本发明属于显示面板制作技术领域，具体地讲，涉及一种光罩、显示面板及其非显示部的制作方法。
背景技术：
在低温多晶硅显示面板的制作中，显示面板的非显示部(即非显示区域)设计有平坦层沟槽，这是为了防止配向膜涂布时外溢，并能在平坦层沟槽中多涂布一些框胶，增强框胶的粘附力。然而，现有的低温多晶硅显示面板的非显示部的平坦层沟槽边缘的角度过陡，会导致平坦层之后的其他膜层的曝光和显影制程中进行光阻涂布时，平坦层沟槽边缘会形成较平坦层非沟槽区更厚的光阻，这样会导致其他膜层曝光和显影制程后，平坦层沟槽边缘仍有部分光阻残留，导致后续的湿蚀刻制程中蚀刻不掉被残留光阻挡住的部分膜层。
图1是利用现有的光罩在平坦层中形成凹槽的示意图。在图1中，光罩的全透光部10和不透光部20交替设置，这样在平坦层pln中形成多个沟槽30。然而现有的沟槽30的槽壁与基板40的夹角a较大，会出现如上述的光阻残留。图2是现有的平坦层之后的其他膜层制作时光阻涂布的情况示意图。参照图2，在沟槽30的槽壁与基板40的连接处堆积有比平坦层pln其他区域厚的光阻50。
技术实现要素：
为了解决上述现有技术存在的问题，本发明的目的在于一种光罩，其包括多个全透光部和多个遮光部，所述全透光部和所述遮光部交替设置，所述遮光部包括不透光子部以及设置于所述不透光子部和所述全透光部之间的n个透光子部，所述n个透光子部的透光率沿着从所述不透光子部到所述全透光部的方向依次增大，n≥2且n为整数。
进一步地，第一个透光子部至第n个透光子部沿着从所述不透光子部到所述全透光部的方向顺序设置于所述不透光子部和所述全透光部之间。
进一步地，第i个透光子部的透光率为所述全透光部的透光率的i/(n+1)，1≤i≤n且n为整数。
本发明的另一目的还在于提供了一种显示面板，包括显示部和非显示部，所述显示部包括：基板以及设置于所述基板上的平坦层，所述平坦层中具有利用上述的光罩制作形成的多个凹槽。
进一步地，所述显示部包括阵列排布的多个像素。
本发明的又一目的又在于提供一种显示面板的非显示部的制作方法，其包括：提供一基板；在所述基板上制作形成平坦层；利用光罩在所述平坦层中形成多个凹槽，所述光罩为上述的光罩。
进一步地，利用光罩在所述平坦层中形成多个凹槽的方法包括：利用所述光罩对所述平坦层进行曝光；对曝光后的所述平坦层进行显影；对显影后的所述平坦层进行刻蚀处理，以形成多个凹槽。
本发明的有益效果：本发明通过改进光罩结构，以使利用改进后的光罩形成的非显示部的平坦层中的凹槽的槽壁平整光滑，并且该凹槽的槽壁的坡度平缓，从而不会使后续制程中不会出现光阻残留的现象。
附图说明
通过结合附图进行的以下描述，本发明的实施例的上述和其它方面、特点和优点将变得更加清楚，附图中：
图1是利用现有的光罩在平坦层中形成凹槽的示意图；
图2是现有的平坦层之后的其他膜层制作时光阻涂布的情况示意图；
图3是根据本发明的实施例的光罩的示意图；
图4是根据本发明的实施例的显示面板的平面图；
图5a至图5c是根据本发明的实施例的显示面板的非显示部的制程图；
图6是根据本发明的实施例的平坦层之后的其他膜层制作时光阻涂布的情况示意图。
具体实施方式
以下，将参照附图来详细描述本发明的实施例。然而，可以以许多不同的形式来实施本发明，并且本发明不应该被解释为限制于这里阐述的具体实施例。相反，提供这些实施例是为了解释本发明的原理及其实际应用，从而使本领域的其他技术人员能够理解本发明的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改。
在附图中，为了清楚起见，夸大了层和区域的厚度。相同的标号在整个说明书和附图中表示相同的元器件。
图3是根据本发明的实施例的光罩的示意图。
参照图3，根据本发明的实施例的光罩1000包括多个全透光部100和多个遮光部200，全透光部100和遮光部200交替设置。在图3中，虽然示出了三个全透光部100和两个遮光部200，但二者的数量可以根据实际需求而设定，本发明并不限制于此。
