1.一种用于在材料中形成全息结构的方法，所述全息结构被配置为在对所述全息结构的照射下将目标图像投射在远场中，所述方法包括：
计算用于投射所述目标图像的所述全息结构的设计；
修改所述设计以将标识符编码在用于投射所述目标图像的所述全息结构内；以及
通过将与修改后的设计相对应的特征映射到所述材料中来修改所述材料。
2.如权利要求1所述的方法，其中，通过所述修改后的设计进行编码的所述标识符为使得所述标识符在所投射的目标图像中基本上被隐藏、掩蔽或以其他方式基本上无法被识别。
3.如权利要求1或2所述的方法，其中，计算和/或修改所述设计中的至少一者包括使用所述标识符作为算法的一部分来计算所述修改后的设计。
4.如权利要求3所述的方法，其中，使用所述标识符包括根据所述标识符来选择所述算法的至少一个特征，可选地根据所述标识符来选择所述算法的参数值、迭代次数、种子或起点中的至少一者。
5.如权利要求1至4中任一项所述的方法，其中，计算所述设计包括计算用于投射所述目标图像的相位和/或振幅值的映射，其中，所述设计的每个特征对应于所述相位和/或振幅值之一。
6.如权利要求5所述的方法，其中，修改所述设计包括：计算包括至少一个不同的相位和/或振幅值的映射，使得由基于所述修改后的设计的所述全息结构投射的所述目标图像与在修改所述设计之前投射的所述目标图像没有区别。
7.如权利要求6所述的方法，其中，所述方法包括使用所述标识符来计算所述不同的相位和/或振幅值的映射。
8.如权利要求5、6或7所述的方法，其中，计算用于投射所述目标图像的所述相位和/或振幅值的映射包括：计算具有用于投射所述目标图像的相关联的相位和/或振幅值的特征集或特征组，其中，每个特征处于所述映射中的不同位置，并且所述映射中的每个位置具有至少两个相位和/或振幅值中的一个。
9.如权利要求8所述的方法，其中，所述映射中的每个位置具有至少三个相位和/或振幅值中的一个。
10.如权利要求8或9所述的方法，包括：使用所述标识符来为所述映射的至少一个特征选择所述相位和/或振幅值中的至少一个。
11.如权利要求8、9或10所述的方法，包括使用所述标识符来选择所述映射的至少一个特征；以及通过向所述(多个)特征指派等效于所述设计的原始相位值的至少一个不同的相位值来修改所述设计。
12.如权利要求1至11中任一项所述的方法，其中，计算和修改所述设计中的至少一者包括：
获得用于投射所述目标图像的所述全息结构的初始设计；以及为至少一个特征选择不同的相位和/或振幅值以修改所述设计，所述修改后的设计投射与可由同所述初始设计相对应的所述全息结构投射的所述目标图像没有区别或至少相似的目标图像。
13.如权利要求12所述的方法，其中，所述初始设计是相位和/或振幅值的映射，所述相位和/或振幅值包括以下各项中的至少一项：在所述映射的至少一部分上的恒定相位和/或振幅值；在所述映射的至少一部分上的随机相位和/或振幅值；以及在所述映射的至少一部分上的定义图案的相位和/或振幅值。
14.如权利要求12或13所述的方法，其中，所述初始设计包括相位和/或振幅值的映射，所述相位和/或振幅值的映射包括与所述标识符相对应的至少一个特征。
15.如任一前述权利要求所述的方法，其中，所述标识符包括初始种子，所述初始种子用于确定性地生成所述设计的所述特征的映射。
16.如任一前述权利要求所述的方法，包括：选择所述设计的至少一个部分，以及将所选择的(多个)部分与所述设计的至少另一个部分交换。
17.如权利要求16所述的方法，包括：验证所述全息结构的所述修改后的设计是否被配置为投射与由同所述未修改的设计相对应的全息结构投射的所述目标图像没有区别或至少相似的目标图像。
18.如权利要求16或17所述的方法，其中，所选择的部分和所述至少另一个部分是这样的部分：所述部分分别投射基本上相同或相似的目标图像，但是包括或表示至少部分地不同的映射。
19.如权利要求18所述的方法，包括：使用第一种子和/或第一迭代次数来生成包括在所选择的部分中或由所选择的部分表示的映射，以及使用不同的第二种子和/或不同的第二迭代次数来生成包括在所述至少另一个部分中或由所述至少另一个部分表示的映射。
20.如任一前述权利要求所述的方法，包括：通过以下操作中的至少一项来修改所述材料：改变所述材料的表面的水平；以及修改所述材料的折射率。
