专利名称：带有排水槽的温室大棚的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种农业温室技术领域，具体涉及一种带有排水槽的温室大棚。
背景技术：
日光温室主要用于冬春两季蔬菜生产，为了获得最佳的采光效果，多采用聚氯乙烯 或聚乙烯防雾无滴膜进行覆盖。无滴膜具体说应当叫流滴膜，日光温室内的热空气遇到 棚膜后，凝结成水珠，顺着棚膜向下滑，落到日光温室前部，下落到日光温室前面，致 使日光温室前面的土地长期处于水渍状态，湿度大是造成病害发生与流行的主要因素， 日光温室前部的土壤长期处于含水量大的状态，造成病害先在此地发生与传染，成为各 种病害的发源地。
虽然排除覆膜上下流的水有很多种方法，比如在覆膜下端开口、在日光温室前端挖 排水沟。但是，在覆膜下端开口不利于保温，操作不当也常造成鼓棚现象；在日光温室 前端挖排水沟，在一定程度上能降低日光温室前面的空气土壤湿度，但是效果并不理想。
发明内容
本实用新型的目的是针对现有日光温室前湿度大、病害先发生的等不足，提供了一 种带有排水槽的温室大棚。
本实用新型的目的是通过以下技术手段实现的带有排水槽的温室大棚，包括有后 墙壁、两侧墙壁以及覆盖其上方的拱杆和大棚覆膜，所述拱杆下部，在距离地面垂直距 离450-550毫米处的拱杆上，上端距离大棚覆膜15-25毫米处，还设置有固定杆，固定 杆上固定连接设置有附加膜的上端，附加膜的下端连接设置有排水槽。
所述的排水槽一端与温室的一侧墙壁相齐，另一端则伸出另一侧墙壁外，排水槽的 伸出端低于与侧墙壁相齐端。
所述的排水槽的宽度设置为90-110毫米，高度设置为70-90毫米。
与现有技术相比本实用新型具有以下明显的优点本带有排水槽的温室大棚，通过 日光温室排水槽，将覆膜上的水滴到附膜上，附膜与排水槽相连，排水槽一侧高一侧低， 低端伸出日光温室外部，覆膜滴水直接排出日光温室；将棚膜下滑的水分排出日光温室外部，降低了日光温室前部湿度，减少各种真菌性、细菌性病害危害机率。
图1为本实用新型的立体结构示意图； 图2为本实用新型的侧面图中，1-大棚覆膜，2-固定杆，3-附加膜，4-排水槽。
具体实施方式
以下结合附图说明和具体实施方式
对本实用新型作进一步的详细描述-
如图1所示的带有排水槽的温室大棚，包括有后墙壁、两侧墙壁以及覆盖其上方的 拱杆和大棚覆膜l，所述拱杆下部，在距离地面垂直距离450-550毫米处的拱杆上，上端 距离大棚覆膜115-25毫米处，还设置有固定杆2，固定杆2上固定连接设置有附加膜3 的上端，附加膜3的下端连接设置有排水槽4。所述的排水槽4 一端与温室的一侧墙壁相 齐，另一端则伸出另一侧墙壁外，排水槽4的伸出端低于与侧墙壁相齐端。这样设置， 本带有排水槽的温室大棚，通过日光温室排水槽，将覆膜上的水滴到附膜上，附膜与排 水槽相连，排水槽一侧高一侧低，低端伸出日光温室外部，覆膜滴水直接排出日光温室。
所述的排水槽4的宽度设置为90-110毫米，高度设置为70-90毫米。这样设置，保 证了一定的排水量，又减少过多的占用棚内面积。
本带有排水槽的温室大棚，将棚膜下滑的水分排出日光温室外部，降低了日光温室 前部湿度，减少各种真菌性、细菌性病害危害机率。
权利要求1.带有排水槽的温室大棚，包括有后墙壁、两侧墙壁以及覆盖其上方的拱杆和大棚覆膜(1)，其特征在于所述拱杆下部，在距离地面垂直距离450-550毫米处的拱杆上，上端距离大棚覆膜(1)15-25毫米处，还设置有固定杆(2)，固定杆(2)上固定连接设置有附加膜(3)的上端，附加膜(3)的下端连接设置有排水槽(4)。
2. 根据权利要求1所述的带有排水槽的温室大棚，其特征在于所述的排水槽(4) 一端与温室的一侧墙壁相齐，另一端则伸出另一侧墙壁外，排水槽(4)的伸出端低于与 侧墙壁相齐端。
3. 根据权利要求1或2所述的带有排水槽的温室大棚，其特征在于所述的排水槽 (4)的宽度设置为90-110毫米，高度设置为70-90毫米。
专利摘要带有排水槽的温室大棚，包括有后墙壁、两侧墙壁以及覆盖其上方的拱杆和大棚覆膜(1)，所述拱杆下部，在距离地面垂直距离450-550毫米处的拱杆上，上端距离大棚覆膜(1)15-25毫米处，还设置有固定杆(2)，固定杆(2)上固定连接设置有附加膜(3)的上端，附加膜(3)的下端连接设置有排水槽(4)。本带有排水槽的温室大棚，通过日光温室排水槽，将覆膜上的水滴到附膜上，附膜与排水槽相连，排水槽一侧高一侧低，低端伸出日光温室外部，覆膜滴水直接排出日光温室；将棚膜下滑的水分排出日光温室外部，降低了日光温室前部湿度，减少各种真菌性、细菌性病害危害几率。
文档编号A01G9/14GK201430807SQ2009200292
公开日2010年3月31日 申请日期2009年7月10日 优先权日2009年7月10日
发明者王德民, 王振学 申请人:王德民