转印型感光性折射率调整膜的制作方法

本发明涉及转印型感光性折射率调整膜。

背景技术：

在个人电脑或电视等大型电子设备、汽车导航系统、手机、电子字典等小型电子设备、OA设备、FA设备等显示设备等中使用液晶显示元件或触摸面板(触摸传感器)。这些液晶显示元件或触摸面板中设有由透明电极材料形成的电极。作为透明电极材料，ITO(Indium-Tin-Oxide，氧化铟锡)、氧化铟或氧化锡由于显示高的可见光透射率而成为主流。

触摸面板已经有各种方式被实用化。投影型静电电容方式的触摸面板由于能够进行指尖的多点检测，因此具备能够进行复杂指示这一良好的操作性。因而，在手机或便携式音乐播放器等具有小型显示装置的设备中，逐渐作为显示面上的输入装置被加以利用。

一般来说，在投影型静电电容方式的触摸面板中，为了表现由X轴和Y轴形成的二维坐标，多个X电极和正交于该X电极的多个Y电极形成了2层结构图案。作为这些电极，近年来探讨了利用以Ag纳米丝、碳纳米管等为代表的导电性纤维，但ITO仍为主流。

然而，在触摸面板的边框区域中，为了传递触摸位置的检测信号而需要金属配线。从导电性的观点出发，一般来说金属配线由铜形成。

触摸面板在被指尖接触时，有时水分或盐分等腐蚀成分会从传感区域侵入到内部。当腐蚀成分侵入到触摸面板的内部时，有上述金属配线发生腐蚀、电极与驱动用电路之间的电阻增加或者断线的危险。

为了防止金属配线的腐蚀，本发明人们提出了在透明基材上设置由特定的感光性树脂组合物形成的感光层、对该感光层进行曝光、显影、从而保护透明基材上的金属配线的方法(例如参照专利文献1)。

然而，如上所述，在投影型静电电容方式的触摸面板中，在基材上利用透明电极材料形成的多个X电极与正交于该X电极的多个Y电极形成了2层结构的透明电极图案，但存在下述问题：形成有透明电极图案的部分与未形成透明电极图案的部分因光学反射导致色差增大，在进行模块化时，透明导电图案会映入到画面上，即所谓的“图案可见现象”。另外还存在下述问题：在基材与透明电极之间、或者在用于将进行模块化时所使用的盖玻璃和透明电极图案粘接的可视性提高膜(OCA：Optical Clear Adhesive，光学透明胶)与透明电极图案之间，反射光强度增加而使得画面的透射率降低。

上述专利文献1所记载的方法在保护金属配线的方面是有效的，但在抑制图案可见现象或抑制画面的透射率降低的方面仍有改善的余地。

另外，作为防止透明电极图案可见的手法，公开了相邻地具有调整至特定折射率范围的低折射率的第一固化性透明树脂层及高折射率的第二固化性透明树脂层的转印膜(参照专利文献2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2013/084873号小册子

专利文献2：国际公开第2014/084112号小册子

技术实现要素：

但是，利用专利文献2的手法形成规定的固化膜时，显影性并不充分，从形成兼顾抑制画面的透射率降低和保护传感器金属配线的固化膜的观点来说仍有改善的余地。另外，专利文献2中，作为具体的转印膜的构成，公开了由暂时支撑体/热塑性树脂层/中间层/第一固化性透明树脂层/第二固化性透明树脂层/保护膜所形成的6层膜，但从多层膜的生产率的观点出发仍有改善的余地。

进而，在专利文献2的手法中是将作为金属氧化物超微粒子的氧化锆分散液与粘合剂树脂混合并进行涂布，从而表现出高折射率(实施例、权利要求9等)。但是存在专利文献2所记载的下述问题：在使用株式会社Solar制氧化锆分散液(ZR-010)时，显影性不足，在金属配线部上作为残渣残留IM层，该残渣成为电路间连接故障的原因。

本发明的目的在于提供能够简便地形成兼顾透明电极图案的图案可见现象抑制或画面的透射率降低抑制与传感器金属配线的保护的功能、且显影性优异的固化膜的转印型感光性折射率调整膜。

为了解决上述课题，本发明人们进行了深入研究，结果发现，利用由感光性树脂层和高折射率层构成的转印型感光性折射率调整膜，通过在透明导电图案上以薄膜形成IM层，可抑制色差增大，可以兼顾抑制图案可见现象及抑制画面的透射率降低所带来的触摸画面的可视性提高与金属配线的腐蚀抑制。另外还发现，通过在高折射率层中使用特定的材料，可以提高显影性，从而完成了本发明。

以下示出本发明的具体方式。

1.一种转印型感光性折射率调整膜，其具备：支撑膜；设置在该支撑膜上的感光性树脂层；以及设置在该感光性树脂层上且含有氧化锆及氧化锡的高折射率层。

2.一种转印型感光性折射率调整膜，其具备：支撑膜；设置在该支撑膜上的感光性树脂层；以及设置在该感光性树脂层上且含有氧化锆及二氧化硅的高折射率层。

3.根据1或2所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层含有氧化锆、氧化锡及二氧化硅。

4.根据1～3中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层的波长633nm下的折射率为1.5～1.9。

5.根据1～4中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述高折射率层的膜厚为50nm～500nm。

6.根据1～5中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物和光聚合引发剂。

7.根据6所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述光聚合引发剂含有肟酯化合物。

8.根据6或7所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述粘合剂聚合物是具有羧基的聚合物。

9.根据6～8中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述粘合剂聚合物为含有来自于选自(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸苄酯、苯乙烯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯及(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯中的化合物的结构单元的聚合物。

10.根据1～9中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层含有含光聚合性不饱和键的磷酸酯。

11.根据1～10中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层与所述高折射率层的层叠体在波长400～700nm下的可见光透射率的最小值为90％以上。

12.根据1～11中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，其中，所述感光性树脂层与所述高折射率层的总厚度为30μm以下。

