专利名称：湿式清洗设备的制作方法
技术领域：
本发明是有关于一种湿式清洗设备，特别是有关于一种能使基板各部 位得到良好清洁效果的湿式清洗设备。
背景技术：
由于平面显示技术的突飞猛进，其应用逐渐从电脑用屏幕延伸至家用
电视等电子产品。就薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)制程而言，清洗步 骤经常连接于镀膜、微影及刻蚀等步骤之前、中、后等时机，用以维持显 示器基板在生产过程中的表面洁净度。
已知的湿式清洗设备是在基板搬运装置上方设置清洗液供应装置。基 板搬运装置以一行进方向搬运待清洗的基板。当进行清洁程序时，基板是 置于基板搬运装置上传输，而清洗液供应装置则是喷洒清洗液至基板上以 进行清洁程序。
然而，随着基板的尺寸逐渐加大，为了提高对大面积的基板的清洁效 果，有一种使用倾斜清洗的方式进行基板的清洁程序已被提出。然而，此 种倾斜清洗方式在对应于基板的较高部位与基板的较低部位处受到清洗液 的液压或流量会有分布不均的情形，因而使得基板整体的清洁效果不均匀， 导致产品质量受到影响。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的在于提供一种湿式清洗设备，能使基板上的各部位得到良好清洁效果。
本发明提出的一种湿式清洗设备，包括基板搬运装置以及清洗液供应 装置。基板搬运装置具有承载面，其中基板搬运装置的承载面具有倾斜角 度，因而承载面具有较高部位以及较低部位。清洗液供应装置设置于基板 搬运装置的上方，其中清洗液供应装置包括至少一清洗液供应管路以及多 个喷嘴。清洗液供应管路的延伸方向与基板搬运装置的承载面实质平行。 多个喷嘴装设于清洗液供应管路上，其中对应设置在承载面的较高部位的 喷嘴的清洗液喷出量总合大于对应设置于承载面的较低部位的喷嘴的清洗 液喷出量总合。
在本发明的一实施例中，上述的倾斜角度为2 8度。
在本发明的一实施例中，上述对应设置在承载面的较高部位的喷嘴的 分布密度大于对应设置于承载面的较低部位的喷嘴的分布密度。
在本发明的一实施例中，上述对应设置在承载面的较高部位与较低部 位之间的喷嘴的分布密度，介于对应设置在承载面的较高部位的喷嘴的分 布密度以及对应设置于承载面的较低部位的喷嘴的分布密度之间。
在本发明的一实施例中，上述喷嘴的分布密度是自对应设置于承载面 的较高部位逐渐往对应设置于承载面的较低部位降低。
在本发明的一实施例中，上述对应设置在承载面的较高部位的喷嘴的 清洗液喷出流速大于对应设置于承载面的较低部位的喷嘴的清洗液喷出流 速。
在本发明的一实施例中，上述对应设置在承载面的较高部位与较低部 位之间的喷嘴的清洗液喷出流速介于对应设置在承载面的较高部位的喷嘴 的清洗液喷出流速以及对应设置于承载面的较低部位的喷嘴的清洗液喷出 流速之间。
在本发明的一实施例中，上述的喷嘴的清洗液喷出流速是自对应设置 于承载面的较高部位逐渐往对应设置于承载面的较低部位降低。
6在本发明的一实施例中，上述对应设置在承载面的较高部位的喷嘴的 出口面积大于对应设置于承载面的较低部位的喷嘴的出口面积。
在本发明的一实施例中，上述对应设置在承载面的较高部位与较低部 位之间的喷嘴的出口面积，介于对应设置在承载面的较高部位的喷嘴的出 口面积以及对应设置于承载面的较低部位的喷嘴的出口面积之间。
在本发明的一实施例中，上述喷嘴的出口面积是自对应设置于承载面 的较高部位逐渐往对应设置于承载面之较低部位降低。
在本发明的一实施例中，上述对应设置在承载面的较高部位的喷嘴的 流量大于对应设置于承载面的较低部位的喷嘴的流量。
在本发明的一实施例中，上述对应设置在承载面的较高部位与较低部 位之间的喷嘴的流量介于对应设置在承载面的较高部位的喷嘴的流量以及 对应设置于该承载面的较低部位的喷嘴的流量之间。
在本发明的一实施例中，上述喷嘴的流量是自对应设置于承载面的较 高部位逐渐往对应设置于承载面的较低部位降低。
在本发明的一实施例中，上述清洗液供应管路的延伸方向与基板搬运 装置的行进方向实质垂直。
在本发明的一实施例中，上述位于清洗液供应管路两端的喷嘴分别与 承载面的较高部位以及较低部位对应。
