盖板玻璃的制作方法
【专利摘要】一种盖板玻璃，包括依次层叠的玻璃基板、折射率调整层及耐磨层，所述折射率调整层包括第一低折射率透明光学膜、高折射率透明光学膜及第二低折射率透明光学膜，该第一低折射率透明光学膜形成于玻璃基板表面，该高折射率透明光学膜形成于该第一低折射率透明光学膜的远离玻璃基板一侧的表面，该第二低折射率透明光学膜形成于该耐磨层的表面并位于该耐磨层与高折射率透明光学膜之间，所述第一、第二低折射率透明光学膜的折射率为1.38～1.6，该高折射率透明光学膜的折射率为1.6～2.4，所述耐磨层为折射率大于该第一、第二低折射率透明光学膜的透明光学膜。上述有盖板玻璃的透光率较高。
【专利说明】盖板玻璃
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及电子器件领域，特别是涉及一种玻璃盖板。
【背景技术】
[0002]触控面板由于其操作便利性等优点广泛的应用于智能手机及平板电脑等电子设备。触控面板包括一盖板玻璃。盖板玻璃位于触控面板的最外层，从而在触控面板使用过程中经常与使用者接触。同时，作为触控面板的一部分，需要盖板玻璃透光率较高。然而，目前盖板玻璃的透光率较差。
实用新型内容
[0003]基于此，有必要提供一种透光率较高的盖板玻璃。
[0004]一种盖板玻璃，包括依次层叠的玻璃基板、折射率调整层及耐磨层，所述折射率调整层包括第一低折射率透明光学膜、高折射率透明光学膜及第二低折射率透明光学膜，该第一低折射率透明光学膜形成于玻璃基板表面，该高折射率透明光学膜形成于该第一低折射率透明光学膜的远离玻璃基板一侧的表面，该第二低折射率透明光学膜形成于该耐磨层的表面并位于该耐磨层与高折射率透明光学膜之间，所述第一、第二低折射率透明光学膜的折射率为1.38?1.6，该高折射率透明光学膜的折射率为1.6?2.4，所述耐磨层为折射率大于该第一、第二低折射率透明光学膜的透明光学膜。
[0005]在其中一个实施例中，所述折射率调整层还包括设置于所述高折射率透明光学膜与第二低折射率透明光学膜之间的至少两层透明光学膜，使得该折射率调整层具有高、低折射率透明光学膜交替层叠的结构。
[0006]在其中一个实施例中，所述耐磨层为Si3N4膜，折射率为2.1。
[0007]在其中一个实施例中，所述高折射率透明光学膜的厚度为IOnm?30nm。
[0008]在其中一个实施例中，所述第一低折射率透明光学膜及所述第二低折射率透明光学膜的厚度为IOnm?30nm。
[0009]在其中一个实施例中，所述耐磨层的厚度为20nm?40nm。
[0010]在其中一个实施例中，所述玻璃基板的厚度为0.3mm?1.0mm。
[0011]在其中一个实施例中，所述玻璃基板的折射率为1.51。
[0012]上述盖板玻璃，耐磨层为折射率大于第一、第二低折射率透明光学膜的透明光学膜，折射率调整层和耐磨层形成由高折射率透明光学膜和低折射率透明光学膜交替层叠的结构，符合高透过率的折射率高低交替的原理，因此，上述盖板玻璃的透光率较高。
【专利附图】
【附图说明】
[0013]图1为一实施方式的盖板玻璃的结构示意图；
[0014]图2为另一实施方式的盖板玻璃的结构示意图；
[0015]图3为一实施方式的盖板玻璃的制备方法的流程图。【具体实施方式】
[0016]为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容的理解更加透彻全面。
[0017]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的【技术领域】的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。
[0018]如图1所示，一实施方式的盖板玻璃100，包括依次层叠的玻璃基板110、折射率调整层130及耐磨层150。
[0019]玻璃基板110的厚度为0.3mm?1.0mm。优选的，玻璃基板110的材料为硅铝酸盐玻璃，厚度为0.5mm。玻璃基板110的折射率优选为1.51。
[0020]折射率调整层130形成于玻璃基板110的表面。
