一种低辐射镀膜玻璃的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种低辐射镀膜玻璃，其包括玻璃基板，其主表面上支承有多层溅射层，所述溅射层包括低辐射层；其中，低辐射层的组成及其重量百分数为：Ag90~99.9%、La及/或Sm0.1~10%。本发明的低辐射镀膜玻璃选用了特殊的低辐射层，通过在银层中掺杂稀土La、Sm，银层中掺杂的La、Sm微量金属元素可以阻止银层氧化，提高银层的稳定性，进而使低辐射镀膜玻璃的保持稳定的低辐射率，而不受生产过程中的接触空气的影响。与不掺杂La、Sm的银层相比，本发明的低辐射镀膜玻璃具有改善的镀膜稳定性和辐射性能稳定性。此外，银层中掺杂的La、Sm同时还具有增加薄膜在基底上的均匀性和提高银膜附着力的作用。
【专利说明】
【技术领域】
[0001] 本发明涉及膜层稳定性高、辐射率低的低辐射镀膜玻璃。 一种低辐射镀膜玻璃
【背景技术】
[0002] 玻璃在当代的生产和生活中扮演着重要角色，建筑门窗、汽车车窗等各方面都用 到玻璃。玻璃家族中一个节能环保的新宠是低辐射镀膜玻璃，俗称为低辐射玻璃或Low-E 玻璃；其在玻璃表面溅射可以透过可见光、反射中、远红外线的膜层，从而减低玻璃表面的 辐射率，减少玻璃因热辐射而造成的传热损耗，提高玻璃的保温隔热能力。
[0003] 现有的低辐射镀膜玻璃的采用纯银薄膜作为低辐射层；其缺点是银层易发生氧化 损坏，外观发乌、变色，甚至还导致银层失效，使低辐射镀膜玻璃失去隔热保温功能，耐用性 差。为此，在纯银膜的两侧设置如金属氧化物膜等保护膜，为纯银膜提供保护，以增加其耐 用性。但是该保护膜对克服银层玻璃制品的生产过程的氧化不起保护作用；比如在去掉边 部镀层以组成中空玻璃环节中，银层还是不可避免地接触到空气，导致膜系稳定性差、辐射 性能发生异变。
【发明内容】
[0004] 本发明的目的在于克服现有技术中存在的缺陷，提供一种膜层及辐射性能稳定的 低辐射镀膜玻璃。
[0005] 为此，本发明的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板，其主表面上支承有多层溅射层， 所述溅射层包括低辐射层；其中，低辐射层的组成及其重量百分数为：银Ag 9(Γ99. 9%、镧 La及/或钐Sm 0· 1?10%。
[0006] 与现有技术相比，上述低辐射镀膜玻璃选用了特殊的低辐射层，通过在银层中掺 杂稀土 La、Sm，银层中掺杂的La、Sm微量金属元素可以阻止银层氧化，提高银层的稳定性， 进而使低辐射镀膜玻璃的保持稳定的低辐射率，而不受生产过程中的接触空气的影响。此 夕卜，银层中掺杂的La、Sm同时还具有增加薄膜在基底上的均匀性和提高银膜附着力的作 用。
[0007] 兼顾到成本和性能，优选地，所述低辐射层的组成及其重量百分数为：Ag 98. 5?99. 9%、La 及 / 或 Sm 0· 1 ?1. 5%。
[0008] 为了提高膜层的耐用性，克服沉积过程以及热处理加工过程中应力释放对溅射层 的耐用性产生负面影响，优选地，所述溅射层自玻璃基板向外依次包括第一电介质层、第一 保护层、第一低辐射层、第二保护层、第二电介质层。
[0009] 或者优选地，所述溅射层自玻璃基板向外依次包括第一电介质层、第一保护层、第 一低辐射层、第二保护层、第二电介质层、第三保护层、第二低辐射层、第四保护层、第三电 介质层。
[0010] 再或者优选地，所述溅射层自玻璃基板向外依次包括第一电介质层、第一保护层、 第一低辐射层、第二保护层、第二电介质层、第三保护层、第二低辐射层、第四保护层、第三 电介质层、第五保护层、第三低辐射层、第六保护层、第四电介质层。
[0011] 上述结构分别形成单银、双银、三银结构，且具有局部对称结构，从而可以一定程 度上克服沉积过程以及热处理加工过程中应力释放对溅射层的耐用性产生负面影响。
[0012] 上述结构中，保护层可以为NiCr膜层或钛膜层或铜膜层等。电介质层可以为钛氧 化物膜层、锡氧化物膜层、锌氧化物膜层、硅氧化物膜层。
[0013] 优选地，所述电介质层为钛氧化物膜层与锌氧化物膜层复合而成的复合层、或者 硅氮氧化物膜层与锌氧化物膜层复合而成的复合层；所述保护层为NiCr膜层。