基于上述，本发明所提出的湿式清洗设备，可由调整清洗液供应管路 上喷嘴设置的密度、喷嘴面积、清洗液的流速或流量，使清洗液在承载面 较高部份有较多的喷出量，因此可使基板上的各部位得到良好清洁效果。
图l:为本发明实施例1的一种湿式清洗设备示意图。 图2:为本发明实施例1的另一种喷嘴设置示意图。 图3:为本发明实施例2的一种湿式清洗设备示意图。图4:为本发明实施例2的另一种喷嘴设置示意图。 图5:为本发明实施例3的一种湿式清洗设备示意图。 附图标号-
200、 300、 400:湿式清洗设备
210:基板搬运装置 210a:承载面 220:清洗液供应装置 222:清洗液供应管路 224a、 224b:喷嘴
C:清洗液 D:延伸方向 H:较高部位 L:较低部位 M:行进方向 S:基板
e:倾斜角度
具体实施例方式
为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配 合附图详细说明如下。 实施例1
图1为本发明实施例1的一种湿式清洗设备示意图。请参照图1，在本 实施例中，湿式清洗设备200包括基板搬运装置210以及清洗液供应装置
220。基板搬运装置210具有承载面210a，其中基板搬运装置210的承载面 210a具有倾斜角度e，因此承载面210a具有较高部位H以及较低部位L。 清洗液供应装置220设置于基板搬运装置210的上方，其中清洗液供应装置220包括至少一清洗液供应管路222以及多个喷嘴224a。清洗液供应管 路222的延伸方向D与基板搬运装置210的承载面210a实质平行。多个喷 嘴224a装设于清洗液供应管路222上，其中对应设置在承载面210a的较 高部位H的喷嘴224a的清洗液C喷出量总合，大于对应设置于承载面210a 的较低部位L的喷嘴224a的清洗液C喷出量总合，以达到良好的洗净效果。
针对上述的湿式清洗设备200，所要说明的是，其中承载面210a所具 有的倾斜角度e，其范围可以在2 8度之间，在此范围内可使清洗液C有 效带走基板S上的悬浮粒子(未绘示)或其它脏污以避免残留，且基板S也 不致于在承载面210a上滑动。此外，上述清洗液供应管路222的延伸方向 D与基板搬运装置210的行进方向M实质上是可彼此垂直的。而位于清洗液 供应管路222两端的喷嘴224a，则可分别与承载面210a的较高部位H以及 较低部位L对应，其可以与承载面210a的较高部位H以及较低部位L对齐 设置或是略超出承载面210a的较高部位H以及较低部位L的位置，以确保 基板S容置于洗净范围内。另外，本发明不限制清洗液供应管路222的数 量，本实施例的图式所绘示的清洗液供应管路222仅是用以说明本发明。
请继续参照图1，在本实施例中特别要注意的是，上述对应设置在承载 面210a的较高部位H的喷嘴224a，其分布密度可大于对应设置于承载面 210a的较低部位L的喷嘴224a分布密度。而对应设置在承载面210a的较 高部位H与较低部位L之间的喷嘴224a的分布密度，则可介于对应设置在 承载面210a的较高部位H的喷嘴224a的分布密度，以及对应设置于承载 面210a的较低部位L的喷嘴224a的分布密度之间。然而，本发明并不以 此为限，对应设置在承载面210a的较高部位H与较低部位L之间的喷嘴224a 的分布密度，可视承载面210a的倾斜角度e、承载面210a所搬运的基板S 尺寸及摆放位置、或是其它考虑而作调整。换言之，本实施例的喷嘴224a 的分布密度是以三种密度分布于对应在承载面210a的较高部位H、较低部 位L以及位于较高部位与较低部位L之间的中间部位。然而，在其它的实
9施例中，也可以仅设计两种喷嘴密度，或是设计四种或以上的喷嘴密度， 但不限于此，可依实际需求调整。
图2为本发明实施例1的另一种喷嘴设置示意图。请参照图2，除了上
述可在对应承载面210a的不同部作分段式的喷嘴分布密度外，在本发明的 另一实施例中，喷嘴224a的分布密度还可以自对应设置于承载面210a的 较高部位H逐渐往对应设置于承载面210a的较低部位L降低。
在上述实施例中，由于清洗液C由喷嘴224a喷洒至承载面210a上的 基板S，而此时较高部位H的喷嘴224a分布密度较大，其意味着在较高部 位H中会有较多的清洗液C被喷洒至基板S上，因此可以改善基板S在对 应较高部位H所被喷洒的清洗液C与于较低部位L所被喷洒的清洁液C不 均所导致基板整体清洁不均匀的问题，而使基板S的整体清洗效果得到提 高。
