专利名称:辐照装置的辐照容器内箱换位装置的制作方法
辐照装置的辐照容器内箱换位装置技术领域：
[0001]本实用新型涉及一种内箱换位装置，尤其是一种辐照装置的辐照容器内箱换位直O背景技术[0002]现代化大型辐照装置多采用标准辐照箱或吊具装载辐照产品。产品直接装载到 辐照箱或吊具内进行辐照，为增加辐照装置的装载能力和提高射线利用率，一般将辐照 箱或吊具的容积设计很大。而在辐照过程中，产品在标准辐照箱或吊具内的相对位置是 固定的，在射线与被照射产品作用时，能量逐步消耗，产品表面的剂量最大，而产品中 心位置的剂量最小，这样就使辐照剂量分布不均勻。而为达到一定的辐照剂量又要考虑 到剂量分布的不均勻性，目前多采取增加辐照时间的方法使产品的最低吸收剂量达到要 求。[0003]然而增加辐照时间会使得最高剂量位置的吸收剂量超过标准很多，更增加了不 均勻度，影响产品的辐照质量，使得目前的辐照装置不能辐照对吸收剂量不均勻度有较 高要求的产品；同时造成剂量浪费，影响了辐照装置的效率，延长了产品的辐照时间， 大大增加辐照成本。
实用新型内容
[0004]本实用新型的目的是为解决辐照装置辐照高密度产品时不均勻度过高并且造成 剂量浪费，以及不能对吸收剂量不均勻度要求较高的产品进行辐照问题，提供了一种辐 照装置的辐照容器内箱换位装置。[0005]实现本实用新型目的的辐照装置的辐照容器内箱换位装置包括标照箱、内箱、 箱内支架、箱外支架、输送装置和轨道行移装置，所述辐照箱位于所述输送装置上，所 述内箱为两个以上，依次排列位于所述辐照箱底面的所述箱内支架上，所述箱外支架位 于所述轨道行移装置上，可在所述辐照箱底面上沿所述内箱排列方向移动，所述内箱可 在所述箱内支架和箱外支架上垂直于所述内箱排列方向滑动。[0006]所述箱内支架和箱外支架上都按照所述内箱的数量，在每个所述内箱两底边的 对应位置设有两条辊道，所述内箱的两底边设有与所述辊道相配合的导向槽。[0007]所述轨道行移装置包括支架、辊轮和轨道，所述支架下方设有所述辊轮，所述 轨道在所述辊轮下方，水平铺设。[0008]所述轨道两端设有防止所述支架滑出所述轨道的行移定位装置。[0009]本实用新型即可实现在产品辐照过程中使受照产品在辐照箱或吊具内的相对位 置发生改变，将最低剂量点和最高剂量点的位置互换，从而达到降低受照产品吸收剂量 的不均勻度、缩短辐照时间、提高射线利用率、降低辐照运行成本，扩大辐照加工技术 服务的适用范围之目的。
[0010]图1为本实用新型的辐照装置的辐照容器内箱换位装置示意图；[0011]图2为本实用新型辐照装置的辐照容器内箱换位装置的内箱示意图；[0012]图3为本实用新型辐照装置的辐照容器内箱换位装置的箱内支架和箱外支架示 意图；[0013]图4为本实用新型的辐照装置的辐照容器内箱换位装置的作业方法示意图。
具体实施方式
[0014]本实用新型的辐照装置的辐照容器内箱换位装置[0015]实施例一[0016]图1所示为本实用新型的辐照装置的辐照容器内箱换位装置，包括辐照箱1、内 箱A、内箱B、箱内支架2、箱外支架3、输送装置4及轨道行移装置5，所述辐照箱1位 于所述输送装置4上，所述内箱A和内箱B依次排列位于所述辐照箱1底面的所述箱内 支架2上，所述箱外支架3位于所述轨道行移装置5上，并可在所述辐照箱1底面上沿所 述内箱A，B排列方向移动，所述内箱A，B可在所述箱内支架2和箱外支架3上垂直所 述内箱A，B排列方向滑动。[0017]如图2、3所示，所述箱内支架2和箱外支架3上都在所述内箱A和内箱B两底 边的对应位置设有两条辊道14、15，所述内箱A和内箱B包括箱体6和两底边上与所述 辊道14、15相配合的导向槽7。所述辊道14、15包括底座8和多个辊轮9。[0018]所述轨道行移装置5包括支架11、辊轮12和轨道13，所述支架11下方设有所 述辊轮12，所述轨道13在所述辊轮12下方，水平铺设。所述轨道13两端设有行移定位 装置10，以免支架滑出轨道。[0019]实施例二[0020]本实施例与上述辐照装置的辐照容器内箱换位装置不同之处在于内箱数量为三 个，相应的内箱支架和外箱支架上辊道的数量也有三组。