21.如任一前述权利要求所述的方法，包括：通过使用辐射以进行以下操作中的至少一项来修改所述材料：熔化、烧蚀、移动、沉积或以其他方式分配材料；以及改变所述材料的化学性质。
22.如任一前述权利要求所述的方法，其中，所述标识符包括序列号、唯一码、零件号、签名、徽标、图像、照片、名称、品牌、代码、符号、字符集、一次性输入或任何形式的标识。
23.如任一前述权利要求所述的方法，包括：在所述材料中形成多个全息结构，所述方法包括在所述材料中平铺所述全息结构。
24.如权利要求23所述的方法，其中，所述多个全息结构包括一组全息结构，所述一组全息结构包括至少一个子全息图子集，所述方法包括将所述至少一个子全息图子集以预定图案布置在所述一组全息结构内。
25.如任一前述权利要求所述的方法，包括：将所述全息结构与诸如水印、qr码设计、条形码或其他图案的另一图案组合在一起，以生成图案化的全息结构。
26.一种全息结构，用于在对所述全息结构的照射下将目标图像投射在远场中，所述全息结构包括：
基于修改后的设计的特征，所述修改后的设计将标识符编码在用于投射所述目标图像的所述全息结构内。
27.如权利要求26所述的全息结构，其中，通过所述修改后的设计进行编码的所述标识符为使得所述标识符在所投射的目标图像中被隐藏、掩蔽或以其他方式无法被识别。
28.如权利要求26或27所述的全息结构，其中，所述特征包括用于投射所述目标图像的相位和/或振幅值的映射，其中，所述设计的每个特征对应于所述相位和/或振幅值之一。
29.如权利要求28所述的全息结构，其中，所述映射包括具有用于投射所述目标图像的相关联相位和/或振幅值的特征集或特征组，其中，每个特征处于所述映射中的不同位置，并且所述映射中的每个位置具有至少两个相位和/或振幅值中的一个。
30.如权利要求29所述的全息结构，其中，所述映射中的每个位置具有至少三个相位和/或振幅值中的一个。
31.如权利要求26至30中任一项所述的全息结构，包括多个平铺的全息结构。
32.如权利要求31所述的全息结构，其中，所述多个平铺的全息结构包括一组全息结构，所述一组全息结构包括至少一个子全息图子集，所述至少一个子全息图子集以预定图案布置在所述一组全息结构内。
33.如权利要求26至32中任一项所述的全息结构，其中，所述全息结构与诸如水印、qr码设计、条形码或其他图案的另一图案组合在一起，以生成图案化的全息结构。
34.一种包括如权利要求26至33中任一项所述的全息结构的产品。
35.一种计算机程序产品，所述计算机程序产品当由处理系统或控制单元执行时，使所述处理系统或控制单元至少部分地实施如权利要求1至25中任一项所述的方法。
36.如权利要求35所述的计算机程序产品，其中，至少部分地实施如权利要求1至25中任一项所述的方法包括以下操作中的至少一项：
计算用于投射所述目标图像的所述全息结构的设计；以及
修改所述设计以将标识符编码在用于投射所述目标图像的所述全息结构内。
37.如权利要求36所述的计算机程序产品，包括控制激光器系统以通过将与修改后的设计相对应的特征映射到材料中来修改所述材料。
38.一种用于在材料中形成全息结构的系统，所述系统包括：
控制系统，所述控制系统用于执行如权利要求1至25中任一项所述的方法以修改所述全息结构的设计；以及
激光器系统，所述激光器系统用于根据所述设计来修改所述材料。
39.一种用于确定包括通过如权利要求1至25中任一项所述的方法形成的全息结构的材料的真实性的方法，所述方法包括：
检查所述全息结构的至少一部分以确定所述全息结构的设计；以及
将被检查的设计与预期设计进行比较。
40.如权利要求39所述的方法，包括：计算用于投射所述目标图像的所述全息结构的设计；以及修改所述设计以将与所述材料相关联的标识符编码在用于投射所述目标图像的所述全息结构内，其中，修改后的设计至少部分地包括所述预期设计。
41.一种计算机程序产品，所述计算机程序产品当由处理系统或控制单元执行时，使所述处理系统或控制单元至少部分地实施如权利要求39或40所述的方法。
42.一种用于确定包括通过如权利要求1至25中任一项所述的方法形成的全息结构的材料的真实性的系统，所述系统包括：
检查系统，所述检查系统用于检查所述全息结构设计；以及
比较系统，所述比较系统用于将被检查的设计与预期设计进行比较。