1.一种确定周期性结构的边缘粗糙度参数的方法，所述方法包括：
通过从周期性结构散射的辐射束获得散射信号；和
基于围绕非镜面衍射阶的散射信号的分布来确定边缘粗糙度参数。
2.如权利要求1所述的方法，其中确定边缘粗糙度参数的步骤包括将所述散射信号的分布与校准数据对比或与估计数据对比。
3.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其中确定边缘粗糙度参数包括基于所述散射信号的分布来确定边缘粗糙度参数的功率谱密度。
4.如前述权利要求中任一项所述的方法，进一步包括基于所述周期性结构的被确定的边缘粗糙度参数确定临界尺寸均匀性值的步骤。
5.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中确定该边缘粗糙度参数是基于所述散射信号中的所述非镜面衍射阶的形状。
6.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中确定该边缘粗糙度参数是基于在垂直于与所述周期性目标的周期性相关联的方向的倒易空间方向上围绕所述非镜面衍射阶的所述散射信号的分布。
7.如权利要求6所述的方法，其中确定边缘粗糙度参数是基于在垂直于与所述周期性目标的周期性相关联的方向的倒易空间方向上所述散射信号中的所述非镜面衍射阶的宽度。
8.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述辐射束包括具有在1纳米至100纳米的范围、可选地在5纳米至50纳米的范围、或可选地在10纳米至20纳米的范围的波长的辐射。
9.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述辐射束包括具有为13.5纳米的波长的辐射。
10.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中从入射到所述周期性结构上的非单色辐射束获得所述散射信号。
11.如权利要求10所述的方法，其中所述非单色辐射束由高阶谐波产生源产生。
12.如权利要求10或权利要求11所述的方法，其中入射到所述周期性结构上的非单色辐射束包括多个离散的波长。
13.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中通过以相对于包括所述周期性结构的衬底的垂直于其平面的轴线成小于70度的入射角入射到所述衬底上的辐射束获得所述散射信号。
14.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述散射信号包括散射强度信号。
15.一种用于检测衬底的周期性结构的检测设备，所述检测设备包括：
(a)辐射源，布置为使用辐射束照射所述衬底的区域；
(b)检测器，布置为检测从所述周期性结构散射的散射辐射束以便提供散射信号；
(c)处理器，能够操作以控制所述检测设备以便执行如权利要求1至15中任一项所述的方法。