防转印不良的增亮型偏光片结构的制作方法

文档序号:12004243阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种防转印不良的增亮型偏光片结构,其特征在于,包括通用偏光片层、增亮膜层、第一复合胶层和第一TAC膜层;所述增亮膜层夹持在通用偏光片层与第一复合胶层之间,第一TAC膜层涂覆在第一复合胶层的下表面,且第一TAC膜层的下表面与背光棱镜膜层的上表面相贴合;且通用偏光片层、增亮膜层、第一复合胶层和第一TAC膜层四者相层叠后形成一增亮型偏光片整合体,该增亮型偏光片整合体在液晶显示器中作为下偏光片使用。

2.根据权利要求1所述的防转印不良的增亮型偏光片结构,其特征在于,所述通用偏光片层包括由上至下依次层叠的离型膜层、压敏胶层、第二TAC膜层、PVA膜层和第二复合胶层;且所述增亮膜层涂覆在第二复合胶层的下表面。

3.根据权利要求1所述的防转印不良的增亮型偏光片结构,其特征在于,所述增亮膜层的厚度为0.019mm左右,所述第一复合胶层的厚度为0.012mm左右,所述第一TAC膜层的厚度为0.08mm左右,所述背光棱镜膜层的厚度为0.1mm左右。

4.根据权利要求2所述的防转印不良的增亮型偏光片结构,其特征在于,所述离型膜层的厚度为0.05mm左右,所述压敏胶层的厚度为0.018mm左右,所述第二TAC膜层的厚度为0.05mm左右,所述第二复合胶层的厚度为0.012mm左右。

5.根据权利要求1所述的防转印不良的增亮型偏光片结构,其特征在于,所述增亮膜层由APF材料制成。

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