专利名称：偏光片及其制造方法和制造装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种偏光片及其制造方法和制造装置，尤其涉及一种用在液晶显示装置的偏光片及其制造方法和制造装置。
背景技术：
偏光片是液晶显示装置中的重要元件，它可以将一般不具有偏振性的自然光产生偏振化，转变成偏振光；液晶显示装置利用偏振光，再利用液晶分子的扭转特性，从而达到控制光线是否通过。
请参阅图1，是一种现有技术偏光片的结构示意图，该偏光片1包括按层堆叠的离型层10、粘着层11、第一保护层12、偏光基体13、第二保护层14。但是，当光射到偏光片的时候，会因为表面反射原因而损失一部分光，从而造成可透射光的损失而影响显示效果。
发明内容是了克服现有技术偏光片的透射率较低的缺点，本发明提供一种透射率较高的偏光片。
本发明还提供一种上述偏光片的制造方法和制造装置。
本发明解决技术问题所采用的技术方案是提供一种偏光片，包括按层堆叠的离型层、粘着层、第一保护层、偏光基体、第二保护层，其中该偏光片还包括设置在第二保护层上的抗反射层。
本发明解决技术问题所采用的技术方案是提供一种偏光片制造方法，包括按层堆叠形成离型层、粘着层、第一保护层、偏光基体、第二保护层，以及将抗反射材料蒸镀镀膜至第二保护层上形成抗反射层。
本发明解决技术问题所采用的技术方案是提供一种偏光片制造装置，包括多个滚轴装置、紫外线照射处理装置及多个蒸镀镀膜装置，该多个滚轴装置设置在偏光片两侧，该紫外线照射处理装置及蒸镀镀膜装置均设置在该多个滚轴装置后。
和现有技术相比较，本发明的有益效果是本发明的偏光片在保护层上设置抗反射层，降低因为反射而带来的光的损失，从而可以提高光的透射率。
图1是一种现有技术偏光片的结构示意图。
图2是本发明偏光片的结构示意图。
图3是本发明偏光片制造装置的示意图。
具体实施方式
请参阅图2，是本发明偏光片的结构示意图。本发明的偏光片2包括按层堆叠的离型层20、粘着层21、第一保护层22、偏光基体23、第二保护层24和抗反射层25。该抗反射层25包括按层堆叠的第一表层26、第二表层27、第三表层28及第四表层29。该第一保护层22和第二保护层24的材料是三醋酸纤维素(TriacetylCellulose，TAC)，该偏光基体23的材料是聚乙烯醇(PolyvinylAlcohol，PVA)，该第一表层26和第三表层28的材料是高折射率材料，如Ta2O5，该第二表层27和第四表层29的材料是低折射率材料，如SiO2，且该第一表层26的厚度在1×10-8～2×10-8米之间，该第二表层27的厚度在1.5×10-8～3.5×10-8米之间，该第三表层28的厚度在1×10-7～1.2×10-7米之间，该第四表层29的厚度在7×10-8～9×10-8米之间。该偏光基体23的高分子的长轴和短轴的比在3∶1～20∶1之间，最佳在5∶1～10∶1之间。
当光射到偏光片2的时候，因为偏光片2表面设有抗反射层25，使得因为被反射而损失的光大大降低，从而增加了可以穿透偏光片2的光，提高光的透射率，增强显示效果。
本发明偏光片的制造方法包括按层堆叠形成离型层、粘着层、第一保护层、偏光基体、第二保护层，对所得的偏光片进行抛光处理，再对其紫外线照射处理，该紫外线照射处理时间是10～60秒，最后再将抗反射材料蒸镀镀膜在第二保护层上形成抗反射层。
请参阅图3，是本发明偏光片制造装置的示意图。该制造装置3包括多个滚轴装置31、感应装置38、紫外线照射处理装置32及多个蒸镀镀膜装置33、34、35、36，该多个滚轴装置31设置在偏光片30两侧，其可以对经过的偏光片30施加接触力，从而使得偏光片30的偏光基体形成各项异性，该感应装置38设置在该多个滚轴装置31的内部，其可以调整滚轴装置31和偏光片30的接触力，该感应装置38是压电型感应器。该紫外线照射处理装置32设置在多个滚轴装置31之后，其可以对所过的偏光片30进行紫外线照射固化处理。该多个蒸镀镀膜装置33、34、35、36可以将折射率不同的蒸镀镀膜材料喷射至偏光片30表面形成抗反射层。
本发明的偏光片及其制造装置并不限在本实施方式所述，如该第一表层和第三表层的高折射率材料还可以是NbOx、TiO3、Ti3O5或MgF2，该第二表层和第四表层的低折射率材料还可以是Al2O3或SiNx，该偏光片制造装置还可以包括设置在滚轴外的变频装置。
权利要求
1.一种偏光片，包括按层堆叠的离型层、粘着层、第一保护层、偏光基体、第二保护层，其特征在于该偏光片还包括设置在第二保护层上的抗反射层。
2.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于该抗反射层包括按层堆叠的第一表层、第二表层、第三表层、第四表层。
3.根据权利要求2所述的偏光片，其特征在于该第一表层的厚度在1×10-8～2×10-8米之间。
4.根据权利要求2所述的偏光片，其特征在于该第二表层的厚度在1.5×10-8～3.5×10-8米之间。
5.根据权利要求2所述的偏光片，其特征在于该第三表层的厚度在1×10-7～1.2×10-7米之间。
6.根据权利要求2所述的偏光片，其特征在于该第四表层的厚度在7×10-8～9×10-8米之间。
7.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于该第一表层和第三表层材料是Ta2O5、NbOx、TiO3、Ti3O5或MgF2。
8.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于该第二表层和第四表层材料是SiO2、Al2O3或SiNx。
9.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于该第一保护层和第二保护层材料是三醋酸纤维素。
10.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于该偏光基体材料是聚乙烯醇。
11.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于该偏光基体的高分子的长轴和短轴的比在3∶1～20∶1之间。
12.根据权利要求11所述的偏光片，其特征在于该偏光基体的高分子的长轴和短轴的比是在5∶1～10∶1之间。
13.一种偏光片制造方法，包括按层堆叠形成离型层、粘着层、第一保护层、偏光基体、第二保护层，以及将抗反射材料蒸镀镀膜到第二保护层上形成抗反射层。
14.根据权利要求13所述的偏光片制造方法，其特征在于该制造方法还包括在蒸镀镀膜抗反射材料前对偏光片进行抛光处理。
15.根据权利要求14所述的偏光片制造方法，其特征在于该制造方法还包括在抛光处理后对偏光片进行紫外线照射处理。
16.根据权利要求15所述的偏光片制造方法，其特征在于该紫外线照射处理时间是10～60秒。
17.一种偏光片制造装置，包括多个滚轴装置、紫外线照射处理装置及多个蒸镀镀膜装置，该多个滚轴装置设置在偏光片两侧，该紫外线照射处理装置及蒸镀镀膜装置都设置在该多个滚轴装置之后。
18.根据权利要求17所述的偏光片制造装置，其特征在于该多个滚轴装置还包括设置在其内部的压电型感应装置。
全文摘要
本发明公开一种偏光片及其制造方法和制造装置。本发明的偏光片包括按层堆叠的离型层、粘着层、第一保护层、偏光基体、第二保护层，其中该偏光片还包括设置在第二保护层上的抗反射层。本发明的偏光片具有较高的透射率。
文档编号G02B1/00GK1773344SQ200410052258
公开日2006年5月17日 申请日期2004年11月13日 优先权日2004年11月13日
发明者陈杰良, 吕昌岳 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司