一种植株生长光线调节装置的制作方法

本发明涉及大棚种植技术领域，尤其涉及一种植株生长光线调节装置。

背景技术：

植物生长需要阳光，但也不是阳光越强烈越好，对于一些名贵药材和农作物，对阳光照射的要求比较精细，阳光强时不能被晒到，不然就不能生长，接受光照不足也不行，不然就长不好。

夏日阳光暴烈，尤其是正午阳光强度最大时尤其容易对植物造成伤害。目前，出现了各种遮阳装置对大棚进行遮阳。遮阳装置虽然可在一定程度上减少阳光暴晒，但是其不够智能，智能化的又成本太高，不利于小型种植基地推广使用。

技术实现要素：

基于背景技术存在的技术问题，本发明提出了一种植株生长光线调节装置。

本发明提出的一种植株生长光线调节装置，包括：围壁和棚顶架；围壁采用隔热材料制成，棚顶架覆盖在围壁上方，棚顶架包括第一弧臂和第二弧臂，第一弧臂和第二弧臂安装在围壁上并开口朝下，第一弧臂的第一端和第二端分别通过第一连杆和第二连杆连接第二护臂的第一端和第二端，第一弧臂的中部通过第三连杆连接第二弧臂的中部，第一连杆、第二连杆和第三连杆相互平行设置；第一弧臂与第二弧臂之间安装有多个滤光片，滤光片长度方向平行于第三连杆，其宽度方向与水平面呈10°～80°倾角，相邻两个滤光片之间有间隙，且第三连杆相对的两侧的滤光片倾斜角度相反。

优选地，第一弧臂与围壁围绕成的区域被密封，第二弧臂与围壁围绕成的 区域被密封。

优选地，滤光片采用反光材料制成。

优选地，滤光片的宽度为5mm～30mm。

优选地，围壁内部安装有多个可向下喷洒冷雾的喷头。

优选地，喷头可上下移动的安装在围壁上。

优选地，第一弧臂、第二弧臂、第一连杆、第二连杆和第三连杆均为空心结构。

本发明中，通过第一弧臂和第二弧臂形成了棚顶架相对于第一弧臂和第二弧臂连线方向相对称的结构，棚顶架上设置有多个滤光片，相邻滤光片之间有间隙，从而阳光只能从相邻滤光片的间隙内投射到大棚内，部分阳光被滤光片拦截，从而可避免强光环境中，大棚内植物受到强光伤害。

本发明中，滤光片的设置充分考虑了太阳东升西降的特点，滤光片采用两侧对称倾斜的设置方式，可保证太阳上升和下降过程中，棚内均能接收到足够的光照。

本发明中，通过喷洒冷雾维持大棚内的温度，且冷雾在重力作用下向下运动从而维持大棚底部作物生长环境温度，避免冷量丧失。围壁采用隔热材料制成，可避免高温天气中，棚内作物受到高温伤害，并可避免大棚内外热量交换，进一步避免大棚内冷量丧失。

附图说明

图1为本发明提出的一种植株生长光线调节装置；

图2为棚顶架示意图。

具体实施方式

参照图1、图2，本发明提出的一种植株生长光线调节装置，包括：围壁1 和棚顶架2。

棚顶架2覆盖在围壁1上方，棚顶架2包括第一弧臂21和第二弧臂22。第一弧臂21和第二弧臂22安装在围壁1上并开口朝下。第一弧臂21的第一端和第二端分别通过第一连杆23和第二连杆24连接第二弧臂22的第一端和第二端，第一弧臂21的中部通过第三连杆25连接第二弧臂22的中部，第一连杆23、第二连杆24和第三连杆25相互平行设置，以保证第一弧臂21和第二弧臂22相对结构的稳定。第一弧臂21、第二弧臂22、第一连杆23、第二连杆24和第三连杆25均为空心结构，即节约材料，又减轻了棚顶架2的重量，从而减轻了棚顶架2对围壁的压力。

第一弧臂21与第二弧臂22之间安装有多个滤光片3，滤光片3长度方向平行于第三连杆25，其宽度方向与水平面呈10°～80°倾角，且第三连杆25两侧的滤光片3倾斜角度相反，具体的设置为第三连杆25两侧的滤光片相对于第三连杆25一一对称，且相邻两个滤光片3之间有间隙以便太阳光通过间隙入射到棚内。本实施方式中，滤光片3宽度方向与水平面夹角为45°，且滤光片3的宽度为15mm。具体实施时，滤光片3的宽度也可在5mm～30mm之间选择，以避免过短达不到拦截过剩光线的效果，或者过宽使得光线通过率太低，满足不了大棚内光照需求。

本实施方式中，滤光片3采用反光材料制成，以进一步保证棚顶对过剩的太阳光的拦截效果，降低棚内光照强度。

围壁1内部可上下移动地安装有多个可向下喷洒冷雾的喷头，以便通过喷洒冷雾维持大棚内的温度，且冷雾在重力作用下向下运动从而维持大棚底部作物生长环境温度，避免冷量丧失。喷头可上下调节，从而可根据不同作物的高度，调整冷雾喷洒高度，提高利用率。

本实施方式中，围壁1采用隔热材料制成，以避免高温天气中，棚内作物受到高温伤害，并可避免大棚内外热量交换，避免大棚内冷量丧失。第一弧臂21与围壁1围绕成的区域被密封，第二弧臂22与围壁1围绕成的区域被密封，可进一步避免大棚内外的空气流动，保证大棚内的低温环境。

以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。