专利名称：石斛立体种植方法
技术领域：
本发明属石斛种植方法技术领域。
背景技术：
石斛是一种极其珍贵的药材，由于其具有增强免疫功能，抗肿瘤和抗衰老的独特功效，因此在国内中医临床配方和出口外销中成药工业原料中含有量不断增加，国内、国际市场的需求量也不断攀升，售价一路飚升，使石斛日趋显得珍稀名贵，由于野生石斛稀少，加之其自然生长缓慢，收获产量低，如今已远远满足不了市场的需要，目前虽有人工栽培石斛技术应用，但其成品率低，成材时间缓慢，少量的人工石斛仍难以弥补硕大的市场缺口。现有的石斛人工栽培种植方法通常都是施行的平面栽培，这种栽培技术与石斛本身的生长特性有着差别。由于石斛适宜生长在遮阳、避风、温暖、潮湿的地方，而且善于随树或陡壁岩石爬附生长，常与苔藓植物伴生，既具有寄生特性，又具备空中生长的特性，因此其根茎应具有良好的通风透气性和开放性。但平面种植没有考虑到石斛生长的这些特性，其根部十分容易在培植土内腐烂，而且根部埋于培植土内透气性很差，使石解的生长十分缓慢，而且成活率、成材率都不高。
发明内容
本发明的目的正是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种具有良好的透气性，光照适度，营养充分，能充分满足石斛附生的特性，实现节约化、规模化、高产化的石斛立体种植方法。
本发明的目的是通过如下技术方案实现的。
石斛立体种植方法，是采用高1500～2500mm，宽140～400mm的墙体的两个侧面作为种植面，在墙体上均布设有公称尺寸为30～120mm的孔洞，培植土放入孔洞内，将石斛株苗栽植在培植土上，并在墙体顶部设置滴灌装置，以滴灌方式保持墙体湿润，并5～8天对株苗施以营养液，使整个墙体逐步生成苔藓，利于株苗生长，在墙体上方设置有遮阳网用以控制光照强度。
本发明所述的培植土的组分及重量百分比为腐熟牛粪∶锯末粉∶过磷酸钙＝50～70％∶30～40％∶1～5％；所述的营养液为MS1/4营养液；本发明采取相邻墙体之间间隔距离为800～2000mm，开设在墙体上的孔洞每一横排与上、下相邻排等距离错位排列，每一横排孔洞之间的中心间距为240～280mm，每相邻两排孔洞中心线的垂直间距为120～180mm，孔洞最大公称尺寸为30～120mm；所采用的遮阳网的透光率为20～30％。
本发明采用在墙体的两侧面开设错落分布的孔洞立体种植石斛，并在洞内填放培植土，以适合石斛的生长。培植土用腐熟牛粪、锯末粉和过磷酸钙配比而成，定期对组培苗施以滴灌和营养液，保持墙面的湿润度，靠湿润和残留在墙体表面的营养液使墙面逐步生成苔藓，使石斛的根系爬附在苔藓上，既具有良好的透气性，又有一定的湿润度，尤其是墙体的垂直陡面，更符合石斛顺壁攀缘的特性，加之以遮阳网控制阳光的照射度，使石斛能够在良好的生长环境里生长，长长的根叶，粗状肥硕，成活率十分高，具有明显的经济价值。
下面结合说明书附图进一步阐述本发明的内容。
图1为本发明采用砖石墙体种植方法示意图，图2为图1的A-A剖视图，图3为本发明采用夹层木板墙体种植方法示意图。
具体实施例方式
