一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机的制作方法

文档序号:1336884阅读:469来源:国知局
专利名称:一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机的制作方法
技术领域
本实用新型涉及光电领域,具体涉及一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机。
背景技术
光电领域中,硅是非常重要和常用的半导体原料,是太阳能电池最理想的原材料。制备硅片的原料表面一般都会有杂质和一些氧化物,必须要经过清洗后才能进入后续工序使用。由于硅原料的表面状况不一,许多表面没有杂质或氧化物的原料经常因为没有被及时筛选出,而同样进行酸洗,造成原料的浪费,增加了生产成本。
发明内容本实用新型的目的在于克服现有技术的不足,提供一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机,使表面没有杂质或氧化物的硅原料经过冲洗后直接进行超声清洗。本实用新型所采取的技术方案是一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机,包括箱体,所述箱体依次设有控制箱、清洗水槽和水箱,所述清洗水槽上方分别设有盖板,所述清洗水槽分为超声清洗水槽和冲淋清洗水槽。本实用新型进一步改进方案是,所述冲淋清洗水槽的底面中心纵向设有排水槽。本实用新型更进一步改进方案是,所述排水槽上固定有漏水板,所述漏水板的表面均匀分布有漏水孔。本实用新型更进一步改进方案是,所述冲淋清洗水槽内的底面上放置有支撑架,冲淋清洗水槽的左右两侧面顶部分别对称固定有冲淋水管。本实用新型更进一步改进方案是,所述冲淋水管上均匀分布有出水口。本实用新型更进一步改进方案是,所述超声清洗水槽设有超声发生器。本实用新型更进一步改进方案是,所述盖板顶面的中心设有提拉装置,盖板底面四周边缘部位设有密封条。本实用新型的有益效果在于用本实用新型进行硅原料的清洗时,先将硅原料通过冲淋清洗水槽进行冲洗,之后将冲洗过的硅原料进行分类表面有杂质或氧化物的硅原料进行酸洗后再进行超声清洗,表面没有杂质或氧化物的直接进行超声清洗即可。从上述工作过程可知,用本实用新型进行硅原料的清洗,既方便快捷、工作效率高,又能节约成本、降低损耗。


图1为本实用新型结构主视示意图。图2为冲淋清洗水槽结构剖视放大示意图。图3为冲淋清洗水槽结构俯视放大示意图。
具体实施方式
结合图1、图2和图3所示,本实用新型包括箱体5,所述箱体5依次设有控制箱2、清洗水槽I和水箱3,所述清洗水槽I上方分别设有盖板4,所述清洗水槽I分为超声清洗水槽I’’和冲淋清洗水槽I’ ;所述冲淋清洗水槽I’的底面中心纵向设有排水槽9 ;所述排水槽9上固定有漏水板6,所述漏水板6的表面均匀分布有漏水孔12 ;所述冲淋清洗水槽I’内的底面上放置有支撑架8,冲淋清洗水槽I’的左右两侧面顶部分别对称固定有冲淋水管7 ;所述冲淋水管7上均匀分布有出水口 ;所述超声清洗水槽I’’设有超声发生器;所述盖板4顶面的中心设有提拉装置11,盖板4底面四周边缘部位设有密封条10。
权利要求1.一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机,包括箱体(5),所述箱体(5)依次设有控制箱(2)、清洗水槽(I)和水箱(3),所述清洗水槽(I)上方分别设有盖板(4),其特征在于所述清洗水槽(I)分为超声清洗水槽(I ’ ’)和冲淋清洗水槽(I ’)。
2.如权利要求1所述的一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机,其特征在于所述冲淋清洗水槽(I’)的底面中心纵向设有排水槽(9)。
3.如权利要求2所述的一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机,其特征在于所述排水槽(9)上固定有漏水板(6),所述漏水板(6)的表面均匀分布有漏水孔(12)。
4.如权利要求1所述的一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机,其特征在于所述冲淋清洗水槽(I’)内的底面上放置有支撑架(8),冲淋清洗水槽(I’)的左右两侧面顶部分别对称固定有冲淋水管(7 )。
5.如权利要求4所述的一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机,其特征在于所述冲淋水管(7)上均匀分布有出水口。
6.如权利要求1所述的一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机,其特征在于所述超声清洗水槽(I’ ’)设有超声发生器。
7.如权利要求1所述的一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机,其特征在于所述盖板(4)顶面的中心设有提拉装置(11),盖板(4)底面四周边缘部位设有密封条(10)。
专利摘要本实用新型公开了一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机,一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机,包括箱体,所述箱体依次设有控制箱、清洗水槽和水箱,所述清洗水槽上方分别设有盖板,所述清洗水槽分为超声清洗水槽和冲淋清洗水槽。用本实用新型进行硅原料的清洗时,先将硅原料通过冲淋清洗水槽进行冲洗,之后将冲洗过的硅原料进行分类表面有杂质或氧化物的硅原料进行酸洗后再进行超声清洗,表面没有杂质或氧化物的直接进行超声清洗即可。从上述工作过程可知,用本实用新型进行硅原料的清洗,既方便快捷、工作效率高,又能节约成本、降低损耗。
文档编号B08B3/12GK202845376SQ201220542340
公开日2013年4月3日 申请日期2012年10月23日 优先权日2012年10月23日
发明者张凌松 申请人:宿迁宇龙光电科技有限公司
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