滑块上设有步进电机13;螺杆Π 7两端穿过滑块导轨10,两端设有滑块Π9,滑块Π9位于滑块导轨10上可滑动,其中一个滑块上设有步进电机Π5;螺杆16与螺杆Π7相互垂直且不在同一平面;中心滑块2顶部与样品台I固定连接,底部与基座4相接触,螺杆16、螺杆Π 7穿过中心滑块,与中心滑块之间通过螺纹连接,如图1?4所不O
[0024]本实施例通过螺杆的转动实现中心滑块2多方向的移动。
[0025]本实施例所述中心滑块2的最小移动步进取决于螺杆16与螺杆Π7的螺距,所述螺距为3mm。
[0026]本实施例所述中心滑块2、螺杆16、螺杆Π7的材料为氧化锆,进一步降低样品台的热散失,提高热效率。
[0027]以上所述仅是对本实用新型的较佳实施例,并非对本实用新型作任何形式上的限制,在不脱离权利要求所限定的精神和范围的情况下,可做出许多修改、变化或修饰,均属于本实用新型技术方案的范围内。
【主权项】
1.一种用于微波等离子体化学气相沉积设备的移动样品台,其特征在于:所述移动样品台包括样品台(I)、中心滑块(2)、步进电机I (3)、基座(4)、步进电机Π (5),螺杆I (6)、螺杆Π (7 )、滑块I (8 )、滑块Π (9 )、滑块导轨(1 ),基座(4 )的下部实心结构,上部空心的结构,中心滑块(2)位于基座(4)的上部,基座(4)上部四周均设有滑块导轨(10);螺杆1(6)的两端穿过滑块导轨(10),两端设有滑块1(8),滑块1(8)位于滑块导轨(10)上可滑动,其中一个滑块上设有步进电机1(3);螺杆Π (7)两端穿过滑块导轨(10),两端设有滑块Π (9),滑块Π(9)位于滑块导轨(10)上可滑动,其中一个滑块上设有步进电机Π (5);螺杆1(6)与螺杆Π(7)相互垂直且不在同一平面;中心滑块(2)顶部与样品台(I)固定连接,底部与与基座(4)相接触,螺杆I (6)、螺杆Π (7)穿过中心滑块,与中心滑块之间通过螺纹连接。2.根据权利要求1所述用于微波等离子体化学气相沉积设备的移动样品台,其特征在于:所述中心滑块(2)的最小移动步进取决于螺杆1(6)与螺杆Π (7)的螺距。3.根据权利要求2所述用于微波等离子体化学气相沉积设备的移动样品台,其特征在于:所述螺距为I?5mm。4.根据权利要求1所述用于微波等离子体化学气相沉积设备的移动样品台,其特征在于:中心滑块(2)、螺杆I (6)、螺杆Π (7)的材料为氧化锆。
【文档编号】C23C16/458GK205635767SQ201620349914
【公开日】2016年10月12日
【申请日】2016年4月25日
【发明人】彭金辉, 江彩义, 郭胜惠, 杨黎, 张利波, 王梁
【申请人】昆明理工大学
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