一种新型聚乙烯保护膜的制作方法

文档序号:12763831阅读:439来源:国知局

本实用新型涉及电子光学器件保护膜技术领域,具体涉及一种新型聚乙烯保护膜。



背景技术:

聚乙烯(PE)保护膜是为了保护商品而开发的一种新型表面保护、包装材料,将它贴在各类金属、铝塑板、彩色塑料板材、彩色涂层钢材、石材、玻璃、仪器仪表、高层家具和地毯等材料的表面,使其在制造、运输、二次加工(冲压、弯曲、拉伸、成型)、贮存和使用过程中其表面得到保护,避免受到污染和划伤,减缓表面氧化等,在完成运输、贮存、加工以及组装等处理之后,再揭去保护膜。PE保护膜的应用,不仅可以改善产品的外观质量,方便材料的加工,而且也可以提高材料的利用率、降低产品的生产成本。

目前,实际应用中的聚乙烯保护膜都存在一定的缺陷,例如,由于保护膜贴附于电子元件上会发生位置偏移,进而导致不能防尘以及无法避免其它污染物影响产品,以及现有技术中的聚乙烯保护膜不具备缓冲作用等;此外,保护膜黏贴于器件表面时,会在保护膜与器件之间产生气泡,由于保护膜的整体性和密封性导致气泡不容易排除,从而降低了保护膜的使用寿命和保护效果的下降。为此,需要设计一种新的聚乙烯保护结构,能够综合性地克服上述现有技术中聚乙烯保护膜存在的不足。



技术实现要素:

本实用新型正是针对现有技术存在的不足,提供一种新型聚乙烯保护膜,在满足使用方便的前提下,具有定位和缓冲作用,进而提高了对产品的保护效果,且能够自动排除保护膜与元件接触面间产生的气泡,从而延长了保护膜的使用寿命和提高了保护膜的使用效果,为元电子器件提供了更好的保障作用,具有较好的使用性能,满足实际使用要求。

为解决上述问题,本实用新型所采取的技术方案如下:

一种新型聚乙烯保护膜,包括:聚乙烯基膜,所述聚乙烯基膜的上端面通过共挤复合方式设置有外膜层,所述聚乙烯基膜的下端面通过共挤复合方式设置有内膜层;

所述外膜层包括位于上方的耐磨层和位于下方的压敏胶层,且所述压敏胶层与所述聚乙烯基膜之间通过共挤复合方式设置有发泡柱;

在所述内膜层中部的水平方向上设置有透析层,以及垂直所述透析层且与所述透析层相连通设置的透气孔,所述透气孔底端加工成凹弧形。

作为上述技术方案的改进,所述内膜层的上端和下端通过共挤复合方式分别设置有导光层和吸光层。

作为上述技术方案的改进,所述透析层为机械针刺孔,所述透气孔的深度设置有4-6μm,所述凹弧形的弧度设置为90°-120°。

作为上述技术方案的改进,所述耐磨层为低密度聚乙烯和高密度聚乙烯共挤形成的表面层,所述压敏胶层为热熔弹性体压敏胶。

有益效果

本实用新型所述的一种新型聚乙烯保护膜,在满足使用方便的前提下,具有定位和缓冲作用,进而提高了对产品的保护效果,且能够自动排除保护膜与元件接触面间产生的气泡,从而延长了保护膜的使用寿命和提高了保护膜的使用效果,为元电子器件提供了更好的保障作用,具有较好的使用性能,满足实际使用要求。

附图说明

图1为本实用新型所述的一种新型聚乙烯保护膜结构示意图。

具体实施方式

下面结合具体实施例,进一步阐述本实用新型。应理解,这些实施例仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围。此外应理解,在阅读了本实用新型讲授的内容之后,本领域技术人员可以对本实用新型作各种改动或修改,这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。

如图1所示,本实用新型所述一种新型聚乙烯保护膜,包括:聚乙烯基膜10,聚乙烯基膜10的上端面通过共挤复合方式设置有外膜层20,聚乙烯基膜10的下端面通过共挤复合方式设置有内膜层30;

外膜层20包括位于上方的耐磨层21和位于下方的压敏胶层22,且压敏胶层22与聚乙烯基膜10之间通过共挤复合方式设置有发泡柱23;

在内膜层30中部的水平方向上设置有透析层31,以及垂直透析层31且与透析层31相连通设置的透气孔32,透气孔32底端加工成凹弧形33。

进一步改进地,展开如图1所示,内膜层30的上端和下端通过共挤复合方式分别设置有导光层40和吸光层50。

具体地,透析层31为机械针刺孔,透气孔32的深度设置有4-6μm,凹弧形33的弧度设置为90°-120°。

更具体地,耐磨层21为低密度聚乙烯和高密度聚乙烯共挤形成的表面层,压敏胶层22为热熔弹性体压敏胶。

设计原理:本实用新型通过压敏胶层22(热熔弹性体压敏胶)具有缓冲作用,进而提高了对产品的保护效果,且透析层31与透气孔32相连通的设置能够自动排除保护膜与元件接触面间产生的气泡(其中,导光层40和吸光层50的设置能够加快气泡的流动性,快速消除气泡),从而延长了保护膜的使用寿命和提高了保护膜的使用效果,为元电子器件提供了更好的保障作用,具有较好的使用性能,满足实际使用要求。

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