调节装载密度辐照箱的制作方法

文档序号:66833阅读:327来源:国知局
专利名称:调节装载密度辐照箱的制作方法
调节装载密度辐照箱技术领域
[0001]本实用新型涉及一种辐照箱,尤其是一种调节装载密度辐照箱。
技术背景[0002]目前辐照作业中,为了提高射线的利用率,通常在辐照装置的设备中,都将辐 照箱的尺寸设计得很大。这样做虽然提高了射线利用率,但与此同时带来了吸收剂量不 均勻度增大的问题,尤其在辐照高密度产品时,伽马射线穿透物质的深度,主要取决于 物质的堆积密度,所以在辐照高堆积密度的产品中,射线的穿透距离受到了限制,吸收 剂量不均勻度就会增大。另外,由于高密度产品受到设备的最大承重范围的限制,产品 不能装满整个辐照箱,使辐照箱内部出现空置的无货空间,部分射线没有接触到产品, 而是直接穿过了辐照箱,造成了射线的浪费,同时也会对辐照场内其他的产品产生影 响。
实用新型内容
[0003]本实用新型的目的是提供了一种能够降低辐照产品不均勻度和提高射线利用率 的调节装载密度辐照箱。[0004]本实用新型的调节装载密度辐照箱包括箱体、位于箱体内部的密度调节套体, 所述密度调节套体位于所述箱体内部至少一个内表面上。[0005]所述密度调节套体位于所述箱体的箱底。[0006]所述密度调节套体位于辐照射线入射方向上所述箱体的两侧壁。[0007]所述密度调节套体位于箱体的箱底和辐照射线入射方向上箱体的两侧壁。[0008]所述密度调节套体占满整个所述箱体的内表面。[0009]位于所述辐照箱箱底的密度调节套体的高度为IOcm 20cm。[0010]位于所述辐照箱两个侧壁的密度调节套体的厚度为5cm 10cm。


[0011]图1为辐照箱辐照时射线吸收分布图;[0012]图2为本实用新型调节装载密度辐照箱的实施例1示意图;[0013]图3为本实用新型调节装载密度辐照箱的实施例2示意图;[0014]图4为本实用新型调节装载密度辐照箱的实施例3示意图。
具体实施方式
[0015]实施例一[0016]如图2所示,本实用新型的调节装载密度辐照箱包括箱体1、位于箱体1内部的 密度调节套体2,所述密度调节套体2位于所述箱体1的箱底,并占满整个箱体1的箱 底。密度调节套体1的高度在IOcm 20cm之间,材料为挤塑聚苯乙烯泡沫塑料。[0017]如图1所示,通过监测和计算,辐照箱底层是低剂量率区,这主要是由于排源 方式和箱底的大量钢铁结构对剂量的吸收产生了影响。而辐照箱的箱底是辐照产品堆积 密度最大的地方,在辐照箱箱底加密度调节套体,将辐照产品垫避开了辐照箱的低剂量 吸收区,从而降低了整个辐照箱内吸收剂量的不均勻度。[0018]实施例二[0019]如图3所示,本实用新型的调节装载密度辐照箱包括箱体1、位于箱体1内部的 密度调节套体3,所述密度调节套体3位于辐照射线入射方向上箱体1的两侧壁,并占满 整个箱体1的两侧壁。密度调节套体3的厚度在5cm IOcm之间,材料为挤塑聚苯乙 烯泡沫塑料。[0020]在辐照箱的侧壁加密度调节套体,减小了辐照箱在射线入射方向上的厚度,从 而降低了对射线的阻挡作用,使得射线的穿透效果更好。两侧密度调节套体的材料采用 聚苯乙烯泡沫塑料不会对射线有阻挡作用。[0021]实施例三[0022]如图4所示,本实用新型的调节装载密度辐照箱包括箱体1、位于箱体1内部的 密度调节套体4,所述密度调节套体4位于所述箱体1的箱底和辐照射线入射方向上箱体 1的两侧壁,并占满整个箱体1的箱底和两侧壁。密度调节套体4的材料为挤塑聚苯乙烯 泡沫塑料。[0023]密度调节套体4的具体尺寸可根据现有的加工状况和加工要求而定。本技术特 征也同样适用上述两个实施例。[0024]本实施例同时具备了上述两个实施例的优点,使得箱内剂量不均勻度显著降 低。[0025]下面针对上述三个实施例和常规辐照箱进行辐照实验,采用长104cm、宽 61cm、高150cm的辐照箱和箱体,位于箱底的密度调节套体高15cm,位于两侧壁的密度 调节套体厚7cm。Dmax表示产品最大的吸收剂量,Dmte表示产品最低吸收剂量,单位 为kGy。U表示吸收剂量的不均勻度,即为最大吸收剂量与最低吸收剂量的比值。结果 如表1所示。[0026]表 1
权利要求
1.一种调节装载密度辐照箱,包括箱体,其特征在于还包括位于所述箱体内至少 一个内表面上的密度调节套体。
2.根据权利要求
1所述的调节装载密度辐照箱,其特征在于所述密度调节套体位 于所述箱体的箱底。
3.根据权利要求
1所述的调节装载密度辐照箱,其特征在于所述密度调节套体位 于辐照射线入射方向上所述箱体的两侧壁。
4.根据权利要求
1所述的调节装载密度辐照箱,其特征在于所述密度调节套体位 于箱体的箱底和辐照射线入射方向上箱体的两侧壁。
5.根据权利要求
1 4任一所述的调节装载密度辐照箱,其特征在于所述密度调节 套体占满整个所述箱体的内表面。
6.根据权利要求
2或4任一所述的调节装载密度辐照箱,其特征在于位于所述辐照 箱箱底的密度调节套体的高度为IOcm 20cm。
7.根据权利要求
3或4任一所述的调节装载辐照箱,其特征在于位于所述辐照箱两 个侧壁的密度调节套体的厚度为5cm 10cm。
专利摘要
本实用新型提供了一种调节装载密度辐照箱,包括箱体、位于箱体内部的密度调节套体,所述密度调节套体位于所述箱体内部至少一个内表面上。该调节装载密度辐照箱能够降低辐照产品不均匀度,并提高射线利用率。
文档编号G21K5/00GKCN201812503SQ201020519057
公开日2011年4月27日 申请日期2010年9月6日
发明者冯涛, 李建军, 燕瑾 申请人:北京鸿仪四方辐射技术有限公司导出引文BiBTeX, EndNote, RefMan
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