1.一种感光化射线性或感辐射线性树脂组合物，其包含由通式(i)表示的化合物和酸分解性树脂，
m1+a--l-b-m2+(i)
通式(i)中，m1+及m2+分别独立地表示有机阳离子，
l表示2价的有机基团，
a-表示酸性阴离子基团，
其中，在由通式(i)表示的化合物的m1+及m2+分别被氢原子取代的由ha-l-bh表示的化合物中，由ha表示的基团的pka低于由bh表示的基团的pka，
b-表示由通式(b-1)～(b-4)中任一个表示的基团，
所述通式(b-1)～(b-4)中，*表示键合位置，
rb表示有机基团。
2.根据权利要求1所述的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物，其中，
b-表示由所述通式(b-1)～(b-3)中任一个表示的基团。
3.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物，其中，
b-表示由所述通式(b-1)～(b-2)中任一个表示的基团。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物，其中，
a-表示由通式(a-1)～(a-2)中任一个表示的基团，
所述通式(a-1)～(a-2)中，*表示键合位置，
ra表示有机基团，
其中，在由通式(i)表示的化合物的m1+及m2+分别被氢原子取代的由ha-l-bh表示的化合物中，由ha表示的基团的pka低于由bh表示的基团的pka。
5.一种抗蚀剂膜，其使用权利要求1至4中任一项所述的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物而形成。
6.一种图案形成方法，其具有如下工序：
使用权利要求1至4中任一项所述的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物在载体上形成抗蚀剂膜的工序；
对所述抗蚀剂膜进行曝光的工序；以及
使用显影液对经所述曝光的抗蚀剂膜进行显影的工序。
7.一种电子器件的制造方法，其包括权利要求6所述的图案形成方法。