制造柔性版印刷印版的方法

文档序号:9769129阅读:877来源:国知局
制造柔性版印刷印版的方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及使用数字柔性版印刷元件作为起始材料,通过成像、在氧气的存在下 主曝光、显影和修整制造柔性版印刷印版的方法。所述方法包括附加的压花步骤,在该步骤 中将经显影的印刷印版的表面纹理化从而改进印刷印版的印刷质量。
【背景技术】
[0002] 现今,柔性版印刷的特征在于对更高质量和更高印刷机速度的不断增加的需求。 为了最好地匹配图形设计和艺术品的清晰度和分辨率,必须W最小的印刷点获得与从印刷 区域至非印刷区域精细的淡出复制所需图像的细微的高光细节,且使用高油墨密度W扩大 可印刷呈色范围时,经印刷的实地(solid)应当示出均匀和平滑的油墨转移。
[0003] 由于多个原因,使用一个印刷版和颜色来印刷精细的高光部分和致密的、光滑实 地图像特别具有挑战性。首先,为了印刷细微的高光部分,最小量的油墨和印刷压印是所需 的。但是为了印刷致密的光滑实地部分,所需的是正好相反一一更多油墨和印刷压印。对于 包含运两种元素的设计,必须达成高光区域和实地部分之间所需的质量的折衷,其中两个 区域印刷比所需的稍差。
[0004] 当使用暴露在富氧环境中的数字版(LAMS)在平滑基材(如聚乙締膜)上进行柔性 版印刷时,意识到另一个挑战。氧抑制在版的表面上的聚合反应,从而得到版的非常光滑的 印刷表面,但也得到锐化的、非常小的高光点。有了运些特征,版上小的高光点都能够很好 地印刷非常浅和精细的色调。然而,虽然所得实地版图像的光滑表面为用于在粗糖基材上 印刷所需的纹理,其对于转印油墨到特别光滑基材如膜和锥上则是差的表面。结果往往是 具有不均匀的低满版(solid)油墨密度、斑驳或针孔外观,特征在于或多或少随机分布的着 墨和非着墨基材的小块区域。
[0005] 为了改进数字LAMS版实地部分在光滑基材上的油墨转印,已经使用了不同的方法 W得到在印刷就绪的版上的纹理化的表面,但每个都有缺点。例如,在制造过程中,可将专 口的粗糖的顶表面光聚合物层(封端版)集成到版结构中,即使受到氧抑制的影响,所得的 成像并经加工的版可保持该纹理。但版制造的运种方法是昂贵的,非常专业化,并且难W控 审IJ,且所得版纹理在粗糖度上会有变化。此外,高光点的表面也被纹理化并可能W比所需的 更深的色调印刷。最后,纹理对于在某些基材上改善满版油墨密度(solid ink density)和 外观可能是适合的,但对其他基材则不适合,并且不能改变固有的粗糖度W适应不同的基 材的需要。
[0006] 另一种方法是通过软件,将不同形状、大小、频率和分辨率的非常精细的图案选择 性地加入用于烧蚀所述版的LAMS层的计算机图像文件中。运种方法解决了能够指示该版的 哪个元件将接收纹理图案的问题。它也允许控制在所得版表面上的纹理性质。但运种解决 方案经常需要对用于将纹理呈现和应用于版的文件的软件技术的昂贵的投资。此外,主曝 光期间氧的影响趋于平滑纹理并限制图案元素的分辨率、频率和尺寸至粗糖的设置。运些 粗糖的图案往往不产生可预测地更好满版油墨密度和外观的期望的效果,并且当在印刷方 法变化中设及其他难W控制的变量时,易受产出变化的影响。
[0007] 当利用软件实地筛选技术(solid screening technology)来将纹理施加到经修 整的版表面时,为了使用数字LAMS版(在富氧环境中主曝光)的有限的表面图案化特征解决 运个问题,不同的方法已被用来在主曝光期间避免氧的影响。如果克服了在主曝光期间氧 的影响,则将会把更精细、更锐利和更精确的纹理呈现在版表面上(如果在LAMS中存在)。 [000引 US 2009/0186308 Al公开了通过在惰性气体(例如氮气)和浓度在IOOppm和 190.00化pm之间的氧的环境中将元件曝光于光化福射来加工柔性版印刷元件。
[0009] WO 2006/124279 A2公开了一种包括将膜材料成像然后将其层压至柔性版印刷元 件的方法。经层压的元件曝光于光化福射。在曝光过程中氧被排除在外,因为成像膜是有效 的阻挡层。最终将膜剥离,并在冲洗过程中产生浮雕,随后干燥印刷印版。
[0010] US 8,158,331公开了一种方法,其中通过在曝光于光化福射之前,在柔性版印刷 元件的成像掩模顶部层压膜或阻挡层,将氧排除出可光固化层。
[0011] WO 2012/010459 A2公开了一种方法,其包括成像柔性版印刷元件的两步光化曝 光。第一步骤包括使用功率〉lOOmW/cm2的UV-L邸灯的曝光,随后是使用<100W/cm 2的低功率 的第二曝光步骤。在运个方法中,通过使用高强度UV-L抓曝光产生的大量的光引发剂自由 基,消除存在于可光固化层中的氧的影响或在曝光过程中可能弥散入可光固化层中的氧的 影响。
[0012] 上面提到的所有知识产权提供方法W实现从版至光滑基材上的更高的油墨转印, 因为它们通过排除氧影响,允许将精细的表面纹理应用到图像文件,并通过激光成像仪呈 现在到LAMS层中W形成在版表面上。另外,通过排除氧的相同的机理,版的点的轮廓结构变 化,从而点的顶部在其整个表面上是平坦的,而不是在点结构从表面过渡至肩部的边缘略 圆(运是由氧抑制引起的)。在某些情况下,对于印刷压印敏感性,该平坦点结构相比于圆形 边缘点结构可具有一些优点。
[0013] 然而,该点结构在印刷最精细的高光点的性能中有局限,因为没有氧抑制则不能 实现在版上最精细的高光点的点锐化的益处。此外,氧排除地曝光的版的版点尺寸被限制 至用于烧蚀版LAMS层的成像激光器的最小光斑(spot)尺寸的尺寸限制。氧锐化的高光点可 W比成像激光器的光斑尺寸小。氧排除地曝光和最小点的另一个限制是,即使在LAMS层中 可有效减少光斑尺寸和点尺寸,仍需要过多主曝光时间W在版上有效地保持和支撑运些小 点。运种过多的主曝光时间可在阴影色调和负片影像区域(reverse image area)具有不良 影响,并导致印刷问题。
[0014] EP 2128702 Al设及通过使用不同量的UVA光能量曝光版的不同区域W具有在一 个柔性版印刷元件中产生的不同点结构的需求。一些元件曝光于高能量的UVA光(它再次消 除氧的影响),而其它元件暴露于低能量的UVA光(它允许利用氧抑制来生成精细的高光 点)。
[0015] 运样的方法是难W实现的,其原因是,由于平坦元件的厚度比圆形元件的厚度略 高,在印刷中从平坦结构(平顶点)转化为圆形结构(圆形点)是难W实现和可见的。此外,指 挥曝光头W在曝光过程中在整个版上改变光强度的软件是昂贵的,且整个曝光过程是相当 缓慢的。
[0016] WO 2010/014293 Al公开了用于经成影像地福照的柔性版印刷元件的热显影的方 法和设备。柔性版印刷元件被安装在形成连续环路的传送带上,所述传送带由两个旋转滚 筒支持。该设备还包括很靠近支撑滚筒之一的可加热的滚筒,W及供给至可加热的滚筒的 至少一部分的吸收性材料的幅材(web)。为了热显影,安装在传送带上的经福照的柔性版印 刷元件一次通过或多次通过可加热的滚筒与所述一个支撑滚筒之间的夹区(nip)。未聚合 的可光聚合材料烙融并由幅材吸收。另外,该设备包括光滑化或粗糖化的漉,其在通过夹区 之后接触柔性版印刷版的表面。光滑化或粗糖化的漉可W自身加热,并改变印刷版的表面 粗糖度,使得印刷版的算术平均粗糖度改变至少5纳米,优选10至2000纳米。处理的目的是 不仅要改变印刷版的算术平均粗糖度,而且要使得印刷版的表面粗糖度均一化,从而得到 更好的印刷质量。WO 2010/014293 Al还教导了使用包括配备有光滑化或粗糖化的漉的传 送带的设备(但不使用覆盖有吸收性幅材的加热滚筒)W平滑化使用冲洗溶剂显影的柔性 版印刷元件的表面。