实施例一如图1、图2所示，墙体1材料主要选择普通烧制的粘土砖作为基材，也可以用经加工切割的石材六面矩形体为基材。以一块砖的宽度作为墙体厚度，靠砖与砖的错位放置形成孔洞2。本实施例采用长×宽×厚为230×115×56mm的普通砖垒砌墙体1，墙体1的厚度为砖的宽度115mm，孔洞2为矩形孔，长×宽为70×80mm，在墙体1顶部设置有管式的滴灌装置3，培植土4采用腐熟牛粪∶锯末∶过磷酸钙按重量百分比60％∶37％∶3％的配比配成，将培植土4填满孔洞2，石斛株苗5采用经培植6～8个月的组培苗，在每一孔洞2的下方左右两边各种植一棵石斛苗，墙体与墙体之间的距离为1200mm，墙体视长度需要在每4000mm处建筑一个砖墩7用以增加墙体的强度，生长环境年平均温度以15～22℃为宜，最冷控制在8℃以上，空气湿度控制在80％以上，培植土以肥沃疏松，透气性好，能保湿为宜。采用透光率为25％的遮阳网6将种植面积全部覆盖起来，在每堵墙的顶部安装塑料的滴灌装置3，以保湿为目的，适时进行滴灌，并于5～8天定期对株苗喷施以市面上直接可购得的MS1/4的营养液，或在MS1/4营养液的基础上再配以一些其他对石斛生长有利的物质，靠湿润的墙面和残留在墙体表面的营养液使墙面逐步生成苔藓，使石斛的根系爬附在苔藓上，促进株苗生长，待生长至花期约4～8个月，果期6～10个月便可采集成熟石斛。
实施例二采用夹层木板作为墙体1，在木板墙体1上按错位方式每排以中心距为180mm均布开设圆形孔洞2，将壁厚为5mm的经烧制而成的陶瓷筒8插入夹层两面的木板上对应开设的孔洞2内，在孔洞2内填放培植土4，石斛的种植方法同实施例一。
权利要求
1.石斛立体种植方法，其特征是，采用高1500～2500mm，宽140～400mm的墙体(1)的两个侧面作为种植面，在墙体上均布设有公称尺寸为30～120mm的孔洞(2)，培植土(4)放入孔洞(2)内，将石斛株苗(5)栽植在培植土(4)中，并在墙体(1)顶部设置滴灌装置(3)，以滴灌方式保持墙体湿润，并5～8天对株苗施以营养液，使整个墙体逐步生成苔藓，利于株苗生长，在墙体上方设置有遮阳网(6)用以控制光照强度。
2.根据权利要求1所述的石斛立体种植方法，其特征是，所述的培植土(4)的组分及重量百分比为腐熟牛粪∶锯末粉∶过磷酸钙＝50～70％∶30～40％∶1～5％。
3.根据权利要求1所述的石斛立体种植方法，其特征是，所述的营养液为MS1/4营养液。
4.根据权利要求1所述的石斛立体种植方法，其特征是，相邻墙体之间间隔距离为800～2000mm，开设在墙体(1)上的孔洞(2)每一横排与上、下相邻排等距离错位排列，每一横排孔洞之间的中心间距为240～280mm，每相邻两排孔洞中心线的垂直间距为120～180mm，孔洞最大公称尺寸为30～120mm。
5.根据权利要求1所述的石斛立体种植方法，其特征是，遮阳网(6)的透光率为20～30％。
全文摘要
石斛立体种植方法，是采用高1500～2500mm，宽140～400mm的墙体(1)的两个侧面作为种植面，在墙体上均布设有公称尺寸为30～120mm的孔洞(2)，培植土(4)放入孔洞(2)内，将石斛株苗(5)栽植在培植土(4)中，并在墙体(1)顶部设置滴灌装置(3)，以滴灌方式保持墙体湿润，并5～8天对株苗施以营养液，使整个墙体逐步生成苔藓，利于株苗生长，在墙体上方设置有遮阳网(6)用以控制光照强度。本发明使石斛能够在良好的生长环境里生长，且成活率高，具有明显的经济价值。
文档编号A01G25/00GK1596595SQ20041004038
公开日2005年3月23日 申请日期2004年8月2日 优先权日2004年8月2日
发明者蔡仲玉, 王跃峰, 徐继宏 申请人:蔡仲玉, 王跃峰, 徐继宏