一种眼镜清洗装置的制造方法

文档序号:8472230阅读:279来源:国知局
一种眼镜清洗装置的制造方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及清洗装置,更具体地说,尤其涉及一种眼镜清洗装置。
【背景技术】
[0002]眼镜是以矫正视力或保护眼睛而制作的简单光学器件,原始的由镜片和镜架组成;现推出一种隐形眼镜,其是一种戴在眼球角膜上,用以矫正视力或保护眼睛的镜片。隐形眼镜根据材料的软硬它包括硬性、半硬性、软性三种。为了矫正视力和保护眼睛,眼镜的清洗护理也是尤为重要。但是目前市场只有单独清洗框架眼镜的清洗装置和单独清洗隐形眼镜的清洗装置,使用不方便也不灵活,也浪费时间和电力,同时针对申请号为:“201320493628.0”的实用新型虽然可以实现两种眼镜的清洗,但是在清洗过程中无法定位框架眼镜和隐形眼镜,清洗过后不方便拿取的问题,提出新的技术方案。

【发明内容】

[0003]本发明提出一种可以对清洗的眼镜定位的眼镜清洗装置,拿取方便。
[0004]为解决上述技术问题,本发明的技术方案是:
一种眼镜清洗装置,其特征在于:包括主体部、设置在主体部上的第一清洗槽和第二清洗槽,其中在第一清洗槽内部按照V字形的三个顶点位置设置有定位卡槽,对框架眼镜清洗时,对准三个定位点将眼镜放入卡槽内,确保其在清洗的过程中不会被水流冲击来回撞击盒体,造成框架眼镜的损坏,保证清洗过程中眼镜在第二清洗槽内部设置有镂空的定位凹槽,所述凹槽直径大于隐形眼镜直径,用来是隐形眼镜或是美瞳定位,清洗过后可以很容易找到,在主体部上设有开关按键,所述的开关按键与超声波功率信号电路板相连接,所述的超声波功率信号电路板分别连接设置在第一清洗槽上的第一压电陶瓷和设置在第二清洗槽上的第二压电陶瓷相连接,所述的第一清洗槽的容积大于第二清洗槽,第一清洗槽用来清洗框架眼镜,所述的第一压电陶瓷的功率大于第二压电陶瓷,保证清洗不同眼镜的时候可以达到清洗干净。
[0005]本发明的有益效果是:本发明既可以清洗框架眼镜,也可以清洗隐形眼镜,保证清洗过程中两种眼镜都不会随水流冲击而摇晃,使用灵活方便,节省电力,且采用超声波技术,清洗效果佳。
[0006]【具体实施方式】一:
[0007]—种眼镜清洗装置,其特征在于:包括主体部、设置在主体部上的第一清洗槽和第二清洗槽,其中在第一清洗槽内部按照V字形的三个顶点位置设置有定位卡槽,对框架眼镜清洗时,对准三个定位点将眼镜放入卡槽内,确保其在清洗的过程中不会被水流冲击来回撞击盒体,造成框架眼镜的损坏,保证清洗过程中眼镜在第二清洗槽内部设置有镂空的定位凹槽,所述凹槽直径大于隐形眼镜直径,用来是隐形眼镜或是美瞳定位,清洗过后可以很容易找到,在主体部上设有开关按键,所述的开关按键与超声波功率信号电路板相连接,所述的超声波功率信号电路板分别连接设置在第一清洗槽上的第一压电陶瓷和设置在第二清洗槽上的第二压电陶瓷相连接,所述的第一清洗槽的容积大于第二清洗槽,第一清洗槽用来清洗框架眼镜,所述的第一压电陶瓷的功率大于第二压电陶瓷,保证清洗不同眼镜的时候可以达到清洗干净。
【主权项】
1.一种眼镜清洗装置,其特征在于:包括主体部、设置在主体部上的第一清洗槽和第二清洗槽,其中在第一清洗槽内部按照V字形的三个顶点位置设置有定位卡槽,在第二清洗槽内部设置有镂空的定位凹槽,所述凹槽直径大于隐形眼镜直径,在主体部上设有开关按键,所述的开关按键与超声波功率信号电路板相连接,所述的超声波功率信号电路板分别连接设置在第一清洗槽上的第一压电陶瓷和设置在第二清洗槽上的第二压电陶瓷相连接,所述的第一清洗槽的容积大于第二清洗槽,所述的第一压电陶瓷的功率大于第二压电陶瓷。
【专利摘要】一种眼镜清洗装置,其特征在于:包括主体部、设置在主体部上的第一清洗槽和第二清洗槽,其中在第一清洗槽内部按照V字形的三个顶点位置设置有定位卡槽,对框架眼镜清洗时,对准三个定位点将眼镜放入卡槽内,确保其在清洗的过程中不会被水流冲击来回撞击盒体,造成框架眼镜的损坏,保证清洗过程中眼镜在第二清洗槽内部设置有镂空的定位凹槽,所述凹槽直径大于隐形眼镜直径,用来是隐形眼镜或是美瞳定位,清洗过后可以很容易找到,本发明既可以清洗框架眼镜,也可以清洗隐形眼镜,保证清洗过程中两种眼镜都不会随水流冲击而摇晃,使用灵活方便,节省电力,且采用超声波技术,清洗效果佳。
【IPC分类】G02C13-00
【公开号】CN104793354
【申请号】CN201410775375
【发明人】朱伟萍
【申请人】青岛东昌源仪器有限公司
【公开日】2015年7月22日
【申请日】2014年12月16日
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