喷淋显影喷嘴和具有该喷嘴的喷淋显影仪的制作方法

本实用新型涉及光刻胶显影技术领域，尤其涉及喷淋显影喷嘴和具有该喷嘴的喷淋显影仪。

背景技术：

光刻胶是集成电路制造工艺中的一种关键材料，其使用及研发测试过程主要包括涂布、烘烤、曝光、显影等步骤。光刻胶经过曝光后发生聚合或分解反应，然后采用化学显影液来溶解光刻胶，利用光照反应前后的光刻胶在显影液中的溶解速度的差异，经过一定时间使易溶解区域迅速溶解完全，而不易溶解区域的胶则保留于衬底表面，从而形成光刻图形。显影过程的控制直接决定了光刻胶图形的均匀性与稳定性，对后续工艺至关重要。

为适应大尺寸基片衬底的制造以降低成本，目前较多使用的显影方法为喷淋式显影，包括使用较长排出口的喷嘴，移动喷嘴使显影液从基片一端向另一端移动而覆盖整个基板表面上的光刻胶膜进行显影；或是使基片旋转，采用小喷嘴在基片表面由边缘向中心移动的方式来提供显影液并通过旋转使其布满整个基片，再或是采用多孔喷淋头式喷嘴在基片旋转中心进行喷洒显影液并通过旋转离心力使显影液布满整个基片。目前均已形成了对工厂作业进行批量连续的生产操作、采用大型仪器设备的技术。

而对于实验室的旋转喷淋显影工艺，基于成本、能耗、效率等各方面的考量，显然不适用于大型仪器，因此实验人员一般使用匀胶机来实现旋转喷淋。首先将待显影的硅片衬底固定在匀胶机上，在其表面滴淋一定量的显影液，静置一段时间，然后启动匀胶机的旋转功能低速旋转，使显影液覆盖整片衬底表面，待显影液被甩出后，用去离子水冲洗衬底并高速旋转甩干，以待观察光刻胶图形。

但是目前在移动喷嘴的显影工艺中，难以形成显影液的对流，使显影液与光刻胶膜的反应性降低，显影处理需要较长的时间。在旋转显影方式下，显影液在基板上一边流动一边与光刻胶膜反应，沿着显影液的流动方向显影液的浓度发生变化，基板的表面内的光刻胶图案的线宽分布变得不均匀，效率低下。

技术实现要素：

本实用新型要解决的技术问题在于提供一种结构简单喷淋显影喷嘴和具有该喷嘴操作简单的喷淋显影仪。

实现本实用新型目的的技术方案是：喷淋显影喷嘴，喷淋显影喷嘴包括喷嘴接口、喷嘴主体和喷口，喷嘴接口与喷嘴主体相连接，喷口设置在喷嘴主体的底部，喷嘴主体的底部设置为弧形。

实现本实用新型目的的技术方案是：喷淋显影仪包括喷嘴接口、喷嘴主体、喷口、显影液流动连接管、旋转卡盘、旋转发动机和显影液接口，喷口设置在喷嘴主体的底部，喷嘴主体的底部设置为弧形，显影液流动连接管与喷嘴接口相连接，显影液流动连接管与显影液接口相连通，旋转发动机带动旋转卡盘旋转，旋转卡盘置于喷嘴主体的正下方。

作为本实用新型的优化方案，喷淋显影仪还包括可拆卸的圆盆，旋转卡盘设置在可拆卸的圆盆的内部。

作为本实用新型的优化方案，喷淋显影仪还包括用于控制旋转发动机转速的旋钮开关。

本实用新型具有积极的效果：本实用新型的喷淋显影喷嘴和具有该喷嘴喷淋显影仪结构简单，操作方便，保证了显影过程中光刻胶溶解反应的均匀性，大大的提高了研发效率，降低了实验成本。

附图说明

为了使本实用新型的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例并结合附图，对本实用新型作进一步详细的说明：

图1为喷淋显影喷嘴的主视图；

图2为喷淋显影喷嘴的仰视图；

图3为喷淋显影仪的俯视图；

图4为喷淋显影仪的主视图。

其中：1、喷嘴接口，2、喷嘴主体，3、喷口，4、显影液流动连接管，5、旋转卡盘，7、显影液接口，8、可拆卸的圆盆，9、旋钮开关，10、启动开关。

具体实施方式

如图1-4所示，本实用新型公开了喷淋显影喷嘴，喷淋显影喷嘴包括喷嘴接口1、喷嘴主体2和喷口3，喷嘴接口1与喷嘴主体2相连接，喷口3设置在喷嘴主体2的底部，喷嘴主体2的底部设置为弧形。

喷淋显影仪，包括喷嘴接口1、喷嘴主体2、喷口3、显影液流动连接管4、旋转卡盘5、旋转发动机和显影液接口7，喷口3设置在喷嘴主体2的底部，喷嘴主体2的底部设置为弧形，显影液流动连接管4与喷嘴接口1相连接，显影液流动连接管4与显影液接口7相连通，旋转发动机带动旋转卡盘5旋转，旋转卡盘5置于喷嘴主体2的正下方。喷淋显影仪还包括可拆卸的圆盆8，旋转卡盘5设置在可拆卸的圆盆8的内部。其中，显影液从显影液接口7中进入，通过装配抽液泵配合启动开关10控制显影液的流出量。可拆卸的圆盆8用于承接显影反应后的废液，基片放置在旋转卡盘5上。

喷淋显影仪还包括用于控制旋转发动机转速的旋钮开关9，通过旋钮开关9控制旋转卡盘5的旋转。

喷淋显影仪工作时，由旋钮开关9控制旋转发动机的转速，旋转发动机带动旋转卡盘5上的基片以合适的速度旋转，然后启动开关10使显影液从显影液接口7中进入经过显影液流动连接管4进入到喷嘴主体2中，显影液由喷嘴主体2喷淋在基片表面进行显影反应，由于喷嘴主体2的弧度设计，使显影液由中间喷出的较多，经旋转离心力向基片周围流动，而喷嘴主体2内充满显影液时由喷嘴边缘处也会有适量显影液流出直接喷淋在基片边缘处进行显影液补充，实现基片上显影液的均匀分布，进而实现显影反应的均匀性。

以上所述的具体实施例，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。