[0021]本实用新型的辐照装置的辐照容器内箱换位装置的作业方法[0022]如图4所示，操作过程如下[0023](1)将两个内箱依次排列放置在辐照箱内进行辐照；[0024](2)当辐照箱1运行至换位位置时，箱内支架2与箱外支架3对齐(见换位操作 示意图1)；[0025](3)将箱体A、箱体B由辐照箱1内拉出至箱外支架3上(见换位操作示意图 2)；[0026](4)移动轨道行移装置5，使箱外支架3的右侧辊道与箱内支架2的左侧辊道对 齐(见换位操作示意图3)，[0027]将箱体B沿辊道推入辐照箱1 (见换位操作示意图4)，[0028]再次移动轨道行移装置5，使箱外支架3的左侧辊道与箱内支架2的右侧辊道对 齐(见换位操作示意图5)，[0029]将箱体A沿辊道推入辐照箱1 (见换位操作示意图6)，将箱外支架3恢复到初始 位置；[0030](5)将重新排列内箱的辐照箱1输送至辐照区进行辐照。[0031](6)本次换位操作完成，等待下一辐照箱进行连续换位操作。[0032]通过上述操作辐照箱1内的箱体A、箱体B完成了位置的交换，原来靠近辐照箱 中心的一侧换到了外侧。[0033]通过以密度为4g/cm3、要求最低辐照吸收剂量为7KGy的产品为例进行实验[0034]在使用普通装载模式进行辐照的情形下，单箱装载质量为250Kg，辐照工位 时间为30分，测量最低、最高点辐照吸收剂量分别为7KGy和18KGy，不均勻度约为 2.57。[0035]在使用本实用新型的辐照装置的辐照容器内箱换位装置的情形如下，相同工况 下装载质量为250Kg，辐照工位时间为20分，测量最低、最高点辐照吸收剂量分别为 7KGy禾PllKGy，不均勻度约为1.57。[0036]从上述数据就可看到在使用本实用新型的辐照装置的辐照容器内箱换位装置， 产品的装载质量虽然相同，但达到相同最低辐照吸收剂量的工位时间减少了 1/3，同时不 均勻度降低了 1，工位时间和不均勻度均有大幅改善。以此计算在大规模辐照加工生产过 程中，本装置可将辐照装置利用效率和射线利用率都能提高30%以上。[0037]并且本实用新型的装置结构简单，操作方便，维护保养简便易行。本装置完成 一次换位操作仅需1.5分钟左右的时间，能满足连续作业的要求，适合大型辐照装置使 用。
权利要求
1.一种辐照装置的辐照容器内箱换位装置，包括输送装置、位于所述输送装置上辐 照箱，其特征在于还包括内箱、箱内支架、箱外支架和轨道行移装置，所述内箱为两 个以上，依次排列位于所述辐照箱底面的所述箱内支架上，所述箱外支架位于所述轨道 行移装置上，可在所述辐照箱底面上沿所述内箱排列方向移动，所述内箱可在所述箱内 支架和箱外支架上垂直于所述内箱排列方向滑动。
2.根据权利要求
1所述的辐照装置的辐照容器内箱换位装置，其特征在于所述箱 内支架和箱外支架上都按照所述内箱的数量，在每个所述内箱两底边的对应位置设有两 条辊道，所述内箱的两底边设有与所述辊道相配合的导向槽。
3.根据权利要求
1或2任一所述的辐照装置的辐照容器内箱换位装置，其特征在于 所述轨道行移装置包括支架、辊轮和轨道，所述支架下方设有所述辊轮，所述轨道在所 述辊轮下方，水平铺设。
4.根据权利要求
3所述的辐照装置的辐照容器内箱换位装置，其特征在于所述轨 道两端设有防止所述支架滑出所述轨道的行移定位装置。
专利摘要
本实用新型的目的是为解决辐照装置辐照高密度产品时不均匀度过高并且造成剂量浪费，以及不能对吸收剂量不均匀度要求较高的产品进行辐照的问题，提供了一种辐照装置的辐照容器内箱换位装置，包括输送装置、位于所述输送装置上辐照箱，其特征在于还包括内箱、箱内支架、箱外支架和轨道行移装置，所述内箱为两个以上，依次排列位于所述辐照箱底面的所述箱内支架上，所述箱外支架位于所述轨道行移装置上，可在所述辐照箱底面上沿所述内箱排列方向移动，所述内箱可在所述箱内支架和箱外支架上垂直于所述内箱排列方向滑动。
文档编号G21K5/10GKCN201812502SQ201020519040
公开日2011年4月27日 申请日期2010年9月6日
发明者宗慧奇, 旭松 申请人:北京鸿仪四方辐射技术有限公司导出引文BiBTeX, EndNote, RefMan