一种基于可调光阑刻写任意栅区长度光纤光栅方法与流程

文档序号:12269262阅读:来源:国知局
技术总结
本发明公开了一种基于可调光阑刻写任意栅区长度光纤光栅方法,其中,该方法包括:对光纤进行载氢处理,并去除其涂覆层;对激光器发射的预定波长的激光光束进行整形处理;在上位机软件界面输入拟刻写栅区长度,根据刻写栅区长度调节光阑大小,然后通过控制一维移动平台调节光纤曝光区域,对光纤进行刻写获得光纤光栅。本发明公开的方法克服制备不同长度光纤光栅成本高,手动光路调节复杂、效率慢等问题,提供一种刻写长度可调光纤光栅的方法,能够获得均匀对比度高、栅区长度在线连续可调的光纤光栅。

技术研发人员:祝连庆;郑文宁;董明利;何巍;娄小平;李红;刘锋
受保护的技术使用者:北京信息科技大学
文档号码:201610916035
技术研发日:2016.10.20
技术公布日:2017.02.22

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