应力中断式附着体义齿的制作方法

本发明涉及口腔治疗义齿领域，具体涉及一种应力中断式附着体义齿。

背景技术：

本背景技术中专业词解释：“义齿”指假牙。“龋坏”指蛀牙。“牙周病”指发生在牙支持组织的疾病，该疾病包括仅累及牙龈组织的牙龈病和波及深层牙周组织（牙周膜、牙槽骨、牙骨质）的牙周炎两大类。“活动义齿”其专业名称为可摘义齿，包括可摘局部义齿和全口义齿。活动义齿是利用剩余天然牙、基托下的黏膜和骨组织作为支持，依靠义齿的固位体和基托来固位，用人工牙恢复缺失牙的形态和功能，用基托材料恢复缺损的牙槽嵴、颌骨及其周围的软组织形态，患者可以自行摘戴的一种修复体。“固定义齿”是修复牙列中一个或几个缺失牙的修复体，靠粘结剂或固定装置与缺失牙两侧预备好的基牙或者种植体连在一起，从而恢复缺失牙的解剖形态与生理功能。由于这种修复体患者不能自行取戴，固简称为固定义齿，又由于其结构与桥梁相似，故又称固定桥。“种植义齿”指在口腔缺牙区的牙槽骨内植入种植体（人工牙根），待种植体成活后，再在其上端制作修复体完成种植义齿的修复。“支持组织”指软骨样组织，与普通软骨比较缺乏基质，富于细胞，细胞较大，呈玻璃样透明的小胞状。

因龋坏、牙周病、外伤及发育畸形等原因导致牙齿缺失的情况，在口腔临床诊疗中极为常见。牙齿缺失会严重影响到患者的咀嚼、发音、面容甚至心理健康。目前临床上主要是通过活动义齿、固定义齿或种植义齿等方式对患者的牙齿缺失进行修复。

如图1所示，通常的义齿主要由人工牙110、基托120和太极扣130等部件组成，患者在咀嚼功能中产生的咬合力主要由基牙140和基托120下方的黏膜组织承受。由于基牙140及其周围支持组织的解剖特点，基牙140对轴向的沿牙齿轴向的垂直压力有较强的抵抗作用，但对非轴向的侧向扭力抵抗较弱，基牙140对沿牙齿轴向的垂直压力的耐受程度与侧向扭力的耐受程度比例为62：1。当基牙140受到较大的侧向扭力时，极易使基牙140出现松动脱落，最终导致义齿修复失败。

如图2所示，太极扣130主要是由阳极扣131和阴极扣132两部分结构组成，其中一部分与基牙140或种植体结合，另一部分与人工牙110结合，实现连接和固位，从而为义齿提供良好的固位、稳定和美观效果。太极扣130的阳极扣131安装在基牙140上，阴极扣132安装在义齿上，阳极扣131上设有插头133，阴极扣132上设有与插头133相匹配的插槽。

阳极扣131的一端固定在基牙140上，另一端通常是处于悬空状态，阳极扣131呈悬臂梁结构模型，阳极扣131若是与牙周组织全面接触，则安装比较困难，阳极扣131在基牙140上安装时，极有可能会出现阳极扣131挤压牙周组织，出现压伤牙周组织的情况。人工牙110受力后，将力传递到基托120上，此时基托120整体向下运动，插槽部向下挤压插头133，将力传递到插头133上，此时阳极扣131的固定端会对相应的基牙140产生竖直向上推力，基牙140在此推力作用下，会发生一定的松动，导致基牙140脱落，进而导致义齿修复失败。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种能减少与义齿相匹配的基牙脱落事件的应力中断式附着体义齿。

为达到上述目的，本发明的基础方案为：应力中断式附着体义齿，包括安装有人工齿的基托，所述基托上设有用于和基牙连接的应力中断式附着体；所述应力中断式附着体包括均是由Vitallium 2000 plus钴铬钼合金制成的附着体阳性件和附着体阴性件；所述附着体阴性件的尾端设有主连接孔，所述附着体阳性件的前端部设有用于挤压附着体阴性件中部的压头，所述附着体阳性件上设有与主连接孔配合的主连接头，所述主连接头与主连接孔的缓冲间隙为0.3~0.5mm，压头与附着体阴性件接触处的摩擦系数为0.25~0.35。

本方案中附着体阳性件与附着体阴性件连接处的缓冲间隙能有效的克服阳性件突然运动时对附着体阴性件造成的瞬间冲击。根据发明人多次试验证实，主连接头与主连接孔的缓冲间隙为0.3~0.5mm为比较合理的数值区间；缓冲间隙过大则缓冲效果不明显，另外，压头与附着体阴性件接触处的摩擦系数经过发明人的多次试验证实，摩擦系数区间为0.25~0.35比较合理，摩擦系数过大则压头的磨损较快；摩擦系数过小，则压头在与附着体阴性件之间接触时容易出现打滑现象，影响附着体阳性件与附着体阴性件的稳定性。Vitallium 2000 plus 是一种用于铸造可摘支架的高钴铬钼合金，其中钴约占60%，铬占28-32%，钼占5-7%，锰低于0.75%，硅低于0.6%，较传统的钴铬合金有更高的延展系数和维氏硬度，临床上使用时支架变形较小，折断可能性较低。

本方案的优点：患者具体使用本应力中断式附着体义齿时，首先将附着体阴性件安装在相应的基牙上，然后将相应的附着体阳性件安装在附着体阴性件上，此时压头与附着体阴性件中部接触。

