一种卧式超高压等静压设备的制作方法

本实用新型涉及等静压设备技术领域，特别是指一种卧式超高压等静压设备。

背景技术：

等静压技术是基于帕斯卡原理开发的一种超高压技术，广泛应用于化工、粉末冶金、金属成型、食品杀菌保鲜等领域，主要部件包括超高压容器、闭合机架、增压系统和控制系统，其处理原理是将被加工的物体放置在一种特定的模具中，再把装有工件的模具放入盛满液体的超高压容器中，通过增压系统逐步加压，再通过液体传压，使得物体的各个表面受到了相等的压强，并在模具限制下成型的过程。在压缩过程中，实际工件分子间的距离缩小了，密度增大了，使得被压制的物品的物理性质甚至化学性质发生变化。现有的等静压设备按其结构分为立式和卧式。立式的等静压设备存在上下料不方便、生产效率低等问题。

技术实现要素：

为解决以上现有技术的不足，本实用新型提出了一种卧式超高压等静压设备。

本实用新型的技术方案是这样实现的：一种卧式超高压等静压设备，包括闭合机架、超高压容器、堵塞、垫块、增压系统、控制系统及上下料机构，

堵塞上设有通孔，超高压容器两端设有进料口和出料口，进料口与出料口位于同一水平面，上下料机构用于对进料口进行装料或者对出料口进行卸料；

还包括与堵塞连接的堵塞移动机构、与超高压容器连接的超高压容器移动机构及与垫块连接的垫块移动机构；

上下料机构通过进料口向超高压容器中装入物料，之后超高压容器在超高压容器移动机构的作用下移至闭合机架中，堵塞在堵塞移动机构的作用下移至超高压容器内；接着向超高压容器内充满常压液体介质，垫块在垫块移动机构的作用下移至堵塞与闭合机架之间；增压系统产生的超高压液体介质通过堵塞上的通孔进入超高压容器内，之后由控制系统进行保压、卸荷；卸荷后，垫块在垫块移动机构的作用下、堵塞在堵塞移动机构的作用下依次退出，之后超高压容器在超高压容器移动机构的作用下回到初始位置。

优选的，超高压容器为两端开口的圆柱形腔体，圆柱形腔体的轴线位于水平位置。

本实用新型提出的卧式超高压等静压设备呈卧式布置，具有加压和上下料两个工位，上下料方便，极大地提高了生产率，适于大批量、连续生产的食品加工。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的超高压容器位于加压工位时的正视图；

图2为图1的俯视图；

图3为图1的左视图；

图4为本实用新型的超高压容器位于上下料工位时的正视图；

图5为图4的俯视图；

图6为图4的左视图。

图中：1、堵塞移动机构；2、垫块；3、堵塞；4、超高压容器；5、闭合机架；6、超高压容器移动机构；7、垫块移动机构；8、上下料机构。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1所示：本实用新型提出一种主要卧式超高压等静压设备，包括闭合机架5、超高压容器4、堵塞3、垫块2、增压系统、控制系统及上下料机构8，

堵塞3上设有通孔，超高压容器4两端设有进料口和出料口，进料口与出料口位于同一水平面，上下料机构8用于对进料口进行装料或者对出料口进行卸料；

还包括与堵塞3连接的堵塞移动机构1、与超高压容器4连接的超高压容器移动机构6及与垫块2连接的垫块移动机构7；

超高压容器4中装入物料后，由超高压容器移动机构6移至闭合框架5中，随后堵塞3由堵塞移动机构1推入超高压容器4的腔内，向超高压容器4中充满常压液体介质，接着垫块2由垫块移动机构7推入堵塞3与闭合机架5之间，以防止加压时堵塞3从超高压容器4中退出，如图1-3共同所示。完成上述动作后即开始加压，增压系统产生的超高压液体介质通过堵塞3上的小孔进入超高压容器4，由控制系统控制保压、卸荷。卸荷后，垫块2、堵塞3在各自的移动机构作用下依次退出，随后超高压容器4由超高压容器移动机构6移至上下料位置，如图4-6共同所示。在上下料机构8的作用下，超高压容器4的一端进料，另一端同时出料，当超高压容器4内装入新的物料后，即可进入下一循环。

本实用新型提出的卧式超高压等静压设备呈卧式布置，具有加压和上下料两个工位，上下料方便，极大地提高了生产率，适于大批量、连续生产的食品加工。

作为一种优选的技术方案，本实用新型的再一实施例，超高压容器4为两端开口的圆柱形腔体，圆柱形腔体的轴线位于水平位置。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。