一种增亮型偏光片的制作方法

文档序号:10265227阅读:951来源:国知局
一种增亮型偏光片的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及光学领域,尤其涉及一种增亮型偏光片。
【背景技术】
[0002]关于液晶显示光源利用率提升方案,业内技术人员从背光源、导光板、扩散板、增亮膜等方面着手,以期在光线进入偏振片之前对光源进行回收利用,从而提高光线利用率。而针对背光源,期望在不增加功耗条件下,提升背光源发光亮度,最终达到提升显示亮度目的,设计新型背光源技术开发,实施技术较难;针对导光板、扩散板等改进技术主要集中在调控光线,以求在该部分将光损失降到最低,改善程度一般。
[0003]当前较主流技术为对增亮膜透光技术改善,主要包括以下三个方面:具棱镜结构之增亮膜(BEF),其主要作用仅为产生聚光作用而不能重复利用光;多层漫反射式增亮膜(DBEF),重复采用高低折射率交替涂布与基材表面形成连续相的漫反射增亮作用。在以上两项技术增亮膜技术研究和实施者中,以美国3M公司最为突出,是棱镜增亮膜(BEF)和多层漫反射式增量膜(DBEF)主要供应商,目前已经推出BEF与扩散功能相结合的产品,在传统棱镜片的基材下侧涂布含有扩散材料,使光学膜同时具有扩散膜与棱镜片的效果。最新增亮膜研究方向为胆固醇液晶反射式增亮膜,利用胆留相液晶材料对圆偏振光具有选择性反射作用,能够将与其螺距方向旋转方向相同的圆偏振光反射回去,而与其螺距方向相反的圆偏振光得以透射。对于该项技术研究以力特光电、友达光电、奇美等台系厂家为代表,尚无市场化产品。
[0004]首先,以美国3M公司为代表市场主流增亮膜多为多层膜结构,制程要求精度高,制造工艺极为复杂,相应地,导致产品供应价格昂贵,下游厂商成本控制压力较大。其次,增亮膜一般搭配偏光片使用,由偏光片厂家将其与偏光片贴合后供应给下游厂家。在贴合时,一方面,需对原增亮膜按照光学设计角度进行裁切、拼接后,再与偏光片贴合,存在操作流程繁琐缺陷,操作精度难以保证;另一方面,增亮膜在与偏光片贴合过程中,由于其为多层膜结构,层间易出现分层现象,严重影响产品质量。最后,台系厂家致力研究的胆固醇液晶反射式增亮膜,具体制程步骤大致为直接在1/4 λ补偿膜表面涂布胆固醇液晶制得增亮膜或取两基材分别涂布具有补偿和增亮功能液晶化合物,涂布面贴合制得增亮膜。前者1/4 λ补偿膜供应商大都来源于日系厂家,技术垄断,价格昂贵;后者,因两涂层与原基材接着力较小,涂层薄且质地易碎,后续与偏光片贴合步骤实施难度较大。出于经济成本考量,或技术稳定性等原因,市场端尚无产品供应。
[0005]不断推进液晶显示质量提升是IXD从业者的目标,而液晶显示器亮度状况直接影响显示质量。偏光片在LCD显示中不可或缺,其也是背光源亮度损失主要原因之一,如何有效提尚偏振片层光源利用率,从而提升显不壳度,以达到有效提尚显不质量、减少耗能之目的,是现今偏光片行业亟待解决问题。
【实用新型内容】
[0006]为了解决现有技术中问题,本实用新型提供了一种增亮型偏光片,包括依次连接的第一保护膜、PVA偏光子、第二保护膜和压敏胶层,其中,第一保护膜包括第一保护膜主体、线性光聚合物、第一液晶聚合物和第二液晶聚合物;第一保护膜主体的第一面涂布所述线性光聚合物,所述线性光聚合物上涂布所述第一液晶聚合物,第一保护膜主体的第二面涂布所述第二液晶聚合物。
[0007]作为本实用新型的进一步改进,第一保护膜主体可以为三醋酸纤维素膜、聚环烯烃膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、或聚对苯二甲酸乙二酯膜材。
[0008]作为本实用新型的进一步改进,第二保护膜为普通的无光学补偿特性的膜或为经延伸法或涂布法制得的具有光学补偿特性的膜材。
[0009]作为本实用新型的进一步改进,第二保护膜为三醋酸纤维素膜、聚环烯烃膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜或聚对苯二甲酸乙二酯膜。
[0010]本实用新型的有益效果是:
[0011]—、以有限步骤即可制得具有增亮作用之偏光片,将涂布操作极为复杂的增亮膜工艺与偏光片制备工艺有机结合,制得薄型一体化具有增亮膜功能的偏光片;二、原增亮膜贴合偏光片前的裁切、接缝步骤得以避免,生产良率和效率得以显著提高;三、现增亮涂层与基材接着强度提高,避免之前增亮膜多层膜结构的分层现象。总之,该项技术开发,于偏光片制造企业,可有效降低生产成本,实现功能膜材内置化,于液晶显示行业,符合当前轻、薄一体化趋势,具有广阔应用前景。
【附图说明】
[0012]图1是本实用新型增亮型偏光片的第一保护膜结构示意图;
[0013]图2是本实用新型增亮型偏光片结构示意图;
[0014]图3是本实用新型增亮型偏光片使用示意图;
[0015]图中各部件名称如下:
[0016]第一保护膜主体200,线性光聚合物201,第一液晶聚合物202,第二液晶聚合物203,第一保护膜20,PVA偏光子21,第二保护膜22,压敏胶层23,离型膜24,背光单元1,增亮型偏光片2,液晶盒3上偏光片4。
[0017]PVA:聚乙烯醇膜。
【具体实施方式】