[0014] 与现有技术相比，本发明的低辐射镀膜玻璃的优点和有益效果在于：本发明的低 辐射镀膜玻璃选用了特殊的低辐射层，通过在银层中掺杂稀土 La、Sm，银层中掺杂的La、Sm 微量金属元素可以阻止银层氧化，提高银层的稳定性，进而使低辐射镀膜玻璃的保持稳定 的低辐射率，而不受生产过程中的接触空气的影响。与不掺杂La、Sm的银层相比，本发明的 低辐射镀膜玻璃具有改善的镀膜稳定性和辐射性能稳定性。此外，银层中掺杂的La、Sm同 时还具有增加薄膜在基底上的均匀性和提高银膜附着力的作用。
【专利附图】
【附图说明】
[0015] 图1是实施例1中本发明的低辐射镀膜玻璃的截面结构示意图； 图2是实施例2中本发明的低辐射镀膜玻璃的截面结构示意图； 图3是实施例3中本发明的低辐射镀膜玻璃的截面结构示意图； 图4是实施例4中本发明的低辐射镀膜玻璃的截面结构示意图。
[0016] 图中：11至14、Si3N4膜层；21至24、Ti0 2膜层；31至36、NiCr膜层；41、第一幅射 层；42、第二幅射层；43、第三幅射层；51至54、ZnO膜层；6、玻璃基板。
【具体实施方式】
[0017] 下面结合附图，对本发明的【具体实施方式】作进一步描述。以下实施例仅用于更加 清楚地说明本发明的技术方案，而不能以此来限制本发明的保护范围。
[0018] 本发明是一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板，其主表面上支承有多层溅射层，所 述溅射层包括低辐射层；其中，低辐射层的组成及其重量百分数为：Ag 90~99.9%、La及/或 Sm 0. 1~10%，低辐射层的溅射可以选择与传统的纯银膜同样的溅射条件，如在Ar氛围中进 行溅射，溅射气压范围为2X 10_2?3X 10_4 mbar。
[0019] 溅射层除了低辐射层，还包括电介质层、保护层等常规溅射层，其中，保护层可以 为NiCr膜层或钛膜层或铜膜层等；电介质层可以为钛氧化物膜层、锡氧化物膜层、锌氧化 物膜层、硅氧化物膜层。
[0020] 该低辐射镀膜玻璃通过在银层中掺杂稀土 La、Sm，银层中掺杂的La、Sm微量金属 元素可以阻止银层氧化，提高银层的稳定性，进而使低辐射镀膜玻璃的保持稳定的低辐射 率，而不受生产过程中的接触空气的影响。此外，银层中掺杂的La、Sm同时还具有增加薄膜 在基底上的均匀性和提高银膜附着力的作用。
[0021] 实施例1 本发明是一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板，其主表面上支承有多层溅射层，所述溅 射层自玻璃基板向外依次包括Si3N4膜层、NiCr膜层、第一低辐射层、NiCr膜层、Si 3N4膜层； 其中，第一低辐射层的组成及其重量百分数为：Ag 90%、La 10%。
[0022] 图1表示了实施例1中低辐射镀膜玻璃的截面结构示意图。其中Si3N4膜层11、12 分别组成第一、第二电介质层，以提高玻璃基板6表面的溅射层的硬度，提高耐久性；NiCr 膜层31、32分别组成第一、第二保护层，提高第一幅射层41与电介质层的附着力，阻止第一 幅射层41的氧化。
[0023] 实施例2 本发明是一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板，其主表面上支承有多层溅射层，所述溅 射层自玻璃基板向外依次包括所述溅射层自玻璃基板向外依次包括Ti02膜层、NiCr膜层、 第一低辐射层、NiCr膜层、Ti0 2膜层、NiCr膜层、第二低辐射层、NiCr膜层、Ti02膜层；其 中，第一、第二低辐射层的组成及其重量百分数为：Ag 99.9%、Sm 0. 1%。
[0024] 图2表示了实施例2中低辐射镀膜玻璃的截面结构示意图。其中Ti02膜层21、22、 23分别组成第一、第二、第三电介质层，以提高溅射层的硬度，提高耐久性；NiCr膜层31、 32、33、34分别组成第一、第二、第三、第四保护层，提高第一、第二幅射层41、42与电介质层 的附着力，阻止第一、第二幅射层41、42的氧化。
[0025] 实施例3 本发明是一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板，其主表面上支承有多层溅射层，所述溅 射层自玻璃基板向外依次包括Ti02膜层、ZnO膜层、NiCr膜层、第一低辐射层、NiCr膜层、 ZnO膜层、Ti02膜层、NiCr膜层、第二低辐射层、NiCr膜层、Ti02膜层、ZnO膜层、NiCr膜层、 第三低辐射层、NiCr膜层、ZnO膜层、Ti0 2膜层；其中，第一、第二、第三低辐射层的组成及其 重量百分数为：Ag 98. 5%、La 0· 5%及Sm 1%。
