本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其指一种光刻胶供应装置。
背景技术：
半导体制造工艺中，光刻工艺一直被认为是集成电路制造中关键的步骤，在整个工艺过程中需要被多次使用，其稳定性及可靠性对产品的质量、良率和成本有着重要的影响。光刻工艺是一个复杂的过程，其本质是把电路结构以图形的形式复制到以后要进行刻蚀和离子注入的晶圆上：首先利用光刻胶涂布系统在晶圆上形成一层感光材料——光刻胶薄层，再将平行光经过掩膜版照射在光刻胶薄层上使其曝光而变质，最后利用显影液进行显影完成图形转移。其中，若形成的光刻胶薄层厚度出现了偏差，会直接影响到后面相关工艺的进行，如光刻胶厚度超过预计厚度，可能造成曝光、显影不充分，得不到正常的光刻图形；而光刻胶厚度小于预计厚度，除曝光显影不正常导致的图形变形外，还可能会造成光刻胶对晶圆的保护失败，晶圆在经过刻蚀工艺后报废。故而在光刻胶的涂布工艺中，实现对光刻胶厚度的良好控制非常关键。
而现有的光刻胶涂布系统输入光刻胶时常常掺入气泡，当光刻胶薄层中含有气泡时，不仅会使得光刻胶喷涂不均匀，成品率下降，还会导致光刻胶的实际涂布量变少，形成的光刻胶薄层的厚度变薄。
技术实现要素：
本实用新型的目的是提供一种光刻胶供应装置，以减少最终形成的光刻胶薄层中的气泡。
本实用新型提供的技术方案如下：一种光刻胶供应装置，其特征在于，包 括：
储罐，用于承装光刻胶，其上包括有进口和出口，所述进口设于所述储罐上部，所述出口设于所述储罐下部；
输入管，通过所述进口与所述储罐连通，并延伸至所述储罐内与所述储罐的侧壁贴合，向所述储罐内输入光刻胶；以及，
输出管，通过所述出口与所述储罐连通，以输出光刻胶。
本技术方案，储罐用以暂存光刻胶，输入管用以向储罐中注入光刻胶，输出管用以输出光刻胶以形成光刻胶薄层。输入管与储罐的侧壁贴合，使得光刻胶在从输入管流出后可以沿着储罐侧壁流动，如此可以规避其直接以垂直滴落的方式运动时卷入空气形成气泡。
优选的，所述输入管包括第一段和第二段，所述第一段和所述第二段拼合为L型，所述第一段为直线形状；所述进口位于所述储罐的上壁面上。
所述第一段经由所述进口从所述储罐外延伸至所述储罐内，所述第二段位于所述储罐内且弯向所述储罐的侧壁。
本技术方案，第一段为直线形状，并且进口位于上壁面上，光刻胶在直线段上是以垂直流动的形式动作的，借助其自身重力作用可以加快光刻胶的流动速度。第二段贴合至侧壁处，使得光刻胶从输入管流出后就沿着侧壁流动，有助于减少气泡。
优选的，进一步包括排气管，所述排气管与所述储罐连通，且所述排气管上设置有排气阀以控制开闭。专门设计排气管路有助于气泡排出。
具体的，所述输出管上设置有排液泵。可以加快光刻胶的供应。
具体的，所述出口位于所述储罐的下壁面上。
具体的，所述储罐在第一高度和第二高度上设置有液位传感器；
所述第一高度位于储罐底部，为空罐液位，所述第二高度位于所述储罐顶部，为满罐液位。
本技术方案，对于空罐液位和满罐液位进行监控，方便操作人员保持该光刻胶供应装置的光刻胶量，在适当的时候开始向该储罐中导入光刻胶或者停止导入光刻胶。
本实用新型提供的一种光刻胶供应装置，能够带来以下至少一种有益效果：
1、输入管贴合至储罐侧壁，避免光刻胶垂直滴落与空气接触后卷入空气，避免气泡的产生。
2、排液泵以促进该光刻胶供应装置输入光刻胶的动作，排气管可以通过与外界连通以促进气泡释放。
3、通过对于空罐液位以及满罐液位的监测，方便操作者了解储罐内的光刻胶量进行调控。
4、输入管设计为L型管，可以最大限度的利用光刻胶自身重力驱动光刻胶流动。
附图说明
下面将以明确易懂的方式，结合附图说明优选实施方式，对光刻胶供应装置的上述特性、技术特征、优点及其实现方式予以进一步说明。
图1是本实用新型光刻胶供应装置的结构示意图。
附图标号说明：100、储罐，200、输入管，210、第一段，220、第二段，300、输出管，400、排气管，410、排气阀。
具体实施方式
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对照附图说明本实用新型的具体实施方式。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图，并获得其他的实施方式。
为使图面简洁，各图中的只示意性地表示出了与本实用新型相关的部分，它们并不代表其作为产品的实际结构。
如图1所示，本实施例公开一种光刻胶供应装置的技术方案，包括：储罐100、输入管200以及输出管300。
储罐100用于承装光刻胶，其上设置有进口和出口，出口位于储罐100的下壁面上，进口位于储罐100的上壁面上。当然了，出口也可以位于储罐100下部的侧壁上，而进口也可以位于储罐100上部的侧壁上。
输入管200的一端与外界的光刻胶连通，另一端通过进口与储罐100连通，并延伸至储罐100内与储罐100的侧壁贴合，向储罐100内输入光刻胶；储罐是作为一个匹配涂布系统的一个光刻胶暂存罐。而输出管300通过出口与储罐100连通，以输出光刻胶。由于光刻胶的粘度一般比较大，其从管路中流通一般会有较大的阻力，因而输出管300上还可以进一步设置排液泵，以加速光刻胶流动。
示例性的，输入管200为L型管，包括分别为L形状两边的第一段210和第二段220，第一段210为直线形状；第一段210经由进口从储罐100外延伸至储罐100内，第二段220位于储罐100内且弯向储罐100的侧壁与其贴合。若该输入管200仅包括直线段，也即光刻胶脱离输入管后在空气中垂直滴落，这样会卷入空气卷入气泡，尤其是当光刻胶粘度较大时，这种情况会尤为严重。而本实施例中，由于输入管200的输出口是贴合储罐100的侧壁的，光刻胶会沿着侧壁流动进而避免卷入气泡。应当说明的是，上文叙述的输入管与储罐侧壁贴合，并不强调完全匹配的紧密精密贴合，而是贴合的状态可以使得输入管输出的光刻胶可以沿该侧壁上流动，这种贴合状态是较容易实现的，例如管壁为弧形壁面，输出管的第二段220的输出端口为一平面，平面抵靠至弧形壁就可以达到上述的贴合状态。
优选的，光刻胶供应装置进一步包括排气管400，排气管400与储罐100 连通，且排气管400上设置有排气阀410以控制开闭，排气管打开时储罐100与外界连通，可以促使光刻胶中的气泡排出。储罐100在第一高度和第二高度上设置有液位传感器。
第一高度位于储罐100底部，为空罐液位，第二高度位于储罐100顶部，为满罐液位。对于空罐液位和满罐液位进行监控，方便操作人员保持该光刻胶供应装置的光刻胶量，也即在适当的时候开始向该储罐100中导入光刻胶或者停止导入光刻胶。当然，也可以采用自动控制的方式进行调控。
应当说明的是，上述实施例均可根据需要自由组合。以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。