实施例2
图3为本发明实施例2的一种湿式清洗设备示意图。请参照图3，本发 明实施例2的湿式清洗设备300，其设置大致和实施例1相同，其主要的差 异在于，本实施例是通过调整喷嘴224b的出口面积，而达到使对应设置在 承载面210a的较高部位H的喷嘴224b的清洗液C喷出量总合大于对应设 置于承载面210a的较低部位L的喷嘴224b的清洗液C喷出量总合的效果。 如图3所示，在对应设置在承载面S的较高部位H的喷嘴224b，可各具有 相同大小的出口面积，且此出口面积大于对应设置在承载面210a的较低部 位L的喷嘴224b的出口面积。至于对应设置在较高与较低部位H、 L之间 的喷嘴224b，其出口面积的大小则可介于高低两部位H、 L的喷嘴224b出 口面积之间。类似地，此处仅为举例说明，上述对应设置在较高与较低部 位H、 L之间喷嘴224b的出口面积还可以根据实际情况加以设计，只要能 使较高部位H的清洗液C喷出量总和大于较低部位L，皆在本发明所涵盖的
10范围。换言之，本实施例的喷嘴224b的出口面积是以三种出口面积于对应在承载面210a的较高部位H、较低部位L以及位于较高部位H与较低部位L之间的中间部位。然而，在其它的实施例中，也可以仅设计两种出口面积，或是设计四种或以上的出口面积，但不限于此，可依实际需求调整。
图4为本发明实施例2的另一种喷嘴设置示意图。请参照图4，承上述，喷嘴224b除了可以在不同部位有不同的出口面积外，在另一实施例中，喷嘴224b的出口面积还可以自对应设置于承载面210a的较高部位H逐渐往承载面210a的较低部位L降低。
实施例3
图5为本发明实施例3的一种湿式清洗设备示意图。请参照图5，本发明实施例3的湿式清洗设备400，其设置大致和实施例1相同，其主要的差异在于，本实施例的湿式清洗设备400是通过调整喷嘴224a的清洗液C喷出流速或流量，而达到使对应设置在承载面210a的较高部位H的喷嘴224a的清洗液C喷出量总合大于对应设置于承载面210a的较低部位L的喷嘴224b的清洗液C喷出量总合的效果。对应设置在承载面210a的较高部位H的喷嘴224a的清洗液C喷出流速或流量，可大于对应设置于承载面210a的较低部位L的喷嘴224a的清洗液C喷出流速或流量。而对应设置在承载面210a的较高部位H与较低部位L之间的喷嘴224a的清洗液C喷出流速或流量，则可介于对应设置在承载面210a的较高部位H的喷嘴224a的清洗液C喷出流速或流量、以及对应设置于承载面210a的较低部位L的喷嘴224a的清洗液C喷出流速或流量之间。同样地，本发明也可使喷嘴224a在不同部分可具有不同流速或流量。更详细而言，本实施例的喷嘴224a的流速或流量是以三种流速或流量于对应在承载面210a的较高部位H、较低部位L以及位于较高部位与较低部位L之间的中间部位。然而，在其它的实施例中，也可以仅设计两种流速或流量，或是设计四种或以上的流速或流
ii量，但不限于此，可依实际需求调整。
此外，还可根据承载面210a的倾斜角度e，或其它的考虑，使喷嘴224a在不同部位具有不同的清洗液C喷出流速或流量。举例来说，在本发明的另一实施例中，上述喷嘴224a的清洗液C喷出流速或流量，也可以自对应设置于承载面210a的较高部位H逐渐往承载面210a的较低部位L降低。
实际使用时，例如可加装流速控制器420，使对应设置在承载面210a的较高部位H的喷嘴224a可具有较大流速或流量。当然，其它还有许多可以控制喷嘴224a流速或流量的方法，此处的流速控制器420仅为举例说明，
并非用以限定本发明。
基本上，只要能够使对应于承载面210a较高部分H的清洗液C喷出量总和，大于对应较低部分L的清洗液C喷出量总和，皆符合本发明的精神。
综上所述，本发明的湿式清洗设备至少具有下列优点
通过调整喷嘴设置的密度、出口面积、清洗液的流速或流量，可使清洗液在承载面较高的位置有较多的喷出量，因而改善了较高部位清洁效果不佳的问题，使基板整体有较佳的洁净度。
虽然本发明已以具体实施例揭示，但其并非用以限定本发明，任何本领域的技术人员，在不脱离本发明的构思和范围的前提下所作出的等同组件的置换，或依本发明专利保护范围所作的等同变化与修饰，皆应仍属本专利涵盖之范畴。
权利要求
