本实用新型涉及光学器件技术领域，尤其涉及一种单晶硅双腔结构的光学标准具。
背景技术：
光学标准具是用于光学测量系统中的一种光学器件。光学标准具的光学性能，比如光学标准具的折射率、尺寸精度等对光学测量系统的测量精度有重要的影响，提高光学标准具的精度能够更好的保证光学测量系统的精度。
为了保证光学标准具的精度，需要综合考虑光学材料选择与熔炼、冷加工和镀膜处理因素，优化设计出结构可靠、综合加工工艺优越的光学标准具零件，确保加工后的光学标准具精度高、性能稳定。
技术实现要素：
为克服现有技术的不足，本实用新型提供了一种结构可靠、锐度和对比度高、整体性能好的单晶硅双腔结构的光学标准具。
本实用新型为达到上述技术目的所采用的技术方案是：一种单晶硅双腔结构的光学标准具，包括两个相连的第一标准器件和第二标准器件，所述第一标准器件和第二标准器件的厚度相等或不相等，所述第一标准器件和第二标准器件精密粘合在一起，所述第一标准器件的光入射面上设有第一镀膜层，所述第一标准器件和第二标准器件的接触面上分别设有第二镀膜层、第三镀膜层，所述第二镀膜层和第三镀膜层之间设有调节膜腔，所述第二标准器件的光出射面上设有第四镀膜层，所述第一镀膜层、第二镀膜层、第三镀膜层和第四镀膜层的膜层厚度各不相同。
所述第一标准器件和第二标准器件的自由光谱范围FSR为400GHz±4 GHz，波长为1597nm。
所述第一标准器件和第二标准器件的厚度都小于0.15mm。
作为优选的，所述第一标准器件和第二标准器件的厚度都为0.13mm，所述第一标准器件和第二标准器件的厚度差小于0.5μm。
所述第一镀膜层、第四镀膜层中都设有两层以上的膜层结构。
所述第一标准器件和第二标准器件由单晶硅材料加工而成。
本实用新型的有益效果是：
采用上述结构，通过设计一个由两个标准器件紧密结合构成的光学标准具，利用两个标准器件构成双腔结构，光学标准具中的标准器件厚度很小、组合后结构稳定可靠，适用范围广；每个标准器件都能够根据应用需要进行镀膜处理，调节膜腔也能够根据光学性能进行设计和单独加工处理，能够得到比单个标准器件构成的光学标准具具有更高的锐度和对比度，而且双腔结构的光学标准具具有滤波作用，能够加强对边带的抑制作用，确保加工后的光学标准具整体性能更好。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。其中：
图1是本实用新型单晶硅双腔结构的光学标准具的结构示意图。
具体实施方式
为详细说明本实用新型的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图详细说明。
请参阅图1所示，本实用新型单晶硅双腔结构的光学标准具包括两个相连的第一标准器件1和第二标准器件2，所述第一标准器件1和第二标准器件2的厚度相等或不相等，所述第一标准器件1和第二标准器件2利用深化光胶精密粘合在一起，所述第一标准器件1的光入射面上设有第一镀膜层11，所述第一标准器件1和第二标准器件2的接触面上分别设有第二镀膜层12、第三镀膜层21，所述第二镀膜层12和第三镀膜层21之间设有调节膜腔3，所述第二标准器件2的光出射面上设有第四镀膜层22，所述第一镀膜层11、第二镀膜层12、第三镀膜层21和第四镀膜层22的膜层厚度各不相同；调节膜腔3能够根据需要选择不同的光学膜层材料。
所述第一标准器件1和第二标准器件2的自由光谱范围FSR为400GHz±4 GHz，波长为1597nm。
所述第一标准器件2和第二标准器件2的厚度都小于0.15mm。
在具体实施时，第一标准器件2和第二标准器件2的厚度优先选用0.13mm，加工后第一标准器件2和第二标准器件2的厚度差小于0.5μm。
所述第一镀膜层11、第四镀膜层22中都设有两层以上的膜层结构，膜层结构能够根据光学性能要求进行定制。
所述第一标准器件1和第二标准器件2由单晶硅材料加工而成。
以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。