专利名称：石膏模型室反向下水式灌模装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及机械领域，特别涉及一种教学器材，尤指一种石膏模型室反向下水式灌模装置。
背景技术：
常规的灌模室一般8 12平方米，无法满足多名学生同时学习灌注的要求。为保证更多学生同时学习灌模，灌模粉和漠渣对上、下水的要求极高，尤其是下水。一方面正常取模/灌模已经对下水要求很高，况且学生学习过程中，难免产生大量费渣，对下水要求更高。常规灌模室的模渣和三级沉淀池多有积水难返，不及时清理就使得沉淀池水发出恶臭。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种石膏模型室反向下水式灌模装置，解决了现有技术存在的上述问题。本实用新型采用了下水平台反向倾斜的方法，一方面过量水可充分溢出，另一方面大量费渣可随时与下水走向相反方向清理取出。即不影响下水充分流出，也不会使得费渣流入下水口造成堵塞。本实用新型的上述目的通过以下技术方案实现:石膏模型室反向下水式灌模装置，一、二、三级水池1、2、3置于灌模室中央，对立两排，在一、二、三级水池1、2、3的侧边分别设置伸缩式操作台4，在对立两排水池中间设置风干平台5，在风干平台5的两侧设置水源孔6与水龙头连接；在一、二级水池1、2的一端分别设置过滤下水口 1、11 7、8，在二、三级水池2、3的底面分别设置过滤下水口 ；所述一级水池的下水口端高于另一端l 3cm。所述的过滤下水口 I 7距离一级水池I底面的高度为0cm。所述的过滤下水口 II 8距离二级水池2底面的高度为5cm，没有大量沉渣，也方便
及时清理。本实用新型的有益效果在于:结构新颖，操作简单，使用安全、方便。水池对立两排设置，便于同时清理二、三级水池。水龙头数量足够多，保证更多学生方便、快捷的制作有质量的模具。一级水池和二级水池、二级水池和三级水池之间排水孔的沉降高度为5厘米。保证流畅和方便及时清理。可安装在200多平方米的灌模室内，容纳50余学生同时灌注。中间设有不锈钢平台，特别是中央平台和水池灌注边台达到35厘米宽，使得灌注模具的制作过程全程无转移完成，快捷灌注，从而保证灌注质量。操作台置于水池护水外侧壁上，且足够宽度，便于制、灌模具过程中取水，振荡、搅拌及清理在一个平台上完成。快速取模，快速灌模使印模材料及石膏等多了有效调整时间，避免了由于多处移动灌模器具造成印模材料调整过程时间过长，影响灌注质量。克服了学生由于初学习灌注，灌注方法掌握不熟，在有限的时间内，不能及时通过均匀的排除灌注模具中产生的气泡，使得灌注失败的问题。实用性强。
此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本申请的一部分，本实用新型的示意性实例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。图1为本实用新型的结构示意图。图中:1、一级水池；2、二级水池；3、三级水池；4、伸缩式操作台；5、风干平台；6、水源孔；7、过滤下水口 I ;8、过滤下水口 II。
具体实施方式
以下结合附图进一步说明本实用新型的详细内容及其具体实施方式
。参见图1，本实用新型的石膏模型室反向下水式灌模装置，包括一级水池1、二级水池2、三级水池3、伸缩式操作台4、风干平台5、水源孔6、过滤下水口 I 7及过滤下水口II 8，其中，一、二、三级水池1、2、3置于灌模室中央，对立两排，在一、二、三级水池1、2、3的侧边分别设置伸缩式操作台4，在对立两排水池中间设置风干平台5，在风干平台5的两侧设置水源孔6与水龙头连接；在一、二级水池1、2的一端分别设置过滤下水口 1、II 7、8，在二、三级水池2、3的底面分别设置过滤下水口 ；所述一级水池的下水口端高于另一端I 3cm。所述的过滤下水口 I 7距离一级水池I底面的高度为0cm。所述的过滤下水口 II 8距离二级水池2底面的高度为5cm，没有大量沉渣，也方便 及时清理。以上所述仅为本实用新型的优选实例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡对本实用新型所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种石膏模型室反向下水式灌模装置，其特征在于:一、二、三级水池(1、2、3)置于灌模室中央，对立两排，在一、二、三级水池(1、2、3)的侧边分别设置伸缩式操作台(4)，在对立两排水池中间设置风干平台(5)，在风干平台(5)的两侧设置水源孔(6)与水龙头连接；在一、二级水池(1、2)的一端分别设置过滤下水口 1、11 (7、8)，在二、三级水池(2、3)的底面分别设置过滤下水口 ；所述一级水池的下水口端高于另一端f3cm。
2.根据权利要求1所述的石膏模型室反向下水式灌模装置，其特征在于:所述的过滤下水口 I (7)距离一级水池(I)底面的高度为Ocm。
3.根据权利要求1所述的石膏模型室反向下水式灌模装置，其特征在于:所述的过滤下水口 II (8)距离二级水池 (2)底面的高度为5cm。
专利摘要本实用新型涉及一种石膏模型室反向下水式灌模装置，属于教学器材领域。一、二、三级水池置于灌模室中央，对立两排，在一、二、三级水池的侧边分别设置伸缩式操作台，在对立两排水池中间设置风干平台，在风干平台的两侧设置水源孔与水龙头连接；在一、二级水池的一端分别设置过滤下水口Ⅰ、Ⅱ，在二、三级水池的底面分别设置过滤下水口；所述一级水池的下水口端高于另一端1~3cm。优点在于结构新颖，操作简单，使用方便。水龙头数量足够多，保证更多学生方便、快捷的制作有质量的模具。一、二、三级水池之间排水孔的沉降高度为5厘米，保证流畅和方便及时清理。安装在200多平方米的灌模室内，容纳50余学生同时灌注。
文档编号G09B25/02GK203149994SQ201320172970
公开日2013年8月21日 申请日期2013年4月9日 优先权日2013年4月9日
发明者蔡毅, 宋宇哲, 陈金锐, 李红, 张振波, 石璐 申请人:蔡毅