13.一种折射率调整图案的形成方法，其具备以下工序：使用1～12中任一项所述的转印型感光性折射率调整膜，按照所述高折射率层密合在基材上的方式在基材上层压所述高折射率层及所述感光性树脂层的工序；和对所述基材上的所述高折射率层及所述感光性树脂层的规定部分进行曝光后，将除所述规定部分以外的部分除去，形成折射率调整图案的工序。

14.一种层叠体，其在具有电极图案的基材上具有含氧化锆及氧化锡的高折射率层和感光性树脂层。

15.一种层叠体，其在具有电极图案的基材上具有含氧化锆及二氧化硅的高折射率层和感光性树脂层。

16.一种电子部件，其在具有电极图案的基材上具有由含氧化锆及氧化锡的高折射率层形成的图案和由感光性树脂层的固化膜形成的图案。

17.一种电子部件，其在具有电极图案的基材上具有由含氧化锆及二氧化硅的高折射率层形成的图案和由感光性树脂层的固化膜形成的图案。

根据本发明，可以提供能够简便地形成兼顾透明电极图案的图案可见现象抑制或画面的透射率降低抑制与传感器金属配线的保护的功能、且显影性优异的固化膜的转印型感光性折射率调整膜。

附图说明

图1为表示本发明的转印型感光性折射率调整膜的示意截面图。

图2为表示在带透明导电图案的基材中使用了本发明的转印型感光性折射率调整膜的一个实施方式的示意截面图。

图3为表示本发明一个实施方式的电子部件的示意俯视图。

具体实施方式

以下对用于实施本发明的方式详细地进行说明。但是，本发明并非限定于以下的实施方式。此外，本说明书中“(甲基)丙烯酸”是指丙烯酸或甲基丙烯酸，“(甲基)丙烯酸酯”是指丙烯酸酯或与其相对应的甲基丙烯酸酯。“(聚)氧乙烯链”是指氧乙烯基或聚氧乙烯基、“(聚)氧丙烯链”是指氧丙烯基或聚氧丙烯基。“A或B”包含A和B中的任一者即可，也可以两者均包含。

另外，本说明书中“工序”这一用语不仅包括独立的工序，即便是无法与其它工序明确地区分时、只要该工序的所期待作用得以达成则也包含在本用语中。另外，使用“～”表示的数值范围表示将记载于“～”前后的数值分别作为最小值及最大值并包含在内的范围。

进而，本说明书中，组合物中的各成分的含量在组合物中存在多个相当于各成分的物质时，只要无特别限定，则是指组合物中存在的该多个物质的总量。另外，示例材料只要无特别限定，则可以单独使用，也可以组合使用2种以上。

(转印型感光性折射率调整膜)

本发明是具备支撑膜、设置在该支撑膜上的感光性树脂层、以及设置在该感光性树脂层上的高折射率层的转印型感光性折射率调整膜。

图1为表示本发明的转印型感光性折射率调整膜的一个实施方式的示意截面图。图1所示的转印型感光性折射率调整膜1具备支撑膜10、设置在上述支撑膜上的感光性树脂层20、以及设置在上述感光性树脂层上的高折射率层30。此外，转印型感光性折射率调整膜还可以如图1所示含有设置在感光性树脂层20的与支撑膜10成相反侧上的保护膜40。

图2为表示在带透明导电图案的基材中使用了本发明的转印型感光性折射率调整膜的一个实施方式的示意截面图。图2中，在带ITO等透明电极图案50a的基材50上，按照将图案50a覆盖的方式设置高折射率层30，在其上设置感光性树脂层20，构成层叠体100。

通过使用上述转印型感光性折射率调整膜，可以一次性地形成满足例如位于触摸面板边框的金属配线或透明电极的保护功能和透明电极图案的可视化抑制或触摸画面的可视性提高的两个功能的固化膜。

作为支撑膜10，可以使用聚合物膜。作为聚合物膜，可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯、聚醚砜、环烯烃聚合物等。

支撑膜10的厚度从覆盖性的确保、抑制介由支撑膜10照射活性光线时的分辨率降低的观点出发，优选为5～100μm、更优选为10～70μm、进一步优选为15～40μm、特别优选为15～35μm。

(感光性树脂层)

感光性树脂层20优选由含有粘合剂聚合物(以下也称作(A)成分)、光聚合性化合物(以下也称作(B)成分)和光聚合引发剂(以下也称作(C)成分)的感光性树脂组合物形成。

作为(A)成分，从可以通过碱显影进行图案形成的观点出发，优选使用具有羧基的聚合物。

(A)成分优选是含有来自于(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元的共聚物。上述共聚物在结构单元中还可以含有能够与上述(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸烷基酯共聚的其它单体。具体地说，可举出(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸苄酯、苯乙烯、(甲基)丙烯酸二环戊基酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯基氧基乙酯等。另外，(A)成分还可以具有自由基聚合性双键。

作为上述(甲基)丙烯酸烷基酯，可举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸羟基乙酯等。

其中，从碱显影性、特别是对无机碱水溶液的碱显影性、或图案形成性、透明性的观点出发，优选由选自(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸苄酯、苯乙烯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯中的化合物的结构单元所形成的粘合剂聚合物。

(A)成分的重均分子量从分辨率的观点出发，优选为10,000～200,000、更优选为15,000～150,000、进一步优选为30,000～150,000、特别优选为30,000～100,000、极优选为40,000～100,000。此外，重均分子量可以以本申请说明书的实施例为参考、利用凝胶渗透色谱法进行测定。

(A)成分的酸值从通过碱显影容易地形成具有所需形状的保护膜的观点出发，优选为75mgKOH/g以上。另外，从谋求兼顾保护膜形状的控制容易性和保护膜的防锈性的观点出发，优选为75～200mgKOH/g、更优选为75～150mgKOH/g、进一步优选为75～120mgKOH/g。此外，酸值可以以本申请说明书的实施例为参考进行测定。

