滤光片及包含该滤光片的红外图像传感系统的制作方法

文档序号:16722976发布日期:2019-01-23 00:03阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种滤光片,包括玻璃基板(1)和镀制在所述玻璃基板(1)相对两个表面上的第一IR膜层(2)和第二IR膜层(3),其特征在于,

沿着远离所述玻璃基板(1)的方向,所述第一IR膜层(2)包括交替镀制第一低折射率材料层(21)和第一高折射率材料层(22),所述第二IR膜层(3)包括交替镀制的第二低折射率材料层(31)和第二高折射率材料层(32);

所述第一IR膜层(2)的最外层为第一低折射率材料层(21),所述第二IR膜层(3)的最外层为第二低折射率材料层(31)。

2.根据权利要求1所述的滤光片,其特征在于,在800-1200nm范围内,所述第一IR膜层(2)和所述第二IR膜层(3)均具有一个通带波段、两个过渡波段和两个截止波段,所述通带波段位于两个所述截止波段之间,所述过渡波段位于所述通带波段与所述截止波段之间;

所述通带波段具有中心波长,且在入射角从0°改变至30°的范围内,所述通带波段的中心波长漂移量介于7nm至13nm之间。

3.根据权利要求2所述的滤光片,其特征在于,在入射角度从20°改变至30°的范围内,入射角每变化1°,所述通带波段的中心波长的漂移量小于5nm。

4.根据权利要求2或3所述的滤光片,其特征在于,所述通带波段的透过率大于90%,所述截止波段的透过率小于0.1%。

5.根据权利要求1所述的滤光片,其特征在于,相邻的所述第一低折射率材料层(21)与所述第一高折射率材料层(22)的物理厚度的比值在0.01至100范围内;

相邻的所述第二低折射率材料层(31)与所述第二高折射率材料层(32)的物理厚度的比值在0.01至100范围内。

6.根据权利要求1或5所述的滤光片,其特征在于,在800nm至1200nm范围内,所述第一低折射率材料层(21)和所述第二低折射率材料层(31)的折射率均小于3,所述第一高折射率材料层(22)与所述第二高折射率材料层(32)的折射率均大于3。

7.根据权利要求6所述的滤光片,其特征在于,所述第一低折射率材料层(21)和所述第二低折射率材料层(31)的材料选自SiO2、SiN、Si2N、Si2N3、Si3N4中的一种或多种。

8.根据权利要求6所述的滤光片,其特征在于,所述第一高折射率材料层(22)和所述第二高折射率材料层(32)均为氢化硅层,在800-1200nm波长范围内的消光系数小于0.002,在850nm处的折射率大于3.6,在940nm处的折射率大于3.55。

9.根据权利要求8所述的滤光片,其特征在于,所述氢化硅层为溅射反应镀制材料层,溅射温度范围为80-300摄氏度、氢气流量为10-50sccm、溅射速率为0.1nm/s-1nm/s。

10.根据权利要求1所述的滤光片,其特征在于,所述第一IR膜层(2)与所述第二IR膜层(3)的总厚度小于8微米。

11.根据权利要求1所述的滤光片,其特征在于,所述滤光片的半高全宽值小于114nm。

12.一种包含如权利要求1-11任一项所述滤光片的红外图像传感系统,其特征在于,包括光源单元(4)和接收单元(5),

所述光源单元(4)包括IR发射光源(41)和第一镜头组件(42);

所述接收单元(5)包括第二镜头组件(51)、滤光片(52)和红外图像传感器(53)。

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