高耐候性转印膜的制作方法

文档序号:10220029阅读:920来源:国知局
高耐候性转印膜的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种高耐候性转印膜,尤指可使工件具有复杂纹路、图样或色彩,且可增加工件耐候性的转印膜。
【背景技术】
[0002]按,一般的金属工件会因曝晒、酸雨等气候性的影响,而使金属工件表面受到破坏,传统的作法,虽是利用油漆或涂料涂布于金属工件表面,由于油漆或涂料干燥后的硬度不够、不耐污染、不耐潮湿、耐热度也不足,因此表面容易受到外力的影响,产生刮痕、剥落、软化翘曲或是高温易溶解助燃的缺失,且油漆在涂布作业时,仅能做单纯的色彩变化,而无法赋予金属工件复杂的图样,较为单调。
[0003]因此,要如何解决上述现有的问题与缺失,即为相关业者所亟欲研发的课题。

【发明内容】

[0004]本实用新型的主要目的乃在于,增加工件的耐候性,并使工件表面呈现复杂的纹路、图样或色彩。
[0005]为达上述目的,本实用新型的转印膜具有基材层,基材层底面设置有以氟碳材质涂布形成的图形层。
[0006]前述的高耐候性转印膜,其中该转印膜的图形层转印于涂布有底漆层的金属材质的工件表面,且底漆层以氟碳材质涂布形成于工件表面。
[0007]前述的高耐候性转印膜,其中该图形层表面涂布有氟碳材质的保护层。
[0008]藉由以氟碳材质所制成的底漆层涂布于工件表面,以保护工件不会受到曝晒、酸雨等气候性的影响,并利用转印方式将图形层设置于底漆层表面,让图形层以复杂的图像、纹路或色彩美化工件,且图形层同样以具氟碳材质所制成,让图形层不会受到曝晒、酸雨等气候性的影响。
【附图说明】
[0009]图1为本实用新型转印膜的剖面图;
[0010]图2为本实用新型转印膜转印于工件时的剖面图。
[0011]附图标记说明:1、工件;2、底漆层;3、转印膜;31、基材层;32、图形层;4、保护层。
【具体实施方式】
[0012]以下结合附图和实施例,对本实用新型上述的和另外的技术特征和优点作更详细的说明。
[0013]请参阅图1所示,由图中可清楚看出,本实用新型的转印膜3设置有基材层31,基材层31底面设置有以氟碳材质所制成的涂料涂布形成的图形层32,该氟碳材质的图形层32具有高耐候性、抗沾污性。
[0014]请参阅图1与图2所示,由图中可清楚看出,本实用新型转印膜3使用于金属材质的工件1时,先将工件1表面涂布一底漆层2,底漆层2同样使用氟碳材质涂布所形成,从而使底漆层2具有高耐候性、抗沾污性,续将转印膜3以转印方式,将图形层32转印于底漆层2表面,转印方式可为水转印或是热转印。
[0015]前述的转印膜3于底漆层2涂布于工件1表面后,待底漆层2表面硬化后,再将转印膜3的图形层32转印至底漆层2表面,且于图形层32转印至底漆层2表面后,再于图形层32表面以氟碳材质涂布形成的保护层4,续将图形层32、底漆层2与保护层4同时进行烘烤定形。
[0016]藉上,本实用新型的底漆层2为以具氟碳材质所制成,可让工件1表面不会受到曝晒、酸雨等气候性的影响,而图形层32同样以具氟碳材质所制成,故图形层32同样不会受到曝晒、酸雨等气候性的影响,而可使图形层32长时间保存,且由于图形层32以转印方式形成于底漆层2表面,因此图形层32可具有复杂的图像、纹路或色彩,更加的美化工件1,让工件1作为建筑建材使用时,更加富有变化。
[0017]因此,本实用新型为可解决现有技术的不足与缺失,并可增进功效,其关键技术在于,本实用新型利用以氟碳材质所制成的底漆层涂布于工件1表面,以保护工件1不会受到曝晒、酸雨等气候性的影响,并利用转印方式将转印膜3的图形层32设置于底漆层2表面,让图形层32以复杂的图像、纹路或色彩美化工件1,且图形层32同样以具氟碳材质所制成,让图形层32不会受到曝晒、酸雨等气候性的影响。
[0018]以上所述的实施例仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行描述,并非对本实用新型的范围进行限定,在不脱离本实用新型设计精神的前提下,本领域普通技术人员对本实用新型的技术方案作出的各种变形和改进,均应落入本实用新型权利要求书确定的保护范围内。
【主权项】
1.一种高耐候性转印膜,其特征在于:该转印膜具有基材层,该基材层底面设置有以氟碳材质涂布形成的图形层,该图形层表面涂布有氟碳材质的保护层。2.如权利要求1所述的高耐候性转印膜,其特征在于:该转印膜的图形层转印于涂布有底漆层的金属材质的工件表面,且底漆层以氟碳材质涂布形成于工件表面。
【专利摘要】本实用新型涉及一种高耐候性转印膜,该转印膜具有基材层,该基材层底面设置有以氟碳材质涂布形成的图形层,使图形层具有高耐候性、抗沾污性,藉此转印膜转印至工件后,即可增加工件的耐候性,并使工件表面呈现复杂的纹路、图样或色彩。
【IPC分类】B41M5/382
【公开号】CN205130673
【申请号】CN201520681935
【发明人】刘锦彩
【申请人】正清国际有限公司
【公开日】2016年4月6日
【申请日】2015年9月6日
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