曝光装置及曝光方法与流程

技术特征：

1.一种曝光装置，其在样品上曝光图案，其特征在于，包括：

多个消隐电极，与多根带电粒子束对应设置，根据输入电压而分别切换是否对样品照射对应的带电粒子束；

照射控制部，输出用来切换对所述多个消隐电极分别提供的消隐电压的切换信号；及

测量部，针对所述多个消隐电极分别测量从切换信号的变化到消隐电压的变化为止的延迟量；

所述测量部包括：

基准电压产生部，依次变更地产生基准电压；及

延迟量检测部，针对所述多个消隐电极，分别相应于所述基准电压发生变更，从而检测从所述切换信号的变化到所述消隐电压达到所述基准电压为止的所述延迟量。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述照射控制部包括时机调整部，所述时机调整部单独地调整所述切换信号对所述多个消隐电极各自的输出时机。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述时机调整部针对所述多个消隐电极，分别以所述消隐电压在预先规定的时机到达预先规定的阈值电压的方式，单独地调整所述切换信号的输出时机。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置包括多个驱动电路，所述多个驱动电路与所述多个消隐电极对应设置，分别输出与针对各个消隐电极的切换信号相对应的消隐电压。

5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述多个驱动电路包括时间调整部，所述时间调整部分别调整所述多个驱动电路各自输出的消隐电压的过渡时间。

6.一种曝光方法，其用于在样品上曝光图案的曝光装置，其特征在于，包括：

照射控制阶段，输出用来切换对多个消隐电极分别提供的消隐电压的切换信号，所述多个消隐电极与多根带电粒子束对应设置，且根据输入电压而分别切换是否对样品照射对应的带电粒子束；及

测量阶段，针对所述多个消隐电极分别测量从切换信号的变化到消隐电压的变化为止的延迟量；

所述测量阶段包括：

基准电压产生阶段，依次变更地产生基准电压；及

检测阶段，针对所述多个消隐电极，分别相应于所述基准电压发生变更，从而检测从所述切换信号的变化到所述消隐电压达到所述基准电压为止的所述延迟量。

7.根据权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，还包括调整阶段，所述调整阶段针对所述多个消隐电极分别调整所述消隐电压变为预先规定的阈值电压的时间。

8.根据权利要求7所述的曝光方法，其特征在于，所述调整阶段包括时机调整阶段，所述时机调整阶段针对所述多个消隐电极分别单独地调整所述切换信号的输出时机。

9.根据权利要求7或8所述的曝光方法，其特征在于，

所述曝光装置包括多个驱动电路，所述多个驱动电路与所述多个消隐电极对应设置，且分别输出与针对各个消隐电极的切换信号相对应的消隐电压，且

所述调整阶段包括时间调整阶段，所述时间调整阶段针对所述多个消隐电极，分别单独地调整所述多个驱动电路各自输出的消隐电压的过渡时间。