1.一种双层掩膜版，用于紫外光垂直配向技术，其特征在于，其包括具有漏光图案的第一掩膜版和位于所述第一掩膜版上且可移动的第二掩膜版；所述第一掩膜版包括遮光区域以及相对设置的第一漏光图案区域和第二漏光图案区域；所述第二掩膜版设有两个且不透光，其中一个第二掩膜版位于第一漏光图案区域左侧且可以遮住第一漏光图案区域的左侧部分，另一个第二掩膜版位于第二漏光图案区域右侧且可以遮住第二漏光图案区域的右侧部分。
2.根据权利要求1所述的双层掩膜版，其特征在于：第一漏光图案区域和第二漏光图案区域均包括非交叠区以及位于非交叠区至少一侧曝光交叠区；所述第二掩膜版可以遮住部分所述非交叠区。
3.根据权利要求1所述的双层掩膜版，其特征在于：第一漏光图案区域和第二漏光图案区域均包括非交叠区以及位于非交叠区至少一侧曝光交叠区；所述第二掩膜版可以遮住部分所述曝光交叠区。
4.根据权利要求1所述的双层掩膜版，其特征在于：第一漏光图案区域和第二漏光图案区域均包括非交叠区以及位于非交叠区至少一侧曝光交叠区；所述第二掩膜版可以遮住部分所述非交叠区和部分所述曝光交叠区。
5.根据权利要求1-4任一所述的双层掩膜版，其特征在于：还包括固定装置，所述固定装置包括框架以及与两个第二掩膜版连接的线性导轨以及与线性导轨连接的马达装置；所述第一掩膜版固定在框架的下方，线性导轨固定在框架内，两个第二掩膜版位于第一掩膜版的上方且通过线性导轨固定在框架内。
6.根据权利要求5所述的双层掩膜版，其特征在于：还包括监控控制装置，监控控制装置包括与马达装置连接的紫外光配向监控设备以及与紫外光配向监控设备连接的曝光精度追随装置。
7.一种改善权利要求6所述的双层掩膜版的漏光方法，其特征在于，包括如下步骤：
s1：根据照射在双层掩膜版上的紫外光照度、紫外光的照度差异、紫外曝光积光量和被曝光基板的移动速度计算出第一掩膜版的所需的最大的漏光开口宽度，根据所述最大的漏光开口宽度设计第一掩膜版；
s2：马达装置驱动线性导轨移动并带动第二掩膜版移动，调节第一掩膜版的漏光开口率；
s3：紫外光配向监控设备通过控制软件与马达装置和紫外光照度监控装置连接，依据紫外曝光积光量的计算公式计算出第一掩膜版的漏光开口宽度，马达装置依据控制软件计算出移动第二掩膜版的位置；
s4：曝光精度追随装置追踪第二掩膜版和第一掩膜版之间的对位位置；
s5：依据每张双层掩膜版对应的紫外光照度的差异进行第二掩膜版的位置调整，使每张第二掩膜版漏光区域的紫外光照度达到设定值。
8.根据权利要求8所述的双层掩膜版的漏光方法，其特征在于，步骤s1的第一掩膜版的所需的最大的漏光开口宽度的计算公式为：
漏光宽度＝紫外曝光积光量*被曝光基板的移动速度/紫外光照度。
9.根据权利要求8所述的双层掩膜版的漏光方法，其特征在于，步骤s3中紫外曝光积光量的计算公式为：紫外曝光积光量＝紫外光照度*第一掩膜版的漏光开口/被曝光基板的移动速度。
10.根据权利要求1-6任一所述的双层掩膜版的使用方法，其特征在于，包括如下步骤：
s1：第一掩膜版的第一漏光图案区域和第二漏光图案区域的非交叠区的宽度和/或交叠区的宽度增加；
s2：双层掩膜版固定在框架内，马达装置驱动线性导轨移动并带动第二掩膜版移动，调节第一掩膜版的漏光开口率；
s3：紫外光配向监控设备通过控制软件与马达装置连接和紫外光照度监控装置连接，依据紫外曝光积光量的计算公式计算出第一掩膜版的开口宽度，马达装置依据控制软件计算值移动第二掩膜版的位置；
s4：紫外光配向监控设备时时追踪曝光精度追随装置，核对第二掩膜和第一掩膜版的对位精度，监控第二掩膜版是否移动准确；
s5：核对第二掩膜版的位置后，进行配向曝光，使得相邻掩膜版之间达到曝光量一致。