(A)成分的羟值从进一步提高防锈性的观点出发，优选为50mgKOH/g以下、更优选为45mgKOH/g以下。此外，羟值可以以本申请说明书的实施例为参考进行测定。

(B)成分可以使用具有烯键式不饱和基的光聚合性化合物。作为具有烯键式不饱和基的光聚合性化合物，可举出单官能乙烯基单体、二官能乙烯基单体、或具有至少3个能够聚合的烯键式不饱和基的多官能乙烯基单体。

(B)成分中使用的化合物有时会与上述(A)成分重复，但为除(A)成分以外的(不同于(A)成分)成分。

作为上述单官能乙烯基单体，例如可举出作为上述(A)成分的优选例的共聚物的合成中使用的单体所示例的单体。

作为上述二官能乙烯基单体，可举出聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、2,2-双(4-(甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基聚丙氧基苯基)丙烷、双酚A二缩水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯等。

作为上述具有至少3个能够聚合的烯键式不饱和基的多官能乙烯基单体，可以没有特别限定地使用以往公知的物质。从金属配线或透明电极的腐蚀抑制及显影性的观点出发，优选使用三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等具有来自于三羟甲基丙烷的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物；四羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯等具有来自于四羟甲基甲烷的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物；季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等具有来自于季戊四醇的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物；二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等具有来自于二季戊四醇的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物；二(三羟甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯等具有来自于二(三羟甲基丙烷)的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物；或具有来自于二甘油的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物。

更具体地说，优选含有具有来自于季戊四醇的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物、具有来自于二季戊四醇的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物、具有来自于三羟甲基丙烷的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物或具有来自于二(三羟甲基丙烷)的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物，更优选含有具有来自于二季戊四醇的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物、具有来自于三羟甲基丙烷的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物或具有来自于二(三羟甲基丙烷)的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物，进一步优选含有具有来自于二(三羟甲基丙烷)的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物。

这里，关于“具有来自于～的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物”，以具有来自于二(三羟甲基丙烷)的骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物为例进行说明。具有来自于二(三羟甲基丙烷)的骨架的(甲基)丙烯酸酯是指二(三羟甲基丙烷)与(甲基)丙烯酸的酯化物，该酯化物中还包括利用烯化氧基进行了改性的化合物。上述酯化物优选一分子中的酯键数为最大数的4，但酯键的数为1～3的化合物也可混在。

将分子内具有至少3个能够聚合的烯键式不饱和基的单体与单官能乙烯基单体或二官能乙烯基单体组合使用时，使用比例并无特别限定，从光固化性及电极腐蚀抑制的观点出发，分子内具有至少3个能够聚合的烯键式不饱和基的单体的比例相对于感光性树脂组合物所含的光聚合性化合物的总量100质量份、优选为30质量份以上、更优选为50质量份以上、进一步优选为75质量份以上。

(A)成分及(B)成分的含量相对于(A)成分及(B)成分的总量100质量份，(A)成分优选为35～85质量份、更优选为40～80质量份、进一步优选为50～70质量份、特别优选为55～65质量份。特别是从图案形成性或维持固化膜的透明性的方面来说，相对于(A)成分及(B)成分的总量100质量份，(A)成分优选为35质量份以上、更优选为40质量份以上、进一步优选为50质量份以上、特别优选为55质量份以上。

作为(C)成分，只要是透明性高的光聚合引发剂，则可以没有特别限定地使用以往公知者，但从在基材上形成虽然为厚度10μm以下的薄膜但仍具有充分分辨率的树脂固化膜图案的方面来说，优选含有肟酯化合物。

作为肟酯化合物，优选为下述式(1)所示的化合物、下述式(2)所示的化合物或下述式(3)所示的化合物。

【化学式编号1】

式(1)中，R₁₁及R₁₂分别表示碳数为1～12的烷基、碳数为4～10的环烷基、苯基或甲苯基。优选碳数为1～8的烷基、碳数为4～6的环烷基、苯基或甲苯基，更优选碳数为1～4的烷基、碳数为4～6的环烷基、苯基或甲苯基，进一步优选为甲基、环戊基、苯基或甲苯基。R₁₃表示-H、-OH、-COOH、-O(CH₂)OH、-O(CH₂)₂OH、-COO(CH₂)OH或-COO(CH₂)₂OH。优选为-H、-O(CH₂)OH、-O(CH₂)₂OH、-COO(CH₂)OH、或-COO(CH₂)₂OH，更优选为-H、-O(CH₂)₂OH、或-COO(CH₂)₂OH。

【化学式编号1】

式(2)中，R₁₄分别表示碳数为1～6的烷基，优选为丙基。R₁₅表示NO₂或ArCO(这里，Ar表示取代或未取代的芳基)，作为Ar优选甲苯基。作为具有取代基时的取代基，可举出碳数为1～6的烷基。

R₁₆及R₁₇分别表示碳数为1～12的烷基、苯基或甲苯基，优选为甲基、苯基或甲苯基。

【化学式编号2】

式(3)中，R₁₈表示碳数为1～6的烷基，优选为乙基。

R₁₉为具有缩醛键的有机基，优选为对应于后述式(3-1)所示化合物所具有的R₁₉的取代基。

R₂₀及R₂₁分别表示碳数为1～12的烷基、苯基或甲苯基，优选为甲基、苯基或甲苯基，更优选为甲基。

R₂₂表示碳数为1～6的烷基。n表示0～4的整数。

作为上述式(1)所示的化合物，例如可举出下述式(1-1)所示的化合物及下述式(1-2)所示的化合物。下述式(1-1)所示的化合物可作为IRGACURE OXE-01(BASF株式会社制、产品名)获得。

【化学式编号4】

作为上述式(2)所示的化合物，例如可举出下述式(2-1)所示的化合物。下述式(2-1)所示的化合物可作为DFI-091(Daitochemix株式会社制、产品名)获得。

