测量装置、光刻系统及曝光装置、以及管理方法、重迭测量方法及组件制造方法与流程

文档序号:11333479阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明的测量装置(100)具备可保持基板(W)与XY平面平行移动的滑件(10)、驱动滑件的驱动系统、可从读头部(32)对设置于滑件具有格子部(RG1)的测量面照设多条光束并接收该多条光束各个的来自测量面的返回光束以测量滑件的包含绝对位置坐标的至少3自由度方向的位置信息的位置测量系统(30)、检测基板上的标记的标记检测系统(MDS)以及一边控制滑件的驱动并一边使用标记检测系统分别检测基板上的多个标记一边根据各标记的检测结果与检测时的位置测量系统的测量信息求出各标记的绝对位置坐标的控制装置。

技术研发人员:柴崎祐一
受保护的技术使用者:株式会社尼康
技术研发日:2016.02.23
技术公布日:2017.10.13
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