【发明内容】

[0017] 本发明的目的是提供一种用于制造具有改进的印刷性能的柔性版印刷版的改进 的方法。特别地,本发明的目的是提供用于使用数字LAMS柔性版印刷元件作为起始原料制 造柔性版印刷版的方法,其使得能够选择性地制造具有氧抑制地曝光的版的精细高光特征 和氧排除地曝光的版的精细表面纹理化能力的版,而无版厚不均的问题(当在同一版的不 同区域使用上述两种曝光时),且无需在印前工艺中大量投资。
[0018] 因此,发现了一种从柔性版印刷元件制造柔性版印刷印版的方法,所述柔性版印 刷元件至少包括尺寸稳定性支撑体、可光聚合层和激光可烧蚀掩模层,其中所述方法至少 包括如下步骤:
[0019] (i)通过IR激光使得激光可烧蚀掩模层成像从而在可光聚合层上获得掩模,
[0020] (ii)通过在步骤(i)过程中获得的掩模在大气氧的存在下使用UV光将可光聚合层 曝光,
[0021] (iii)除去可光聚合层的未曝光部分,和
[0022] (iv)通过使用UVA和/或UVC光曝光修整经聚合层,
[0023] 其中,所述方法包括附加的步骤(V),所述附加的步骤(V)为在步骤(iii)和(iv)之 间或在步骤(iv)之后通过包含纹理化的表面的压花装置将经光聚合层压花、并使得压花装 置的纹理化的表面与经光聚合层的表面在可调的压力下接触,其中压花装置的表面具有高 于室溫的溫度。
[0024] 在本发明的一个优选实施方案中,附加的步骤(V)在步骤(iii)和(iv)之间进行, 且主曝光使用具有低强度的UV光进行。
[0025] 令人惊奇的是,已经发现,通过使用物理压花将经成像和显影的柔性版印刷印版 的表面纹理化,现有技术方法的所有的缺点都消失了,而所有的优点被保留。考虑到版的特 性,得自氧影响的曝光的精细且锐利的高光得W保留,而在版表面上创建了精确限定且高 频的表面纹理,如由压花机构所指示的。与目前的用于将版表面纹理化的方法相反,运些特 征提供最
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