【化学式编号5】

作为上述式(3)所示的化合物，例如可举出下述式(3-1)所示的化合物。下述式(3-1)所示的化合物可作为ADEKA Optomer N-1919(株式会社ADEKA制、产品名)获得。

【化学式编号6】

作为其它的肟酯化合物，优选使用下述式(4)所示的化合物、下述式(5)所示的化合物。

【化学式编号7】

(C)成分的含量从光感度及分辨率优异的方面出发，相对于(A)成分及(B)成分的总量100质量份，优选为0.1～10质量份、更优选为1～5质量份、进一步优选为1～3质量份、特别优选为1～2质量份。

本实施方式的感光性树脂组合物从进一步提高保护膜的防锈性的观点出发，优选进一步含有具有巯基的三唑化合物、具有巯基的四唑化合物、具有巯基的噻二唑化合物、具有氨基的三唑化合物或具有氨基的四唑化合物(以下也称作(D)成分)。

作为具有巯基的三唑化合物，例如可举出3-巯基-三唑(和光纯药株式会社制、产品名：3MT)。另外，作为具有巯基的噻二唑化合物，例如可举出2-氨基-5-巯基-1,3,4-噻二唑(和光纯药株式会社制、产品名：ATT)。

作为上述具有氨基的三唑化合物，可举出苯并三唑、1H-苯并三唑-1-乙腈、苯并三唑-5-羧酸、1H-苯并三唑-1-甲醇、羧基苯并三唑等中用氨基取代了的化合物，3-巯基三唑、5-巯基三唑等含巯基的三唑化合物中用氨基取代了的化合物等。

作为上述具有氨基的四唑化合物，可举出5-氨基-1H-四唑、1-甲基-5-氨基-四唑、1-甲基-5-巯基-1H-四唑、1-羧甲基-5-氨基-四唑等。这些四唑化合物还可以是其水溶性盐。作为具体例，可举出1-甲基-5-氨基-四唑的钠、钾、锂等碱金属盐等。

含有(D)成分时，其含量相对于(A)成分及(B)成分的总量100质量份，优选为0.05～5.0质量份、更优选为0.1～2.0质量份、进一步优选为0.2～1.0质量份、特别优选为0.3～0.8质量份。

本实施方式的感光性树脂组合物从对ITO电极的密合性和防止显影残留发生的观点出发，优选含有含光聚合性不饱和键的磷酸酯(以下也称作(E)成分)。

作为(E)成分的含光聚合性不饱和键的磷酸酯，从充分确保所形成的保护膜的防锈性、同时以高水准兼顾对ITO电极的密合性和显影性的观点出发，优选Uni-chemical株式会社制的Phosmer系列(Phosmer-M、Phosmer-CL、Phosmer-PE、Phosmer-MH、Phosmer-PP等)、或日本化药株式会社制的KAYAMER系列(PM21、PM-2等)。

感光性树脂层在633nm下的折射率通常为1.40～1.49。

感光性树脂层的厚度优选为1～30μm左右。

(高折射率层)

高折射率层的“高”是指折射率比上述感光性树脂层高。

上述高折射率层在633nm下的折射率优选为1.50～1.90、更优选为1.53～1.85、进一步优选为1.55～1.75。通过高折射率层在633nm下的折射率为1.50～1.90，制成图2所示的层叠体时，成为ITO等透明电极图案50a与感光性树脂层20上使用的各种构件(例如用于将进行模块化时所使用的盖玻璃与透明电极图案粘接的OCA)的折射率的中间值，可以减小形成了ITO等透明电极图案的部分与未形成透明电极图案的部分因光学反射所产生的色差，可以抑制图案可见现象。另外，能够降低画面整体的反射光强度，能够抑制画面上的透射率降低。此外，折射率可以以本申请说明书的实施例为参考进行测定。

ITO等透明电极的折射率优选为1.80～2.10、更优选为1.85～2.05、进一步优选为1.90～2.00。另外，OCA等构件的折射率优选为1.45～1.55、更优选为1.47～1.53、进一步优选为1.48～1.51。

上述高折射率层的膜厚优选为50～500nm、更优选为60～300nm、进一步优选为70～250nm、特别优选为80～200nm。通过膜厚为50～500nm，可以进一步降低上述的画面整体的反射光强度。

高折射率层含有氧化锆及氧化锡或者含有氧化锆及二氧化硅。通过含有这些成分，在制备转印型感光性折射率调整膜时，能够提高高折射率层的透明性及波长633nm下的折射率。另外，可以抑制对基材无意地吸附等问题，提高显影性。

高折射率层还可以含有氧化锆、氧化锡及二氧化硅。

作为氧化锆，从抑制透明导电图案的可视化的观点出发，优选为氧化锆纳米粒子(胶体粒子等)。另外，在氧化锆纳米粒子中，优选粒度分布Dmax为40nm以下。

氧化锆纳米粒子可作为OZ-S30K(日产化学工业株式会社制、产品名)、OZ-S30M(日产化学工业株式会社制、产品名)、OZ-S40K-AC(日产化学工业株式会社制、产品名)、SZR-K(氧化锆甲乙酮分散液、堺化学工业株式会社制、产品名)、SZR-M(氧化锆甲醇分散液、堺化学工业株式会社制、产品名)购买得到。

作为氧化锡，从抑制透明导电图案的可视化的观点出发，优选为氧化锡纳米粒子(胶体粒子等)。另外，粒度分布Dmax优选为40nm以下。

氧化锡纳米粒子可作为OZ-S30K(日产化学工业株式会社制、产品名)、OZ-S30M(日产化学工业株式会社制、产品名)购买得到。

作为二氧化硅，优选无定形二氧化硅。另外，从抑制透明导电图案的可视化的观点出发，优选为二氧化硅纳米粒子(胶体粒子等)。另外，粒度分布Dmax优选为40nm以下。

二氧化硅纳米粒子可作为OZ-S30K(日产化学工业株式会社制、产品名)购买得到。

进而，高折射率层中还可并用氧化钇。由此，在制备转印型感光性折射率调整膜时，能够进一步提高高折射率层的透明性及折射率。另外，从抑制透明导电图案的可视化的观点出发，优选为氧化钇纳米粒子(胶体粒子等)。另外，粒度分布Dmax优选为40nm以下。