[0021]在本实施方式中，该折射率调整层130包括依次层叠的第一低折射率透明光学膜132、高折射率透明光学膜134及第二低折射率透明光学膜136。其中该第一低折射率透明光学膜132形成于玻璃基板110表面,该高折射率透明光学膜134形成于该第一低折射率透明光学膜132的远离玻璃基板110 —侧的表面，该第二低折射率透明光学膜136形成于该耐磨层150的表面并位于该耐磨层150及高折射率透明光学膜134之间。
[0022]在图1所示的实施方式中，折射率调整层130共包括三层透明光学膜，当然，在其他实施方式中，该射率调整层130可以包括更多透明光学膜，在高折射率光学膜134及第二低折射率136之间还可以设有至少两层透明光学膜，保证折射率调整层130整体上具有高、低折射率透明光学膜交替层叠的结构。请参阅图2，在图2所示的实施方式中，折射率调整层130共包括七层透明光学膜，七层透明光学膜依次层叠并保证折射率调整层130整体上具有高、低折射率透明光学膜交替层叠的结构。
[0023]第一低折射率透明光学膜132的折射率为1.38?1.6。第一低折射率透明光学膜132的材料选自Si0、Si02&MgF2中的至少一种，优选为Si02。第一低折射率透明光学膜132的厚度为IOnm?30nm。SiO、SiO2及MgF2与玻璃基板110的结合力较好。
[0024]高折射率透明光学膜134的折射率为1.6?2.4。高折射率透明光学膜134的材料选自Si3N4、Ti02、Nb2O5、Ta2O5及ZrO2中的至少一种，优选为Si3N4或Ti02。高折射率透明光学膜的厚度为IOnm?30nm。
[0025]第二低折射率透明光学膜136的折射率为1.38?1.6。第二低折射率透明光学膜136的材料选自Si0、Si02&MgF2中的至少一种，优选为Si02。第二低折射率透明光学膜136的厚度为IOnm?30nm。
[0026]耐磨层150形成于折射率调整层130的表面。耐磨层150位于折射率调整层130远离玻璃基板110—侧。耐磨层150为折射率大于该第一、第二低折射率透明光学膜的透明光学膜。优选的，耐磨层150为Si3N4膜，折射率为2.1。当然，耐磨层150还可为其他耐磨膜层，只要折射率大于第一低折射率透明光学膜132、第二低折射率透明光学膜136即可。耐磨层150的厚度为20nm?40nm。[0027]上述盖板玻璃100，耐磨层150为折射率大于第一低折射率透明光学膜132、第二低折射率透明光学膜136的透明光学膜，折射率调整层130和耐磨层150形成由高折射率透明光学膜和低折射率透明光学膜交替层叠的结构，符合高透过率的折射率高低交替的原理，因此，上述盖板玻璃100的透光率较高；耐磨层150为Si3N4膜，耐磨性能较好；折射率调整层130的第一低折射率透明光学膜132的材料选自Si0、Si02&MgF2中的至少一种，低折射率透明光学膜132与玻璃基板110的结合力较好，从而可以增加耐磨层150与玻璃基板110之间的结合力，使得盖板玻璃100性能较为稳定。
[0028]请同时参阅图3，一实施方式的盖板玻璃100的制备方法，包括以下步骤:
[0029]步骤S10、对玻璃基板110进行预处理。
[0030]具体在本实施方式中，预处理为依次对玻璃基板110进行化学试剂清洗、超声波清洗及水清洗，清洗结束后烘干待用。
[0031]玻璃基板110的厚度为0.3mm?1.0mm。优选的，玻璃基板110的材料为硅铝酸盐玻璃，厚度为0.5mm。玻璃基板110的折射率优选为1.51。
[0032]需要说明的是，当玻璃基板110的表面较为干净时，无需清洗，此时步骤SlO可以省略。
[0033]步骤S20、在玻璃基板110表面磁控溅射制备折射率调整层130。
[0034]折射率调整层130形成于玻璃基板110的表面。
[0035]在本实施方式中，该折射率调整层130包括依次层叠的第一低折射率透明光学膜132、高折射率透明光学膜134及第二低折射率透明光学膜136。其中该第一低折射率透明光学膜132形成于玻璃基板110表面,该高折射率透明光学膜134形成于该第一低折射率透明光学膜132的远离玻璃基板110 —侧的表面，该第二低折射率透明光学膜136形成于该耐磨层150的表面并位于该耐磨层150及高折射率透明光学膜134之间。
