技术特征：
技术总结
本发明公开了一种基于磁场可调控闪耀光栅的制造方法，包括以下步骤：硅模具的制造：在清洗干净的硅片表面溅射一层金属薄膜A，然后涂胶、曝光、显影、腐蚀金属薄膜A、干法刻蚀硅制备硅模具A；按照同样的步骤，制备模具B；翻模制备柔性磁性聚合物栅线；反射面的制造：将配置好的聚合物混合物涂覆在模具B表面，再施加一个衬底，加热固化聚合物，脱模得到柔性聚合物栅线，在柔性聚合物栅线表面溅射沉积厚度为20~300nm金属薄膜C得到反射面；利用磁场调控反射面的转移，实现闪耀光栅闪耀角的调控。本发明利用磁场精确调控闪耀光栅的闪耀角；本发明具备可精确调控闪耀角、响应快、成本低等优点。
技术研发人员：史永胜;刘红忠;尹磊;陈邦道
受保护的技术使用者：常州瑞丰特科技有限公司
技术研发日：2017.06.27
技术公布日：2017.09.12