1.一种烤盘结构，其特征在于，所述烤盘结构用于烘焙器具，所述烤盘结构包括：
烤盘本体；
多个模腔，分散地设置在所述烤盘本体的底面上，每个所述模腔包括由所述烤盘本体的底面向外凸出的第一凹槽，在所述第一凹槽的底壁上设置有至少一个向外凸出的第二凹槽和/或在所述烤盘本体的底面设置有至少一个向内凸出的第一凸起，所述第一凸起围绕在所述第一凹槽的外周且与所述第一凹槽之间具有预设距离。
2.根据权利要求1所述的烤盘结构，其特征在于，
所述第二凹槽位于在所述第一凹槽的底壁的几何中心处，所述第一凹槽的底面在所述第二凹槽向外凸出后形成为圆环形；和/或
所述第一凹槽的底面为圆形，且所述第一凸起为环形结构。
3.根据权利要求1所述的烤盘结构，其特征在于，
将所述第一凹槽的侧壁和所述第二凹槽的侧壁设置为倾斜结构；和/或
将所述第一凹槽的侧壁和所述第一凸起的侧壁设置为倾斜结构。
4.根据权利要求1所述的烤盘结构，其特征在于，
所述第一凹槽的侧壁与底壁的连接处具有倒角；和/或
所述第二凹槽的侧壁与底壁的连接处具有倒角；和/或
所述第一凸起的顶壁与侧壁连接处具有倒角；和/或
所述烤盘本体的底面与所述第二凹槽的侧壁的连接处具有倒角；和/或
所述烤盘本体的底面与所述第一凸起的侧壁的连接处具有倒角。
5.根据权利要求1所述的烤盘结构，其特征在于，
所述第二凹槽的数量为多个，多个所述第二凹槽依次堆叠设置，且多个所述第二凹槽的底面面积依次减小，使得各个所述第二凹槽的底面所处的高度均不同。
6.根据权利要求1所述的烤盘结构，其特征在于，
所述第一凸起的数量为多个，多个所述第一凸起依次围绕设置在所述第一凹槽的外周，多个所述第一凸起的高度不相同，且在任意相邻两个所述第一凸起中，靠近所述第一凹槽的所述第一凸起的高度小于远离所述第一凹槽的所述第一凸起的高度。
7.根据权利要求1所述的烤盘结构，其特征在于，
相邻的两个所述模腔之间具有预设距离。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的烤盘结构，其特征在于，
将所述第一凹槽的底面宽度设置为大于等于50mm，将所述第二凹槽的底面宽度设置为大于等于26mm；或
将所述第一凹槽的底面宽度设置为大于等于26mm，将第一凸起内壁围合区域的宽度设置为大于等于50mm。
9.根据权利要求1至7中任一项所述的烤盘结构，其特征在于，
所述烤盘结构为一体式结构。
10.一种烘焙器具，其特征在于，所述烘焙器具包括如权利要求1至9中任一项所述的烤盘结构。