1. 一种湿式清洗设备，其特征在于该湿式清洗设备包括一基板搬运装置，其具有一承载面，其中该基板搬运装置的该承载面具有一倾斜角度，因而该承载面具有一较高部位以及一较低部位；一清洗液供应装置，设置于基板搬运装置的上方，其中该清洗液供应装置包括至少一清洗液供应管路，该清洗液供应管路的延伸方向与该基板搬运装置的该承载面实质平行；多个喷嘴，装设于该清洗液供应管路上，其中对应设置在该承载面的该较高部位的该些喷嘴的清洗液喷出量总合大于对应设置于该承载面的该较低部位的该些喷嘴的清洗液喷出量总合。
2. 如权利要求1所述的湿式清洗设备，其特征在于该倾斜角度为2 8度。
3. 如权利要求1所述的湿式清洗设备，其特征在于对应设置在该承 载面的该较高部位的该些喷嘴的分布密度大于对应设置于该承载面的该较 低部位的该些喷嘴的分布密度。
4. 如权利要求1所述的湿式清洗设备，其特征在于对应设置在该承 载面的该较高部位与较低部位之间的该些喷嘴的分布密度介于对应设置在 该承载面的该较高部位的该些喷嘴的分布密度以及对应设置于该承载面的 该较低部位的该些喷嘴的分布密度之间。
5. 如权利要求1所述的湿式清洗设备，其特征在于该些喷嘴的分布 密度是自对应设置于该承载面的该较高部位逐渐往对应设置于该承载面的 该较低部位降低。
6. 如权利要求1所述的湿式清洗设备，其特征在于对应设置在该承 载面的该较高部位的该些喷嘴的清洗液喷出流速大于对应设置于该承载面的该较低部位的该些喷嘴的清洗液喷出流速。
7. 如权利要求1所述的湿式清洗设备，其特征在于对应设置在该承 载面的该较高部位与该较低部位之间的该些喷嘴的清洗液喷出流速介于对 应设置在该承载面的该较高部位的该些喷嘴的清洗液喷出流速以及对应设 置于该承载面的该较低部位的该些喷嘴的清洗液喷出流速之间。
8. 如权利要求1所述的湿式清洗设备，其特征在于该些喷嘴的清洗 液喷出流速是自对应设置于该承载面的该较高部位逐渐往对应设置于该承 载面的该较低部位降低。
9. 如权利要求1所述的湿式清洗设备，其特征在于对应设置在该承 载面的该较高部位的该些喷嘴的出口面积大于对应设置于该承载面的该较 低部位的该些喷嘴的出口面积。
10. 如权利要求l所述的湿式清洗设备，其特征在于对应设置在该承 载面的较高部位与较低部位之间的该些喷嘴的出口面积介于对应设置在该 承载面的该较高部位的该些喷嘴的出口面积以及对应设置于该承载面的该 较低部位的该些喷嘴的出口面积之间。
11. 如权利要求l所述的湿式清洗设备，其特征在于该些喷嘴的出口 面积是自对应设置于该承载面的该较高部位逐渐往对应设置于该承载面的 该较低部位降低。
12. 如权利要求l所述的湿式清洗设备，其特征在于对应设置在该承 载面的该较高部位的该些喷嘴的流量大于对应设置于该承载面的该较低部 位的该些喷嘴的流量。
13. 如权利要求1所述的湿式清洗设备，其特征在于对应设置在该承载面的较高部位与较低部位之间的该些喷嘴的流量介于对应设置在该承载 面的该较高部位的该些喷嘴的流量以及对应设置于该承载面的该较低部位 的该些喷嘴的流量之间。
14. 如权利要求1所述的湿式清洗设备，其特征在于该些喷嘴的流量是自对应设置于该承载面的该较高部位逐渐往对应设置于该承载面的该较 低部位降低。
15. 如权利要求l所述的湿式清洗设备，其特征在于该清洗液供应管 路的延伸方向与该基板搬运装置的行进方向实质垂直。
16. 如权利要求1所述的湿式清洗设备，其特征在于位于该清洗液供 应管路两端的喷嘴分别与该承载面的该较高部位以及该较低部位对应。
全文摘要
本发明为一种湿式清洗设备，包括基板搬运装置以及清洗液供应装置。基板搬运装置具有承载面，且承载面具有倾斜角度，因而承载面具有较高部位以及较低部位。清洗液供应装置设置于基板搬运装置的上方，其中清洗液供应装置包括至少一清洗液供应管路以及多个喷嘴。清洗液供应管路的延伸方向与基板搬运装置的承载面实质平行。多个喷嘴装设于清洗液供应管路上，其中对应设置在承载面的较高部位的喷嘴的清洗液喷出量总合，大于对应设置于承载面的较低部位的喷嘴的清洗液喷出量总合。
文档编号B08B3/00GK101474622SQ200910004319
公开日2009年7月8日 申请日期2009年2月6日 优先权日2009年2月6日
发明者林宗融, 苏德修 申请人:友达光电股份有限公司