患者咀嚼食物时，咬合力传递到基托上，此时基托整体向下移动，附着体阳性件随基托一起向下移动，此时压头随附着体阳性件向下移动，直到压头压附着体阴性件。此时由于压头位于附着体阴性件中部，又因附着体阴性件承受的是垂直力，故附着体阴性件是整体垂直向下移动，而不会出现附着体阴性件倾斜的趋势，进而确保了与附着体阴性件连接的基牙在承受因咬合传递来的力时，始终为沿牙齿轴向的垂直力。本应力中断式附着体义齿能减少与之相应的基牙发生脱落事件的几率。

优选方案一：作为基础方案的优选方案，所述主连接头与主连接孔的缓冲间隙为0.4mm，压头与附着体阴性件接触处的摩擦系数为0.3。

本方案的优点在于：经过发明人多次试验发现，当主连接头与主连接孔的缓冲间隙为0.4mm，且压头与附着体阴性件接触处的摩擦系数为0.3时，此时效果最好，不但能有效的克服了附着体阳性件突然运动对附着体阴性件的瞬间缓冲，也确保了压头与附着体阴性件之间的稳定性。

优选方案二：作为基础方案或优选方案一的优选方案：所述阴性件中部设有副连接孔，所述压头上设有与副连接孔相配合的的副连接头。

本方案的优点在于：附着体阳性件与附着体阴性件之间通过主连接头和副连接头两个连接点进行限位，一方面克服了附着体阳性件与附着体阴性件两者的相对摆动，另一方面，增强了附着体阳性件与附着体阴性件之间连接的稳定性。

优选方案三：作为优选方案二的优选方案：所述主连接孔和副连接孔均为上大下小的圆锥孔。本方案的优点在于：由于主连接孔和副连接孔均为上大下小的圆锥孔，当需要分离附着体阳性件与附着体阴性件时，操作比较简单方便，安装时圆锥孔具有一定导向性，方便安装。

优选方案四：作为优选方案二的优选方案：所述附着体阳性件位于基牙的牙冠内。本方案的优点在于：附着体阳性件与附着体阴性件之间采用两点连接，确定连接稳定性的前提下，附着体阳性件位于基牙的牙冠内，则附着体阳性件与附着体阴性件连接更加人性化。

优选方案五：作为基础方案、优选方案一或优选方案三的优选方案：所述附着体阳性件位于基牙的牙冠内。本方案的优点在于：附着体阳性件位于基牙的牙冠内时，患者整体牙齿比较整齐有序美观，对患者而言更加人性化。

附图说明

图1是现有技术义齿与石膏模型的结构示意图；

图2是现有技术太极扣安装在基牙上的结构示意图；

图3是本发明应力中断式附着体义齿实施例的结构示意图；

图4是图3中附着体阴性件结构示意图；

图5是图3中附着体阳性件结构示意图。

具体实施方式

下面通过具体实施方式对本发明作进一步详细的说明：

说明书附图中图1和图2附图标记包括：人工牙110、基托120、太极扣130、阳极扣131、阴极扣132、插头133、基牙140。

说明书附图中图3、图4和图5附图标记包括：基托20、人工齿21、附着体阳性件30、附着体阴性件40、主连接孔60、副连接孔50、压头70。

实施例基本如图3所示：应力中断式附着体义齿，包括安装有人工齿21的基托20，基托20上安装有用于和基牙连接的应力中断式附着体；该应力中断式附着体包括均是由Vitallium 2000 plus钴铬钼合金制成的附着体阳性件30和附着体阴性件40。

如图4所示，附着体阴性件40的中部设有副连接孔50，尾端设有主连接孔60。

如图3和图5所示，附着体阳性件30的端部设有与之一体成型的压头70，主连接头与主连接孔的缓冲间隙为0.4mm左右，压头70与附着体阴性件40接触处的摩擦系数为0.3左右。阴性件上靠近阳性件的端部设有副连接孔50，且附着体阳性件30上设有与之相匹配的副连接头。主连接孔60和副连接孔50均为上大下小的圆锥孔，附着体阳性件30位于基牙的牙冠外。

患者具体使用本应力中断式附着体义齿时，首先将附着体阴性件40安装在相应的基牙上，然后将相应的附着体阳性件30安装在附着体阴性件40上，此时压力70与附着体阴性件40中部接触。

患者咀嚼食物时，咬合力传递到基托20上，此时基托20整体向下移动，此时基托20上的附着体阳性件30也随之一起向下移动，附着体阴性件30向下运动的过程中压头70也随之向下移动，压头70基压附着体阴性件40。此时由于压头70位于附着体阴性件40中部，又因附着体阴性件40承受垂直力，因此附着体阴性件40是整体向下移动，而不会出现附着体阴性件40倾斜的趋势，进而确保了与附着体阴性件40连接的基牙在承受因咬合传递来的力时，始终为沿牙齿轴向的垂直力。本应力中断式附着体义齿能减少与之相应的基牙发生脱落事件的几率。

以上所述的仅是本发明的实施例，方案中公知的具体结构及特性等常识在此未作过多描述。应当指出，对于本领域的技术人员来说，在不脱离本发明结构的前提下，还可以作出若干变形和改进，这些也应该视为本发明的保护范围，这些都不会影响本发明实施的效果和专利的实用性。本申请要求的保护范围应当以其权利要求的内容为准，说明书中的具体实施方式等记载可以用于解释权利要求的内容。