氧化钇纳米粒子可作为SZR-K(境化学工业株式会社制、产品名)、及SZR-M(境化学工业株式会社制、产品名)购买得到。

此外，可以使用STEM-EDX检测锆元素、氧元素、锡元素并进行绘图，来鉴定含有氧化锆或氧化锡。二氧化硅、氧化钇也同样。

粒度分布Dmax利用动态光散射法或透射型电子显微镜进行测定。

上述成分(氧化锆、氧化锡、二氧化硅、氧化钇：以下有时称作(F)成分)的含量相对于高折射率层所含成分的整体100质量份，优选为20～95质量份、更优选为50～95质量份、进一步优选为70～95质量份。

为该范围时，易于将高折射率层在633nm下的折射率调整至1.5～1.9的范围，因此优选。

高折射率层除了(F)成分之外，还可根据需要含有上述(A)～(E)成分。

高折射率层可以实质上仅由(F)成分及任意的(A)～(E)成分构成，也可以仅由(F)成分及任意的(A)～(E)成分构成。

“实质上”是指构成层的成分的95质量％以上且100质量％以下(优选为98质量％以上且100质量％以下)为上述成分。

高折射率层可以是不含具有三嗪环的化合物的组成。另外，高折射率层还可以是不含具有异氰脲酸骨架的化合物的组成。

高折射率层可以由含有上述成分的组合物(高折射率层组合物)形成。

高折射率层组合物相对于高折射率层组合物100质量份、优选含有20～95质量份、更优选含有50～95质量份、进一步优选含有70～95质量份的上述(F)成分。

此外，上述的“高折射率层组合物”是指不含溶剂的状态的组合物，各成分的含有比例为相对于除溶剂以外的成分总量的含有比例。

如上所述，可以构成高折射率层组合物的成分的95质量％以上且100质量％以下(优选98质量％以上且100质量％以下)为上述成分，即是(F)成分及任意的(A)～(E)成分。

在转印型感光性折射率调整膜中，感光性树脂层与高折射率层的层叠体在400～700nm下的可见光透射率的最小值优选为90.00％以上、更优选为90.50％以上、进一步优选为90.70％以上。作为一般的可见光波长区域的400～700nm下的透射率若为90.00％以上，则在对触摸面板(触摸传感器)的传感区域的透明电极进行保护时，可以充分地抑制传感区域内的图像显示品质、色调、亮度降低。可见光透射率的最大值通常为100％以下。此外，可见光透射率可以以本申请说明书的实施例为参考进行测定。

转印型感光性折射率调整膜的感光性树脂层20、高折射率层30例如可如下形成：分别制备含有感光性树脂组合物、高折射率层组合物的涂布液，将其分别涂布在支撑膜10、保护膜40上并进行干燥、贴合，从而形成。或者，还可以如下形成：在支撑膜10上涂布含有感光性树脂组合物的涂布液并进行干燥，之后在感光性树脂层20上涂布含有高折射率层组合物的涂布液并进行干燥，粘贴保护膜40，从而形成。

涂布液可如下获得：将构成上述本实施方式的感光性树脂组合物、高折射率层组合物的各成分均匀地溶解或分散在溶剂中，从而获得。

制成涂布液所使用的溶剂并无特别限定，可以使用公知品。具体地说，可举出丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、甲苯、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、甲二醇、乙二醇、丙二醇、乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇乙基甲基醚、二乙二醇二乙基醚、丙二醇单甲基醚、乙二醇单丁基醚乙酸酯、二乙二醇单乙基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、氯仿、二氯甲烷等。

作为涂布方法，可举出刮刀涂布法、迈耶棒涂布法、辊涂法、丝网涂布法、旋涂法、喷墨涂布法、喷涂法、浸涂法、凹版涂布法、帘式淋涂法、模涂法等。

干燥条件并未特别限定，干燥温度优选为60～130℃、干燥时间优选为0.5～30分钟。

感光性树脂层和高折射率层的合计(以下也称作感光性折射率调整层)的厚度从层压时的追随性提高的观点出发，优选为30μm以下、更优选为20μm以下、进一步优选为10μm以下。进而，从防锈性的观点出发，当考虑因基材的突起物导致针孔产生的可能性时，优选为1μm以上、更优选为2μm以上、进一步优选为2μm以上。为3μm以上时，可以尽量地抑制因基材的突起物造成的影响、保证防锈性。

感光性折射率调整层的粘度在将转印型感光性折射率调整膜以卷状进行保管时，从抑制树脂组合物从转印型感光性折射率调整膜的端面渗出的观点及抑制截断转印型感光性折射率调整膜时树脂组合物的碎片附着在基材上的观点出发，30℃下优选为15～100mPa·s、更优选为20～90mPa·s、进一步优选为25～80mPa·s。

作为保护膜40，可举出聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯-乙酸乙烯酯共聚物与聚乙烯的层叠膜等。

保护膜40的厚度优选为5～100μm，从卷成卷状进行保管的观点出发，优选为70μm以下、更优选为60μm以下、进一步优选为50μm以下、特别优选为40μm以下。

接着，对形成使用了转印型感光性折射率调整膜的固化膜的方法进行说明。

首先，将转印型感光性折射率调整膜1的保护膜40除去后，自高折射率层30将转印型感光性折射率调整膜压接在基材50(带透明导电图案的基材)的表面上，从而进行层压(转印)。作为压接手段，可举出压接辊。压接辊还可以按照能够进行加热压接的方式具备加热手段。

加热压接时的加热温度从高折射率层30与基材50的密合性以及感光性树脂层或高折射率层的构成成分难以被热固化或热分解的观点出发，优选为10～160℃、更优选为20～150℃、进一步优选为30～150℃。

