技术总结
本发明提供一种套刻精度补偿方法及装置。所述套刻精度补偿方法包括：测量当层光刻图形与前层光刻图形的第一套刻精度；测量所述前层光刻图形与更前层光刻图形的第二套刻精度；以及基于所述第一套刻精度和所述第二套刻精度计算工艺过程的误差，以用于反馈到曝光机系统中。本发明所提供的套刻精度补偿方法及装置采用多层之间的套刻精度作为反馈，能够改进双镶嵌工艺窗口，针对双镶嵌工艺获得更高的套刻精度。
技术研发人员：张强;邢滨
受保护的技术使用者：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
文档号码：201510404693
技术研发日：2015.07.10
技术公布日：2017.01.11