每个遮光部200包括不透光子部a以及设置于不透光子部a和全透光部100之间的n个透光子部b1、b2、……、bn。也就是说，不透光子部a与其左右相邻的两个全透光部100之间分别设置n个透光子部b1、b2、……、bn。n个透光子部b1、b2、……、bn的透光率沿着从不透光子部a到全透光部100的方向依次增大，n≥2且n为整数。
进一步地，在本实施例中，第一个透光子部b1至第n个透光子部bn沿着从不透光子部a到全透光部100的方向顺序设置于不透光子部a到全透光部100之间，但本发明并不限制于此。
此外，在本实施例中，优选地，第i个透光子部bi(1≤i≤n)的透光率为全透光部100的透光率的i/(n+1)，但本发明并不限制于此，也可以是其他的比例，只需保证n个透光子部b1、b2、……、bn的透光率沿着从不透光子部a到全透光部100的方向依次增大即可。
例如，当n为3时，第一个透光子部b1、第二个透光子部b2和第三个透光子部b3沿着从不透光子部a到全透光部100的方向顺序设置于不透光子部a到全透光部100之间。并且，第一个透光子部b1的透光率为全透光部100的透光率的1/4，第二个透光子部b2的透光率为全透光部100的透光率的2/4，第三个透光子部b3的透光率为全透光部100的透光率的3/4。
以下对如何利用图3所示的光罩在显示面板的非显示部的平坦层中形成凹槽进行详细说明。首先描述根据本发明的实施例的显示面板。
图4是根据本发明的实施例的显示面板的平面图。
参照图4，根据本发明的实施例的显示面板包括显示部(或称显示区)aa以及包围显示部aa的非显示部(或称非显示区)na。显示部aa中通常包括阵列排布的多个像素px以及向像素px提供信号的扫描线、数据线(二者未示出)等。像素px通常包括薄膜晶体管、像素电极等。制作薄膜晶体管时同时在非显示部na中制作各膜层。
背景技术中已经描述了，非显示部na中通常包括平坦层，平坦层中需要形成凹槽来防止配向膜涂布时外溢，并能在凹槽中多涂布一些框胶，增强框胶的粘附力。下面就对如何利用图3所示的光罩在非显示部aa的平坦层中形成凹槽进行详细说明。
图5a至图5c是根据本发明的实施例的显示面板的非显示部的制程图。
首先，参照图5a，提供一基板300。应当理解的是，该基板300也可以共用于显示部aa中用于承载制作的各膜层。
其次，参照图5b，在基板300上制作形成平坦层310。
最后，参照图5c，利用图3所示的光罩1000在平坦层310中形成多个凹槽320。
进一步地，利用图3所示的光罩光罩1000在平坦层310中形成多个凹槽320的具体方法包括：第一，利用光罩1000对平坦层310进行曝光；第二，对曝光后的平坦层310进行显影；第三，对显影后的平坦层310进行刻蚀处理，以形成多个凹槽320。
在本实施例中，由于遮光部200的n个透光子部b1、b2、……、bn。n个透光子部b1、b2、……、bn的透光率沿着从不透光子部a到全透光部100的方向依次增大，因此在平坦层310上形成的凹槽320的槽壁与基板300的夹角b会比图1所示的夹角a小(即凹槽320的槽壁的坡度平缓)，并且凹槽320的槽壁也较为平整光滑。这样在平坦层310之后的其他膜层制作时涂布的光阻pr在凹槽320的槽壁、槽底以及剩余的平坦层310上的厚度均相同，如图6所示，从而在其他膜层曝光和显影制程后，不会有光阻残留。
综上所述，通过改进光罩结构，以使利用改进后的光罩形成的非显示部的平坦层中的凹槽的槽壁平整光滑，并且该凹槽的槽壁的坡度平缓，从而不会使后续制程中不会出现光阻残留的现象。
虽然已经参照特定实施例示出并描述了本发明，但是本领域的技术人员将理解：在不脱离由权利要求及其等同物限定的本发明的精神和范围的情况下，可在此进行形式和细节上的各种变化。