另外，加热压接时的压接压力从在充分确保高折射率层30与基材50的密合性的同时抑制基材50的变形的观点出发，优选以线压计为50～1×10⁵N/m、更优选为2.5×10²～5×10⁴N/m、进一步优选为5×10²～4×10⁴N/m。

如上所述对转印型感光性折射率调整膜进行加热压接时，并不一定需要基材的预热处理，但从进一步提高高折射率层30与基材50的密合性的方面出发，也可以对基材50进行预热处理。此时的处理温度优选为30～150℃。

作为基材，例如可举出触摸面板(触摸传感器)中使用的玻璃板、塑料板、陶瓷板等基材。该基材上设有成为要形成固化膜的对象的电极。作为电极，可举出ITO、Cu、Al、Mo等电极。另外，还可以在基材上、在基材与电极之间设置有绝缘层。

接着，介由光掩模将活性光线以图案状照射至转印后的感光性折射率调整层的规定部分。照射活性光线时，在感光性折射率调整层上的支撑膜10为透明时，可以直接照射活性光线，在为不透明时，将其除去后照射活性光线。作为活性光线的光源，可以使用公知的活性光源。

活性光线的照射量为1×10²～1×10⁴J/m²，照射时还可以伴有加热。该活性光线的照射量若为1×10²J/m²以上，则可以充分地使光固化进行，为1×10⁴J/m²以下时，有能够抑制感光性折射率调整层变色的倾向。

接着，利用显影液将活性光线照射后的感光性树脂层及高折射率层的未曝光部除去，形成将透明电极的一部分或全部覆盖的折射率调整图案。此外，在活性光线的照射后，在感光性折射率调整层上层叠有支撑膜10时将其除去后再进行显影工序。此外，折射率调整图案可以是沿着电极图案的图案，还可以是除去了基材的边缘部之后的形状的图案。例如，就后者而言，在基材为大致四边形形状时，成为大致四边形形状的图案。

显影工序可以通过使用碱水溶液、水系显影液、有机溶剂等公知的显影液，利用喷雾、淋浴、摇动浸渍、刷洗、刮削等公知的方法进行。其中，从环境、安全性的观点出发，优选使用碱水溶液进行喷雾显影，此外，显影温度或时间可以在以往公知的范围内进行调整。

本实施方式的电子部件具备使用转印型感光性折射率调整膜所形成的折射率调整图案。作为电子部件，可举出触摸面板、液晶显示器、有机场致发光、太阳能电池模块、印刷配线板、电子纸等。

图3为表示静电电容式触摸面板之一例的示意俯视图。图3所示的触摸面板在透明基材101的单面上具有用于检测触摸位置坐标的触摸画面102、在基材101上设有用于检测该区域的静电电容变化的透明电极103及透明电极104。

透明电极103及透明电极104分别对触摸位置的X位置坐标及Y位置坐标进行检测。

在透明基材101上设有用于将触摸位置的检测信号从透明电极103及透明电极104传递至外部电路的引出配线105。另外，引出配线105与透明电极103及透明电极104通过设置于透明电极103及透明电极104上的连接电极106而连接。另外，在引出配线105的与透明电极103及透明电极104的连接部处于相反侧的端部上设有与外部电路连接的连接端子107。

如图3所示，通过形成折射率调整图案123，同时发挥透明电极103、透明电极104、引出配线105、连接电极106及连接端子107的保护膜的功能、以及由透明电极图案形成的传感区域(触摸画面102)的折射率调整功能。

实施例

以下举出实施例对本发明更为具体地说明。但本发明并不受以下实施例所限定。

实施例1～6、比较例1～7

[粘合剂聚合物溶液(A1)的制作]

在具备搅拌器、回流冷却器、不活泼性气体导入口及温度计的烧瓶中投入表1所示的(1)，在氮气环境气体下升温至80℃，一边将反应温度保持在80℃±2℃，一边用4小时的时间均匀地滴加表1所示的(2)。(2)的滴下后，在80℃±2℃下持续搅拌6小时，获得重均分子量为65,000、酸值为78mgKOH/g、羟值为2mgKOH/g的粘合剂聚合物的溶液(固体成分为45质量％)(A1)。

表1

[重均分子量的测定方法]

重均分子量(Mw)通过凝胶渗透色谱法(GPC)进行测定，使用标准聚苯乙烯的标准曲线进行换算，从而导出。以下示出GPC的条件。

<GPC条件>

泵：L-6000(株式会社日立制作所制、产品名)

色谱柱：Gelpack GL-R420、Gelpack GL-R430、Gelpack GL-R440(以上为日立化成株式会社制、产品名)

洗脱液：四氢呋喃

测定温度：40℃

流量：2.05mL/分钟

检测器：L-3300(RI检测器、株式会社日立制作所制、产品名)

[酸值的测定方法]

在130℃下加热粘合剂聚合物的溶液1小时，将挥发成分除去，获得固体成分。进而，精确称量上述固体成分的聚合物1g之后，在该聚合物中添加丙酮30g，均匀地将其溶解。接着，将作为指示剂的酚酞适当添加至该溶液中，使用0.1N的KOH水溶液进行滴定。进而，利用下式算出酸值。

酸值＝0.1×Vf×56.1/(Wp×I/100)

式中，Vf表示KOH水溶液的滴定量(mL)、Wp表示所测定的树脂溶液的质量(g)、I表示所测定的树脂溶液中的不挥发成分的比例(质量％)。

[羟值的测定方法]

在130℃下加热粘合剂聚合物的溶液1小时，将挥发成分除去，获得固体成分。进而，精确称量上述固体成分的聚合物1g之后，将聚合物投入到三角烧瓶中，添加10质量％的醋酸酐吡啶溶液10mL，将其均匀地溶解，在100℃下加热1小时。加热后，添加水10mL和吡啶10mL，在100℃下加热10分钟之后，使用自动滴定机(平沼产业株式会社制、产品名：COM-1700)，利用0.5mol/L的氢氧化钾的乙醇溶液进行中和滴定。进而，利用下式算出羟值。