[0026] 图3表示了实施例3中低辐射镀膜玻璃的截面结构示意图。Ti02膜层21、22、23、24 与ZnO膜层51、52、53、54组成复合的第一、第二、第三电介质层，其中ZnO膜层51、52、 53、54提高膜层的增透性和平整性；NiCr膜层31、32、33、34、35、36分别组成第一、第二、第 三、第四、第五、第六保护层，提高第一、第二、第三幅射层41、42、43与电介质层的附着力， 阻止第一、第二、第三幅射层41、42、43的氧化。
[0027] 实施例4 本发明是一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板，其主表面上支承有多层溅射层，所述溅 射层自玻璃基板向外依次包括Si3N4膜层、ZnO膜层、NiCr膜层、第一低辐射层、NiCr膜层、 ZnO膜层、Si3N4膜层、NiCr膜层、第二低辐射层、NiCr膜层、Si3N 4膜层、ZnO膜层、NiCr膜 层、第三低辐射层、NiCr膜层、ZnO膜层、Si3N 4膜层；其中，第一、第二、第三低辐射层的组成 及其重量百分数为：Ag 99%、La 0. 5%及Sm 0. 5%。
[0028] 图4表示了实施例4中低辐射镀膜玻璃的截面结构示意图。Si3N4膜层11、12、13、 14 与ZnO膜层51、52、53、54组成复合的第一、第二、第三电介质层，其中ZnO膜层51、 52、53、54提高膜层的增透性和平整性；NiCr膜层31、32、33、34、35、36分别组成第一、第二、 第三、第四、第五、第六保护层，提高第一、第二、第三幅射层41、42、43与电介质层的附着 力，阻止第一、第二、第三幅射层41、42、43的氧化。
[0029] 实施例1-4中，低辐射镀膜玻璃的溅射层分别形成局部对称结构，一定程度上克 服了沉积过程以及热处理加工过程中应力释放对溅射层的破坏，提高了溅射层的耐用性， 进而提高了低辐射镀膜玻璃的镀膜稳定性和辐射性能稳定性。
[0030] 以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本【技术领域】的普通技术人 员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰 也应视为本发明的保护范围。
【权利要求】
1. 一种低福射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基板，其主表面上支承有多层溉射层， 所述溅射层包括低辐射层；其中，低辐射层的组成及其重量百分数为：Ag 90~99.9%、La及/ 或 Sm 0· 1?10%。
2. 如权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述低辐射层的组成及其重量 百分数为：Ag 98. 5?99. 9%、La 及 / 或 Sm 0· 1 ?1. 5%。
3. 如权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述溅射层自玻璃基板向外依 次包括第一电介质层、第一保护层、第一低福射层、第二保护层、第二电介质层。
4. 如权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述溅射层自玻璃基板向外 依次包括第一电介质层、第一保护层、第一低福射层、第二保护层、第二电介质层、第三保护 层、第二低辐射层、第四保护层、第三电介质层。
5. 如权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述溅射层自玻璃基板向外 依次包括第一电介质层、第一保护层、第一低福射层、第二保护层、第二电介质层、第三保护 层、第二低辐射层、第四保护层、第三电介质层、第五保护层、第三低辐射层、第六保护层、第 四电介质层。
6. 如权利要求3至5任意一项所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述电介质层为 钛氧化物膜层与锌氧化物膜层复合而成的复合层、或者硅氮氧化物膜层与锌氧化物膜层复 合而成的复合层；所述保护层为NiCr膜层。
【文档编号】B32B9/04GK104118157SQ201410335378
【公开日】2014年10月29日 申请日期:2014年7月15日 优先权日:2014年7月15日
【发明者】郭博, 高畅, 吴晓杰 申请人:江阴沐祥节能装饰工程有限公司