一种乳腺癌术后患侧上肢康复自动训练装置的制作方法

本实用新型涉及医疗康复器械，特别涉及一种乳腺癌术后患侧上肢康复自动训练装置。

背景技术：

乳腺癌术后并发症主要有出血、积液、上肢水肿及患侧上肢抬举受限等，乳腺癌根治术后，由于淋巴系统受到破坏，来自臂部的淋巴回流不畅或静脉被结扎，造成蛋白质聚积于组织中，使渗透压升高，吸收水分而引起患者患肢淋巴水肿。且术后患者由于惧痛，一般均拒绝主动活动上肢，导致上肢长时间不张开，影响患侧上肢的张开功能，使患者承受较大痛苦，严重影响生活质量。因此，目前需要一种应用于乳腺癌术后的康复装置，避免手术患者手臂不张开的现象，利于患侧上肢功能的康复锻炼，有助于腋窝皮瓣下积液的排出，从而使康复后的上肢恢复原有功能，缩短康复周期，减轻手术带来的痛苦。

技术实现要素：

本实用新型目的是：提供一种乳腺癌术后患侧上肢康复自动训练装置，缩短康复周期，减轻手术带来的痛苦。

本实用新型的技术方案是：

一种乳腺癌术后患侧上肢康复自动训练装置，包括竖直固定的支撑架，所述支撑架包括竖直平行设置的左、右支撑板，所述左、右支撑板的上部中间设有从动转轴，下部中间设有主动转轴，所述主动转轴由电机驱动转动，主动转轴与从动转轴之间通过同步带连接，所述同步带外侧表面均匀固定有手抓的抓板。

优选的，所述左、右支撑板的顶部之间通过顶盖板连接固定，左、右支撑板的底部固定于安装台上。

优选的，所述电机的输出转轴与主动转轴之间通过齿轮啮合传动，用以降低主动转轴的转速。

优选的，所述电机与控制单元连接，所述控制单元由触控屏连接控制和显示训练信息。

优选的，所述同步带边侧设有一磁性元件，与其同一侧的支撑板上设有用于统计运动量的磁感应器，所述磁感应器连接到控制单元。

优选的，所述电机是直线电机。

优选的，所述支撑架还包括后方的防护板，所述防护板分别与左、右支撑板、顶盖板相固定。

优选的，所述触摸屏设置好同步带自动循环转动速度，乳腺癌术后患者手抓同步带上的抓板，在同步带的带动下，慢慢抬高手臂，达到电力辅助训练的目的。

电力辅助训练一定的幅度和时间后，停止皮带轮自动循环转动，患者自行抓举攀爬，人力带动皮带转，达到主动训练的目的。

本实用新型的优点是：

本实用新型所提供的乳腺癌术后患侧上肢康复自动训练装置，采用竖直设置的由电机驱动的同步带，并在同步带外侧表面均匀固定有手抓的抓板，乳腺癌术后患者手抓同步带上的抓板，在同步带的带动下，慢慢抬高手臂，达到电力辅助训练的目的；电力辅助训练一定的幅度和时间后，停止皮带轮自动循环转动，患者自行抓举攀爬，人力带动皮带转，达到主动训练的目的；本实用新型利于患侧上肢功能的康复锻炼，有助于腋窝皮瓣下积液的排出，从而使康复后的上肢恢复原有功能，缩短康复周期，减轻手术带来的痛苦。

附图说明

下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述：

图1为本实用新型所述的乳腺癌术后患侧上肢康复自动训练装置的结构原理图；

图2本实用新型所述的乳腺癌术后患侧上肢康复自动训练装置的电控原理图。

具体实施方式

如图1所示，本实用新型所提供的乳腺癌术后患侧上肢康复自动训练装置，包括竖直固定的支撑架1，所述支撑架包括竖直平行设置的左支撑板11、右支撑板12，所述左、右支撑板的顶部之间通过顶盖板13连接固定，左、右支撑板的底部固定于安装台14上，所述支撑架还包括后方的防护板，所述防护板分别与左、右支撑板、顶盖板相固定。所述左、右支撑板的上部中间设有从动转轴2，下部中间设有主动转轴3，所述主动转轴由电机W驱动转动，主动转轴3与从动转轴2之间通过同步带4连接，所述同步带外侧表面均匀固定有手抓的抓板5。

所述电机W是直线电机，其输出转轴与主动转轴3之间通过齿轮6啮合传动，通过采用较高的齿轮比例，可以大幅地降低主动转轴3的相对转速。

如图2所示，所述电机与控制单元连接，所述控制单元由触控屏7连接控制和显示训练信息。所述同步带边侧设有一磁性元件，与其同一侧的支撑板上设有用于统计运动量的磁感应器，所述磁感应器连接到控制单元。当磁性元件每接近一次磁感应器时，磁感应器响应触发，向控制单元发送触发信号，控制单元统计累加一圈的训练量，训练量的信息，即使在触摸屏上显示。

具体实施时，通过触摸屏设置好同步带自动循环转动速度，乳腺癌术后患者站在安装台上，手抓同步带上的抓板，在同步带的带动下，慢慢抬高手臂，达到电力辅助训练的目的。电力辅助训练一定的幅度和时间后，停止皮带轮自动循环转动，患者自行抓举攀爬，人力带动皮带转，达到主动训练的目的。电力辅助训练与主动训练相结合，利于患侧上肢功能的康复锻炼，有助于腋窝皮瓣下积液的排出，从而使康复后的上肢恢复原有功能，缩短康复周期，减轻手术带来的痛苦。

上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型主要技术方案的精神实质所做的修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。