光学阻挡结构的制作方法

文档序号:16620528发布日期:2019-01-15 23:38阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种光学阻挡结构,包括:

框架,其界定孔径;

第一细长结构构件和第二细长结构构件,每个细长结构构件包括第一端和第二端,其中所述第一细长结构构件和第二细长结构构件在它们的第一端处连接到所述孔径的相对侧,且进一步地,其中所述第一细长结构构件和第二细长结构构件从所述框架平行于彼此并在与彼此相同的方向上延伸;以及

光学不透明阻挡构件,其定位成在所述第一细长结构构件和第二细长结构构件的各自的第二端之间延伸。

2.如权利要求1所述的光学阻挡结构,其中,所述阻挡构件的前表面形成阻挡面,所述阻挡面被设计尺寸以阻挡来自在成像系统中的样品容器的第一表面的反射光束且不阻挡来自所述样品容器的第二表面的反射光束。

3.如权利要求2所述的光学阻挡结构,其中,所述光学阻挡结构被设计尺寸以布置成相邻于光束分离器,以及所述阻挡构件的后表面布置在相对于所述框架的平面成角度的平面中,进一步地,其中所述角度被选择,使得所述阻挡构件的所述后表面实质上平行于所述光束分离器的面。

4.如权利要求3所述的光学阻挡结构,其中,所述阻挡构件的所述后表面的宽度在约2mm和7mm之间。

5.如权利要求3所述的光学阻挡结构,其中,所述阻挡构件的所述后表面的宽度是被选择来阻挡来自所述样品容器的第二表面的反射光束而不与从表面(S2,S3)反射的光束干涉的宽度。

6.如权利要求1所述的光学阻挡结构,其中,所述光学阻挡结构被设计尺寸用于与扫描系统协作来使用,所述扫描系统使被包含在包括四个反射表面的多层样品容器中的样品成像,且进一步地,其中所述阻挡构件的后表面形成阻挡面,所述阻挡面被设计尺寸以阻挡来自在成像系统中的样品容器的第一表面的反射光束且不阻挡来自所述样品容器的第二表面和第三表面的反射光束。

7.如权利要求6所述的光学阻挡结构,其中,所述光学阻挡结构被设计尺寸以具有三角形横截面。

8.一种光学阻挡结构,包括:

框架,其界定孔径,其中所述孔径被设计尺寸以在宽度上从大约20mm到40mm和在高度上从大约15mm到30mm;

第一结构构件,其包括界定细长主体的第一端和第二端,所述细长主体被设计尺寸以在长度上在大约20mm和30mm之间;

第二结构构件,其包括界定第二细长主体的第一端和第二端,所述第二细长主体被设计尺寸以在长度上在大约20mm和30mm之间,其中所述第一结构构件和所述第二结构构件在它们的第一端处连接到所述孔径的相对侧,其中所述第一结构构件和第二结构构件从所述框架平行于彼此并在与彼此相同的方向上延伸;以及

光学不透明阻挡构件,其定位成在所述第一结构构件和第二结构构件的各自的第二端之间延伸,所述阻挡构件被设计尺寸以在宽度上在大约1mm和20mm之间。

9.如权利要求8所述的光学阻挡结构,其中,所述阻挡构件的前表面形成阻挡面,所述阻挡面被设计尺寸以阻挡来自在成像系统中的样品容器的第一表面的反射光束且不阻挡来自所述样品容器的第二表面的反射光束。

10.如权利要求9所述的光学阻挡结构,其中,光学阻挡结构被设计尺寸以布置成相邻于光束分离器,以及所述阻挡构件的后表面布置在相对于所述框架的平面成角度的平面中,进一步地,其中所述角度被选择,使得所述阻挡构件的所述后表面实质上平行于所述光束分离器的面。

11.如权利要求10所述的光学阻挡结构,其中,所述阻挡构件的所述后表面的宽度是被选择来阻挡来自所述样品容器的第二表面的反射光束而不与从表面(S2,S3)反射的光束干涉的宽度。

12.如权利要求8所述的光学阻挡结构,其中,所述光学阻挡结构被设计尺寸用于与扫描系统协作来使用,所述扫描系统使被包含在包括四个反射表面的多层样品容器中的样品成像,且进一步地,其中所述阻挡构件的后表面形成阻挡面,所述阻挡面被设计尺寸以阻挡来自在成像系统中的样品容器的第一表面的反射光束且不阻挡来自所述样品容器的第二表面和第三表面的反射光束。

13.如权利要求12所述的光学阻挡结构,其中,所述光学阻挡结构被设计尺寸以具有三角形横截面。

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