[0036]在图1所示的实施方式中，折射率调整层130共包括三层透明光学膜，当然，在其他实施方式中，该射率调整层130可以包括更多透明光学膜，在高折射率光学膜134及第二低折射率136之间还可以设有至少两层透明光学膜，保证折射率调整层130整体上具有高、低折射率透明光学膜交替层叠的结构。请参阅图2，在图2所示的实施方式中，折射率调整层130共包括七层透明光学膜，七层透明光学膜依次层叠并保证折射率调整层130整体上具有高、低折射率透明光学膜交替层叠的结构。
[0037]第一低折射率透明光学膜132的折射率为1.38?1.6。第一低折射率透明光学膜132的材料选自Si0、Si02&MgF2中的至少一种，优选为Si02。第一低折射率透明光学膜132的厚度为IOnm?30nm。SiO、SiO2及MgF2与玻璃基板110的结合力较好。
[0038]高折射率透明光学膜134的折射率为1.6?2.4。高折射率透明光学膜134的材料选自Si3N4、Ti02、Nb2O5、Ta2O5及ZrO2中的至少一种，优选为Si3N4或Ti02。高折射率透明光学膜的厚度为IOnm?30nm。
[0039]第二低折射率透明光学膜136的折射率为1.38?1.6。第二低折射率透明光学膜136的材料选自Si0、Si02&MgF2中的至少一种，优选为Si02。第二低折射率透明光学膜136的厚度为IOnm?30nm。
[0040]具体在本实施方式中，磁控溅射制备折射率调整层130的参数为:本底真空度为1.0X10_6bar，镀膜腔的真空度为1.6 X 10_3bar，功率为100?350kw，载气为氩气与氧气的混合气体且氩气与氧气的体积比为300:40?200:200。
[0041]步骤S30、在低折射率调整层130的表面磁控溅射制备耐磨层150。
[0042]耐磨层150形成于折射率调整层130的表面。耐磨层150位于折射率调整层130远离玻璃基板110—侧。耐磨层150为折射率大于该第一、第二低折射率透明光学膜的透明光学膜。优选的，耐磨层150为Si3N4膜，折射率为2.1。当然，耐磨层150还可为其他耐磨膜层，只要折射率大于第一低折射率透明光学膜132、第二低折射率透明光学膜136即可。耐磨层150的厚度为20nm?40nm。
[0043]具体在本实施方式中，磁控溅射制备耐磨层150的参数为:本底真空度为1.0X10_6bar，镀膜腔的真空度为1.6 X 10_3bar，功率为100?350kw，载气为氩气与氧气的混合气体且氩气与氧气的体积比为300:40?200:200。
[0044]上述盖板玻璃100的制备方法简单；制备的盖板玻璃透光率高且耐磨性好。
[0045]以下结合具体实施例对上述盖板玻璃进行详细说明。
[0046]实施例1
[0047]实施例1的盖板玻璃的结构为玻璃基板/Si02(30nm)/Si3N4(IOnm)/Si02(30nm)/Si3N4 (40nm)。其中，“/”表示层叠结构，括号内的数值代表厚度，以下实施例相同。
[0048]实施例1的玻璃基板的材料为硅铝酸盐玻璃，厚度为1.0_。
[0049]实施例1的盖板玻璃通过使用测试仪器Lambda750光谱仪，对波长范围为380-780nm的光线进行测试，测试实验结果为可见光透过率为90%。
[0050]实施例1的盖板玻璃通过使用钢丝绒(steel wool)试验，钢丝绒上加重1kg，用钢丝绒反复摩擦盖板玻璃的耐磨面3000次,实施例1的盖板玻璃摩擦前后的雾度值差异为
0.5%。
[0051]实施例2
[0052]实施例2的盖板玻璃的结构为玻璃基板/Si02(20nm)/Si3N4(20nm)/Si02(20nm)/Si3N4 (30nm)。其中，“/”表示层叠结构，括号内的数值代表厚度，以下实施例相同。
[0053]实施例2的玻璃基板的材料为硅铝酸盐玻璃，厚度为0.7mm。
[0054]实施例2的盖板玻璃通过使用测试仪器Lambda750光谱仪，对波长范围为380-780nm的光线进行测试，测试实验结果为可见光透过率为90.5%。
[0055]实施例2的盖板玻璃通过使用钢丝绒(steel wool)试验，钢丝绒上加重lkg，用钢丝绒反复摩擦盖板玻璃的耐磨面3000次,实施例2的盖板玻璃摩擦前后的雾度值差异为
0.3%。
[0056]实施例3
