一种原色膜的制作方法

文档序号:11242719阅读:1162来源:国知局
一种原色膜的制造方法与工艺

技术领域
:本发明涉及光学膜领域,具体涉及原色膜,可用于汽车或建筑贴膜。
背景技术
::窗膜又叫太阳膜,按其用途分为建筑膜和汽车膜。窗膜是一种功能性薄膜,它贴在玻璃表面上用于改善玻璃的性能和强度,使其具有保温、隔热、节能、防爆、防紫外线、美化外观、安全防护等功能,主要用于汽车玻璃和建筑物门窗、隔断、顶棚等。太阳辐射按波长分为紫外、可见和红外三个区域。其中紫外光的能量占整个太阳辐射能的2%。uv紫外线又分为三个区域:uvc(200-290nm),uvb(290-320nm),uva(320-400nm),其中最严重的是uvb段紫外线。在阴雨天三个波段全部消失被吸收掉,对人体的伤害不大,但是当天气晴朗时,紫外线辐射对人体的伤害非常严重,会引起色斑,皮肤癌等一系列疾病。因而无论是建筑窗膜还是汽车窗膜都需要具有防紫外线的功能。技术实现要素::本发明的目的提供一种原色膜,能阻隔紫外线、能阻隔太阳能热量并能调整不同的颜色。为实现上述目的,本发明的技术方案为:一种原色膜,包括表面处理层c、芯层b和表层a,所述芯层b添加紫外吸收母粒和色母粒;或着在表层a添加紫外吸收母粒,芯层b添加色母粒。进一步地,所述紫外吸收母粒选自无机物或有机物中的一种或多种;或者将所述无机物与所述有机物复配得到紫外吸收母粒,所述无机物选自的氧化锌、氧化钛和氧化铈;所述有机物选自苯并三氮唑类、取代丙烯腈类和三嗪类。进一步地,所述原色膜的总厚度为20-75μm。进一步地,所述紫外吸收母粒的添加量为0.1-50wt%。进一步地,表层a的厚度占原色膜总厚度的10-30%。进一步地,色母粒选自溶剂红135,溶剂绿3,溶剂蓝104,溶剂黄163四种有机染料中的一种或多种。有益效果:本发明设计的原色膜在满足透过率要求的前提下能灵活调节薄膜的颜色,能够直接通过原膜阻隔紫外线。附图说明:下面结合结构示意图及实施例对本发明进一步说明。图1示出了本发明的一种实施方式的原色膜。图2示出了本发明的另一种实施方式的原色膜具体实施方式:为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。紫外吸收母粒的制备方法:按一定的配方比例将紫外吸收助剂和树脂配比完成后,置于高速混合机中进行高速或低速混合,待混合完成后取出混合料置于双螺杆挤出机中进行挤出造粒。配方如下表所示:色母粒的制备方法:按一定的配方比例将染料和树脂配比完成后,置于高速混合机中进行高速或低速混合,待混合完成后取出混合料置于双螺杆挤出机中进行挤出造粒。配方如下表所示:原料色母粒s1色母粒s2色母粒s3溶剂红1353.2%2.8%3%溶剂绿34.5%3.6%3.5%溶剂蓝1041.5%1%1.2%溶剂黄1630.8%2.6%2.3%图1所示的原色膜包含表面处理层c,表层a和芯层b,所述表面处理层c是在耐uv窗膜原色膜的过程中在线涂覆或电晕处理膜面,所述原色膜的总厚度为23μm,表层a的厚度为3.8μm,芯层b的厚度为19μm。所述原色膜的具体制备方法为:将紫外吸收母粒,特定的色母粒与空白切片按照一定的比例混合均匀后加入到主挤出机中,将加入一定量开口剂的空白切片送入辅挤出机中熔融,经计量泵、熔体管、粗过滤器、精过滤器、分配器、共挤模头挤出,形成a/b/a三层结构聚酯厚片,然后再经纵向拉伸工艺,在线涂覆或电晕处理工艺,横向拉伸工艺,收卷工艺,分切工艺制得最终产品一。图2原色膜包含表面处理层c,表层a和芯层b,所述原色膜的总厚度为50μm;表层a的厚度为10μm,芯层b的厚度为38.8μm。所述表面处理层c是在耐uv窗膜原色膜的过程中在线涂覆或电晕处理膜面。具体制备方法为:将功能母粒与空白切片按照一定的比例混合均匀后加入到辅挤出机中,将按照特定比例混合好的含色母粒的空白切片送入主挤出机中熔融,经计量泵、熔体管、粗过滤器、精过滤器、分配器、共挤模头挤出,形成a/b/a三层结构聚酯厚片,然后再经纵向拉伸工艺,在线、涂覆或电晕处理工艺,横向拉伸工艺,收卷工艺,分切工艺制得最终产品二。对膜面进行在线涂覆或电晕处理,使得生产工艺简单,条件易于控制性能优异,易于批量大规模生产。表1实施例及比较例配方及各项物性测试数据表注:23μm和38μm样品(实施例1-4)为产品一;50μm和75μm(实施例5-8)为产品二。由上述实施例原色膜在满足透过率要求的前提下能灵活调节薄膜的颜色,能够直接通过原膜阻隔紫外线。以上所述仅为发明的较佳实施例,并不限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。企图据以对本发明作任何形式上之限制,是以,凡有在相同之发明精神下所作有关本发明之任何修饰或变更,皆仍应包括在本发明意图保护之范畴。当前第1页12
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