产生层结构的方法和形成图案的方法与流程

技术特征：

1.一种产生层结构的方法，其特征在于，包括：

在具有多个图案的衬底上涂布第一组合物，且将所述第一组合物固化以形成第一有机层；

施用液体材料到所述第一有机层，以去除所述第一有机层的一部分；以及

在所述部分去除的第一有机层上涂布第二组合物，且将所述第二组合物固化以形成第二有机层，

其中所述第一组合物和所述第二组合物独立地为包含由化学式1表示的结构单元的聚合物和溶剂：

化学式1

其中，在化学式1中，

A¹为包含至少一个经取代或未经取代的苯环的二价环基，

B¹为二价有机基团，以及

*为连接点。

2.根据权利要求1所述的产生层结构的方法，其中所述部分去除的第一有机层保持于所述图案的间隙内部。

3.根据权利要求1所述的产生层结构的方法，其中所述液体材料包括γ-丁内酯、δ-戊内酯、乳酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、β-甲基丁酸β-羟基酯、甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、2-丁醇、乙二醇、丙二醇、甘油、1，6-己二醇、环己二醇、山梨糖醇、木糖醇、2-甲基-2，4-戊二醇、1，3-丁二醇、1，4-丁二醇、乙二醇单甲醚、二乙二醇、二丙二醇、丙二醇单甲醚、二乙二醇单甲醚、三乙二醇、聚(乙二醇)、丙二醇单甲醚、二丙二醇单甲醚、三丙二醇单甲醚、二乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、乙基乙氧基丙酸酯、丙二醇单甲醚丙酸酯、乙二醇二乙酸酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯、2-羟基异丁酸甲酯、乙酸正丁酯、甲酰胺、单甲基甲酰胺、二甲基甲酰胺、乙酰胺、单甲基乙酰胺、二甲基乙酰胺、单乙基乙酰胺、二乙基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、甲氧基丙酸甲酯、甲氧基丙酸乙酯、甲氧基丙酸丙酯、甲氧基丙酸丁酯、乙氧基丙酸甲酯、乙氧基丙酸乙酯、乙氧基丙酸丙酯、乙氧基丙酸丁酯、二甲砜、二甲亚砜、环丁砜、丙酮、乙酰丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮或其组合。

4.根据权利要求1所述的产生层结构的方法，其中所述液体材料以0.1立方厘米到100立方厘米的量被施用。

5.根据权利要求1所述的产生层结构的方法，其中所述第一有机层和所述第二有机层为硬掩模层。

6.根据权利要求5所述的产生层结构的方法，其中所述第二有机层直接安置在所述部分去除的第一有机层上。

7.根据权利要求1所述的产生层结构的方法，其中在化学式1中，A¹为在结构中包含至少两个环的二价环基。

8.根据权利要求1所述的产生层结构的方法，其中在化学式1中，A¹为衍生自族群1和族群2的化合物中的一者的二价环基，且所述二价环基的至少一个氢经置换或来经置换：

族群1

族群2

其中，在族群1中，

M为经取代或未经取代的C1到C5亚烷基、-O-、-S-、-SO₂-或羰基，

其中，在族群2中，

R⁰和R¹独立地为氢、羟基、甲氧基、乙氧基、卤素原子、含卤素的基团、经取代或未经取代的C1到C30烷基、经取代或未经取代的C6到C30芳基或其组合。

9.根据权利要求1所述的产生层结构的方法，其中在化学式1中，A¹为一个基团，其中至少一个氢经羟基、亚硫酰基、巯基、氰基、氨基、C1到C10烷基、C6到C30芳基、C1到C30烷氧基或其组合置换。

10.根据权利要求1所述的产生层结构的方法，其中所述聚合物还包括由化学式2表示的结构单元：

化学式2

其中，在化学式2中，

A²为包含至少一个经取代或未经取代的苯环的二价环基，以及

B¹和*与化学式1中所定义相同，以及

其中所述由化学式1表示的结构单元与所述由化学式2表示的结构单元不同。

11.根据权利要求1所述的产生层结构的方法，其中在化学式1中，B¹由化学式3表示：

化学式3

其中，在化学式3中，

a和b独立地为0到2的整数，以及

L为衍生自族群3中的一者的二价环基，且所述二价环基的至少一个氢可经置换或未经置换，

族群3

其中，在族群3中，

M为经取代或未经取代的C1到C5亚烷基、-O-、-S-、-SO₂-或羰基。

12.根据权利要求1所述的产生层结构的方法，其中所述聚合物的重量平均分子量为500到200,000。

13.根据权利要求1所述的产生层结构的方法，其中在施用所述第二组合物之后的所述固化在比在施用所述第一组合物之后的所述固化高的温度下进行。

14.根据权利要求1所述的产生层结构的方法，其中所述第一组合物和所述第二组合物独立地包括表面活性剂、塑化剂、交联剂、热酸产生剂、光酸产生剂或其组合。

15.根据权利要求14所述的产生层结构的方法，其中所述交联剂包括甲氧基甲基化甘脲、丁氧基甲基化甘脲、甲氧基甲基化三聚氰胺、丁氧基甲基化三聚氰胺、甲氧基甲基化苯并胍胺、丁氧基甲基化苯并胍胺、甲氧基甲基化脲、丁氧基甲基化脲、甲氧基甲基化硫脲、丁氧基甲基化硫脲、甲氧基甲基化苯、丁氧基甲基化苯、甲氧基甲基化苯酚、丁氧基甲基化苯酚或其组合。

16.根据权利要求1所述的产生层结构的方法，其中所述第一组合物和所述第二组合物的所述溶剂独立地为丙二醇、丙二醇二乙酸酯、甲氧基丙二醇、二乙二醇、二乙二醇丁醚、三(乙二醇)单甲醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、环己酮、乳酸乙酯、γ-丁内酯、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、甲基吡咯烷酮、乙酰丙酮、3-乙氧基丙酸乙酯或其组合。

17.根据权利要求1所述的产生层结构的方法，其中所述第一组合物和所述第二组合物各自以300埃到10微米的厚度独立地被施用。

18.根据权利要求1所述的产生层结构的方法，其中所述衬底的一侧具有具有多个图案的第一部分和不具有图案的第二部分，且所述第二有机层的梯级的总和小于所述第一有机层的梯级的总和。

19.一种形成图案的方法，其特征在于，包括

提供根据权利要求1所述的产生方法产生的层结构；

在所述层结构上形成含硅薄层；

在所述含硅薄层上形成光刻胶层；

曝光且显影所述光刻胶层以形成光刻胶图案；以及

使用所述光刻胶图案选择性地去除所述层结构中的所述含硅薄层以及所述第一有机层、所述第二有机层或其组合。

20.根据权利要求19所述的形成图案的方法，其中所述方法还包括在形成所述光刻胶之前形成底部抗反射涂层。