[0057]实施例3的盖板玻璃的结构为玻璃基板/Si02(15nm)/Ti02(15nm)/Si02(15nm)/Si3N4 (25nm)。其中，“/”表示层叠结构，括号内的数值代表厚度，以下实施例相同。
[0058]实施例3的玻璃基板的材料为硅铝酸盐玻璃，厚度为0.5mm。
[0059]实施例3的盖板玻璃通过使用测试仪器Lambda750光谱仪，对波长范围为380-780nm的光线进行测试，测试实验结果为可见光透过率为91%。
[0060]实施例3的盖板玻璃通过使用钢丝绒(steel wool)试验，钢丝绒上加重lkg，用钢丝绒反复摩擦盖板玻璃的耐磨面3000次,实施例3的盖板玻璃摩擦前后的雾度值差异为0.2%。[0061]实施例4
[0062]实施例4的盖板玻璃的结构为玻璃基板/SiO2(IOnm)/Ti02 (30nm)/SiO2(IOnm)/Si3N4 (20nm)。其中，“/”表示层叠结构，括号内的数值代表厚度，以下实施例相同。
[0063]实施例4的玻璃基板的材料为硅铝酸盐玻璃，厚度为0.3mm。
[0064]实施例4的盖板玻璃通过使用测试仪器Lambda750光谱仪，对波长范围为380-780nm的光线进行测试，测试实验结果为可见光透过率为92%。
[0065]实施例4的盖板玻璃通过使用钢丝绒(steel wool)试验，钢丝绒上加重lkg，用钢丝绒反复摩擦盖板玻璃的耐磨面3000次,实施例4的盖板玻璃摩擦前后的雾度值差异为
0.5%。
[0066]实施例5
[0067]实施例5的盖板玻璃的结构为玻璃基板/Si02(30nm)/Si3N4(IOnm)/Si02(30nm)/Si3N4 (20nm) /SiO2 (30nm) /Si3N4 (30nm)。其中，“/”表示层叠结构，括号内的数值代表厚度，以下实施例相同。
[0068]实施例5的玻璃基板的材料为硅铝酸盐玻璃，厚度为0.7mm。
[0069]实施例5的盖板玻璃通过使用测试仪器Lambda750光谱仪，对波长范围为380-780nm的光线进行测试，测试实验结果为可见光透过率为92.7%。
[0070]实施例5的盖板玻璃通过使用钢丝绒(steel wool)试验，钢丝绒上加重lkg，用钢丝绒反复摩擦盖板玻璃的耐磨面3000次,实施例5的盖板玻璃摩擦前后的雾度值差异为
0.3%。
[0071]以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
【权利要求】
1.一种盖板玻璃，其特征在于，包括依次层叠的玻璃基板、折射率调整层及耐磨层，所述折射率调整层包括第一低折射率透明光学膜、高折射率透明光学膜及第二低折射率透明光学膜，该第一低折射率透明光学膜形成于玻璃基板表面，该高折射率透明光学膜形成于该第一低折射率透明光学膜的远离玻璃基板一侧的表面，该第二低折射率透明光学膜形成于该耐磨层的表面并位于该耐磨层与高折射率透明光学膜之间，所述第一、第二低折射率透明光学膜的折射率为1.38?1.6，该高折射率透明光学膜的折射率为1.6?2.4，所述耐磨层为折射率大于该第一、第二低折射率透明光学膜的透明光学膜。
2.根据权利要求1所述的盖板玻璃，其特征在于，所述折射率调整层还包括设置于所述高折射率透明光学膜与第二低折射率透明光学膜之间的至少两层透明光学膜，使得该折射率调整层具有高、低折射率透明光学膜交替层叠的结构。
3.根据权利要求1所述的盖板玻璃，其特征在于:所述耐磨层为Si3N4膜，折射率为2.1。
4.根据权利要求1所述的盖板玻璃，其特征在于，所述高折射率透明光学膜的厚度为IOnm ?30nmo
5.根据权利要求1所述的盖板玻璃，其特征在于，所述第一低折射率透明光学膜及所述第二低折射率透明光学膜的厚度为IOnm?30nm。
6.根据权利要求1所述的盖板玻璃，其特征在于，所述耐磨层的厚度为20nm?40nm。
7.根据权利要求1所述的盖板玻璃，其特征在于，所述玻璃基板的厚度为0.3mm?1.0mnin
8.根据权利要求1所述的盖板玻璃，其特征在于，所述玻璃基板的折射率为1.51。
【文档编号】B32B17/06GK203381287SQ201320461811
【公开日】2014年1月8日 申请日期:2013年7月30日 优先权日:2013年7月30日
【发明者】刘伟, 唐根初 申请人:深圳欧菲光科技股份有限公司, 南昌欧菲光科技有限公司, 苏州欧菲光科技有限公司