羟值＝(A-B)×f×28.05/试样(g)+酸值

式中，A表示空白试验中使用的0.5mol/L氢氧化钾乙醇溶液的量(mL)、B表示滴定中使用了的0.5mol/L氢氧化钾乙醇溶液的量(mL)、f表示因子。

[形成感光性树脂层的涂布液的制作]

利用搅拌器将表2所示的各成分混合15分钟，制备用于形成感光性树脂层的涂布液(组合物)A。

表2中，各成分的配合量的单位为质量份。

表2

表2中的成分的符号表示以下含义。

·(A)成分

(A1)：单体配合比(甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯＝12/58/30(质量比))的共聚物的丙二醇单甲基醚/甲苯溶液、重均分子量为65,000、酸值为78mgKOH/g、羟值为2mgKOH/g、Tg为60℃

·(B)成分

T-1420(T)：二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯(日本化药株式会社制、产品名)

·(C)成分

IRGACURE OXE 01：1,2-辛二酮,1-[(4-苯基硫代)苯基-,2-(O-苯甲酰基肟)](BASF株式会社制、产品名)

·(D)成分

HAT：5-氨基-1H-四唑(东洋纺织株式会社制、产品名)

·(E)成分

PM-21：含光聚合性不饱和键的磷酸酯(日本化药株式会社制、产品名)

·其它成分

Antage W-500(AW-500)：2,2’-亚甲基-双(4-乙基-6-叔丁基苯酚)(川口化学株式会社制、产品名)

SH-30：八甲基环四硅氧烷(Dow Corning Toray株式会社制、产品名)

甲乙酮：东燃化学株式会社制

[形成高折射率层的涂布液的制作]

利用搅拌器将后述表3、4的“高折射率层”所示的成分混合15分钟，制备用于形成高折射率层的涂布液。各成分的配合量的单位为质量份。

表3、4中的成分的符号表示以下含义。

·(B)成分

BPE1300：乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯(新中村化学社制、产品名)

·(F)成分

OZ-S30K：氧化锆分散液(日产化学工业株式会社制、产品名：NANOUSE OZ-S30K、含氧化锡胶体粒子及二氧化硅胶体粒子)

OZ-S30M：氧化锆分散液(日产化学工业株式会社制、产品名：NANOUSE OZ-S30M、含氧化锡胶体粒子)

ZR-010：氧化锆分散液(株式会社Solar制、产品名：NANO5 ZR-010)

ZR-020：氧化锆分散液(株式会社Solar制、产品名：NANO5 ZR-020)

ZRPMA20WT％-E05：氧化锆分散液(CIK Nanotec株式会社制、产品名：ZRPMA20WT％-E05)

ZRPMIBK20WT％-P02：氧化锆分散液(CIK Nanotec株式会社制、产品名：ZRPMIBK20WT％-P02)

ZRPGM20WT％-F57：氧化锆分散液(CIK Nanotec株式会社制、产品名：ZRPGM20WT％-F57)

SZR-M：氧化锆分散液(境化学工业株式会社制、产品名：SZR-M)

SZR-K：氧化锆分散液(境化学工业株式会社制、产品名：SZR-K)

·其它成分

B6030：5-氨基-1H四唑(千代田Chemical株式会社制、产品名)

L-7001：八甲基环四硅氧烷(Dow Corning Toray株式会社制、产品名)

[折射率的测定]

利用旋涂机将用于形成高折射率层的涂布液均匀地涂布在厚度为0.7mm的玻璃基材上，利用100℃的热风滞留式干燥机干燥3分钟，将溶剂除去，形成高折射率层。

接着，使用平行光线曝光机(株式会社Orc制作所制、EXM1201)以曝光量5×10²J/m²(365nm下的测定值)对上述获得的高折射率层照射紫外线之后，在加热至140℃的箱型干燥机(三菱电机株式会社制、型号：NV50-CA)内静置30分钟，获得具有高折射率层的折射率测定用试样。

接着，使用ETA-TCM(AudioDevGmbH株式会社制、产品名)对所得折射率测定用试样测定633nm下的折射率。

此外，在转印型感光性折射率调整膜的形态下，由于难以测定高折射率层单层的折射率，因此设为高折射率层的支撑膜一侧的最表面层的值。

将各高折射率层的折射率示于表5、6中。

[转印型感光性折射率调整膜的制作]

作为保护膜使用厚度为30μm的聚丙烯膜(Oji F-Tex株式会社制、产品名：E-201F)，使用模涂机将上述制作的用于形成高折射率层的涂布液均匀地涂布在保护膜上，利用100℃的热风滞留式干燥机干燥3分钟，将溶剂除去，形成高折射率层。

作为支撑膜使用厚度为16μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(Toray株式会社制、产品名：FB40)，利用逗号涂布机将上述制作的形成感光性树脂层的涂布液均匀地涂布在支撑膜上，利用100℃的热风对流式干燥机干燥3分钟，将溶剂除去，形成感光性树脂层。

[高折射率层和感光性树脂层的膜厚测定]

通过利用F20(FILMETRICS株式会社制、产品名)测定上述制作的高折射率层，测定高折射率层的膜厚。另外，利用数字测厚仪(Nikon株式会社制、产品名：DIGIMICROSTAND MS-5C)对上述制作的感光性树脂层进行测定，从而测定感光性树脂层的膜厚。将高折射率层和感光性树脂层的膜厚示于表5、6中。

接着，通过表3、4所示的组合，使用层压机(日立化成株式会社制、产品名HLM-3000型)、在23℃下将具有高折射率层的保护膜与具有感光性树脂层的支撑膜贴合，制作转印型感光性折射率调整膜。

表3

表4

对所制作的转印型感光性折射率调整膜进行以下的评价。将结果示于表5、6。

[固化膜的透射率、雾度的测定]