[0018]下面结合附图对本实用新型做进一步说明。
[0019]—种增亮型偏光片,包括依次连接的第一保护膜20、PVA偏光子21、第二保护膜22、压敏胶层23和离型膜24,其中,第一保护膜20包括第一保护膜主体200、线性光聚合物201、第一液晶聚合物202和第二液晶聚合物203 ;第一保护膜主体200的第一面涂布所述线性光聚合物201,所述线性光聚合物201上涂布所述第一液晶聚合物202,第一保护膜主体200的第二面涂布所述第二液晶聚合物203。
[0020]如图1所示,图1为第一保护膜结构示意图,本实用新型具体实施步骤如下:
[0021](a)取一光学参数适宜偏光子保护膜,以下称为第一保护膜主体200 ;
[0022](b)对该第一保护膜主体200进行双面处理,以增大与涂布在其表面材料之粘结强度;
[0023](c)在该基材其中一面(称之为A面)涂布线性光聚合物201 ;
[0024](d)进行预干燥处理以蒸发溶剂;
[0025](e)用适宜剂量、预定方向之线性偏振紫外光LPUV处理A面;
[0026](f)继续在A面涂布第一液晶聚合物202 ;
[0027](g)进行预干燥处理;
[0028](h)在惰性气体氛围中,用非线性紫外光处理A面并收卷;
[0029](i)在该保护膜另一面(称之为B面)涂布第二液晶聚合物203 ;
[0030](j)预干燥处理;
[0031](k)在惰性气体氛围中,用非线性紫外光照射处理B面并收卷,得经双面处理之最终保护膜,即为第一保护膜20。
[0032]接下来如图2,图-2增亮型偏光片结构示意图:
[0033](L)按大众所周知的干法或湿法工艺,制备PVA偏光子21,并取另一经单面处理PVA保护膜,此处称为第二保护膜22 ;
[0034](m)按照偏光片“三明治”结构贴合,其中,对于第一保护膜,其贴合面为A面,然后按照公知方式,在第二保护膜22非贴合面复合已涂覆压敏胶层23和离型膜24,自下而上结构为第一保护膜20、PVA偏光子21、第二保护膜22、压敏胶层23和离型膜24,即制得增亮型偏光片2。
[0035]如图3所示,图3为增亮型偏光片使用示意图,该增亮型偏光片2在液晶显示流程中使用方法与公知偏光片和增亮膜使用方法类似,将该增亮型偏光片20上表面离型膜24撕去,按照预设定角度将上偏光片4和该增亮型偏光片2对贴于液晶盒3两侧,实现背光单元I出射光线,经增亮型偏光片2,左右旋圆偏振光在第一保护膜层20,选择性地先后通过该层,实现光线充分利用,同时将经过该层后的椭圆偏振光修正为圆偏振光,后经PVA偏光子21入射液晶盒3,经上偏光片4出射,配合其他显示单元实现显示效果。
[0036]以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明,不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换,都应当视为属于本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种增亮型偏光片,其特征在于:包括依次连接的第一保护膜(20)、PVA偏光子(21)、第二保护膜(22)和压敏胶层(23),其中,第一保护膜(20)包括第一保护膜主体(200 )、线性光聚合物(201)、第一液晶聚合物(202 )和第二液晶聚合物(203 );第一保护膜主体(200 )的第一面涂布所述线性光聚合物(201),所述线性光聚合物(201)上涂布所述第一液晶聚合物(202),第一保护膜主体(200)的第二面涂布所述第二液晶聚合物(203)。2.根据权利要求1所述的一种增亮型偏光片,其特征在于:第一保护膜主体(200)为三醋酸纤维素膜、聚环烯烃膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、或聚对苯二甲酸乙二酯膜材。3.根据权利要求1所述的一种增亮型偏光片,其特征在于:第二保护膜(22)为普通的无光学补偿特性的膜或为经延伸法或涂布法制得的具有光学补偿特性的膜材。4.根据权利要求3所述的一种增亮型偏光片,其特征在于:第二保护膜(22)为三醋酸纤维素膜、聚环烯烃膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜或聚对苯二甲酸乙二酯膜。
【专利摘要】本实用新型提供了一种增亮型偏光片,包括依次连接的第一保护膜、PVA偏光子、第二保护膜、压敏胶层和离型膜,其中,第一保护膜包括第一保护膜主体、线性光聚合物、第一液晶聚合物和第二液晶聚合物;第一保护膜主体的第一面涂布所述线性光聚合物,所述线性光聚合物上涂布所述第一液晶聚合物,第一保护膜主体的第二面涂布所述第二液晶聚合物。有效降低生产成本,实现功能膜材内置化。
【IPC分类】G02B5/30
【公开号】CN205176313
【申请号】CN201520704361
【发明人】徐凯, 陈敏, 高源 , 窦甜, 张云飞
【申请人】深圳市盛波光电科技有限公司
【公开日】2016年4月20日
【申请日】2015年9月11日
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