一边剥离上述制作的转印型感光性折射率调整膜的保护膜，一边使用层压机(日立化成株式会社制、产品名：HLM-3000型)、在轧辊温度为120℃、基材输送速度为1m/分钟、压接压力(气缸压力)为4×10⁵Pa(由于使用厚度为1mm、纵10cm×横10cm的基材，因此此时的线压为9.8×10³N/m)的条件下，按照高折射率层与厚度为0.7mm的玻璃基材接触的方式层压在该厚度为0.7mm的玻璃基材上，制作在玻璃基材上层叠有高折射率层、感光性树脂层及支撑膜的层叠体。

接着，使用平行光线曝光机(株式会社Orc制作所制、EXM1201)从感光性树脂层侧上方以曝光量为5×10²J/m²(波长365nm下的测定值)对所得层叠体照射紫外线之后，将支撑膜除去，在加热至140℃的箱型干燥机(三菱电机株式会社制、型号：NV50-CA)内静置30分钟，获得透射率测定用试样。

接着，使用雾度计(日本电色工业株式会社制、产品名：NDH 7000)在测定波长区域400～700nm下对所得透射率测定用试样测定可见光线透射率、雾度。

[固化膜的盐水喷雾试验(人工汗液耐受性评价试验)]

一边剥离所得的转印型感光性折射率调整膜的保护膜，一边使用层压机(日立化成株式会社制、产品名：HLM-3000型)、在轧辊温度为120℃、基材输送速度为1m/分钟、压接压力(气缸压力)为4×10⁵Pa(由于使用厚度为1mm、纵10cm×横10cm的基材，因此此时的线压为9.8×10³N/m)的条件下，按照高折射率层与带溅射铜的聚酰亚胺膜接触的方式层压在该带溅射铜的聚酰亚胺膜(Toray Film加工株式会社制)上，制作在溅射铜上层叠有高折射率层、感光性树脂层及支撑膜的层叠体。

接着，使用平行光线曝光机(株式会社Orc制作所制、EXM1201)从感光性树脂层侧上方以曝光量为5×10²J/m²(波长365nm下的测定值)对所得层叠体的感光性树脂层照射紫外线之后，将支撑膜除去，进而，从感光性树脂层侧上方以曝光量为1×10⁴J/m²(波长365nm下的测定值)照射紫外线，在加热至140℃的箱型干燥机(三菱电机株式会社制、型号：NV50-CA)内静置30分钟。由此，获得人工汗液耐受性评价用试样。

接着，参照JIS标准(Z 2371)，使用盐水喷雾试验机(Sugatest株式会社制、产品名：STP-90V2)，在试验槽内载置上述试样，在试验槽温度为35℃、喷雾量为1.5mL/h下喷雾浓度为50g/L的盐水(pH＝6.7)48小时。喷雾结束后，擦去盐水，观察评价用试样的表面状态，按照以下评分进行评价。

A：保护膜表面完全没有变化。

B：保护膜表面可见些许痕迹，但铜无变化。

C：保护膜表面可见痕迹，但铜无变化。

D：保护膜表面有痕迹、且铜变色。

[显影残渣试验]

一边将所得的转印型感光性折射率调整膜的保护膜剥离，一边使用层压机(日立化成株式会社制、产品名：HLM-3000型)、在轧辊温度为120℃、基材输送速度为1m/分钟、压接压力(气缸压力)为4×10⁵Pa(由于使用厚度为125μm、纵10cm×横10cm的基板，因此此时的线压为9.8×10³N/m)的条件下，按照高折射率层与带易粘接层的PET膜接触的方式层压在该带易粘接层的PET膜(产品名：A4300，125μm厚、东洋纺株式会社制)上，制作在A4300上层叠有高折射率层、感光性树脂层及支撑膜的层叠体。

制作上述获得的层叠体之后，在温度为23℃、湿度为60％的条件下保管30分钟后，将层叠在感光性树脂层上的支撑膜除去，使用1.0质量％碳酸钠水溶液，在30℃下喷雾显影40秒钟，将高折射率层、感光性树脂层除去。利用显微镜观察所得基材表面状态，按照以下评分评价显影残渣。

A：基材表面完全未变化。

B：显影残渣稍有产生。

C：产生显影残渣。

观察实施例的评价用试样的表面状态时，结果是基材表面完全无变化，评价为A。

[色相(反射R)的测定]

一边将所得的转印型感光性折射率调整膜的保护膜剥离，一边使用层压机(日立化成株式会社制、产品名：HLM-3000型)、在轧辊温度为120℃、基材输送速度为1m/分钟、压接压力(气缸压力)为4×10⁵Pa(由于使用厚度为1mm、纵10cm×横10cm的基材，因此此时的线压为9.8×10³N/m)的条件下，按照高折射率层与透明导电性膜接触的方式层压在该透明导电性膜(东洋纺株式会社制、产品名：300R)上，制作在透明导电性膜上层叠有高折射率层、感光性树脂层及支撑膜的层叠体。

接着，使用平行光线曝光机(株式会社Orc制作所制、EXM1201)，从感光性树脂层侧上方以曝光量为5×10²J/m²(波长365nm下的测定值)对所得层叠体照射紫外线之后，将支撑膜除去，获得具有固化膜的色相(反射R)测定用试样。

接着，使用分光测色计(Konicaminolta株式会社制、产品名CM-5)，按照光源为感光性树脂层一侧的方式，以光源设定为D65、视野角为2°、测定直径为30mmφ、SCI(正反射光投入)方式对所得色相(反射R)测定用试样测定XYZ表色系中的b*(反射b*)及Y值(将其作为反射率R)，使用下述式实施标准化。

反射率R标准化＝反射率实测值/仅层叠了感光性树脂层的测定试样的反射率实测值×100

表5

表6

如表5、6所示可知，本发明的转印型感光性折射率调整膜的显影性优异。另外，盐水喷雾试验、可见光线透射率、雾度、反射R标准化也获得了良好的结果。