光学膜的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及一种光学膜的制造方法。
【背景技术】
[0002] 在液晶显示装置中使用各种光学膜。其中，通过实施摩擦处理对液晶层赋予取向 性的光学膜已为人所知。该光学膜例如是通过W下方式制造；使具有取向层形成层的支撑 体连续移动，对取向层形成层实施摩擦处理而形成取向层，在取向层上涂布含有交联性液 晶性化合物的涂布液，接着加W干燥，然后使之硬化而形成液晶层。
[0003] 在制造该种光学膜时的摩擦处理中，由取向不良所引起的表面缺陷成问题。已提 出了用来减少该缺陷的方法。例如专利文献1公开了W下方法：在摩擦处理时从支撑体的 背面侧施加流体压力，将支撑体按压在摩擦漉上，由此减少由取向不良引起的表面缺陷。
[0004][现有技术文献]
[0005][专利文献]
[0006][专利文献1]日本专利特开2006-267919号公报
【发明内容】
[0007][发明所欲解决的问题]
[0008] 但是近年来，对光学膜的表面缺陷的品质要求不断提高。已判明特别是在相对于 支撑体的搬送方向而倾斜配置摩擦漉的情况下，有时光学膜中产生由取向不良所引起的表 面缺陷。
[0009] 本发明是鉴于该种情况而成，其目的在于提供一种光学膜的制造方法，所述光学 膜的制造方法在制造光学膜时的摩擦处理中，可减少由取向不良所引起的表面缺陷。
[0010] [解决问题的手段]
[0011] 第一实施形态的光学膜的制造方法至少包括W下工序：将在第一面上具有取向层 形成层的连续的支撑体加W搬送；为了形成取向层而进行摩擦处理，所述摩擦处理在相对 于与搬送方向正交的宽度方向而W摩擦角a配置的摩擦漉上，W包绕角0卷绕支撑体并 赋予第一按压力F1，且对支撑体的第二面喷附气体而赋予第二按压力F2,由此将支撑体按 压在摩擦漉上，在此状态下使取向层形成层与经旋转驱动的摩擦漉接触，并且第二按压力 巧在支撑体的中央部高于支撑体的各端部；W及在经摩擦处理的取向层上涂布含有交联 性液晶性化合物的涂布液。
[0012] 第二实施形态的光学膜的制造方法优选的是摩擦角a为5°~60°的范围。
[0013] 第=实施形态的光学膜的制造方法优选的是支撑体的中屯、处的包绕角0为 3°~15。的范围。
[0014] 第四实施形态的光学膜的制造方法优选的是仅对中央部赋予第二按压力巧。
[001引[发明的效果]
[0016] 根据本发明的光学膜的制造方法，可减少摩擦处理中的由取向不良所引起的光学 膜的表面缺陷。
【附图说明】
[0017]图1为表示光学膜的制造流水线的概略构成图。
[0018] 图2为用来说明摩擦角a的说明图。
[0019] 图3为用来说明包绕角的说明图。
[0020] 图4(A)至图4炬）为表示加工量的算出方法的说明图。
[0021] 图5为表示摩擦处理工序的装置构成的概略构成图。
[0022] 图6为说明摩擦角a与包绕角0的关系的说明图。
[0023] 图7为说明摩擦角a与包绕角0的关系的说明图。
[0024] 图8为表示第一按压力F1与支撑体的宽度方向的位置的关系的图。
[0025] 图9为表示合计按压力F与支撑体的宽度方向的位置的关系的图。
[0026] 图10为说明支撑体的中央部与端部的说明图。
[0027] 图11 (A)至图11似为表示第二按压力巧的分布（profile)的图。
[0028] 符号的说明
[002引20;制造流水线
[0030] 21A、21B;椿式涂布装置
[0031] 25A、25B;除尘机
[0032] 26;网
[0033] 50;喷嘴
[0034] 50A;开口 [00巧]66 ;送出机
[0036]68 ;导漉
[0037] 72;摩擦漉
[0038] 76A、76B;干燥区
[003引 78A、78B;加热区
[0040] 80;紫外线灯
[0041] 82;卷取机
[004引 86、88 ;支承漉
[004引90;检查装置
[0044] 92;层压机
[0045] 94;保护膜
[0046]CL;中屯、线
[0047]F;合计按压力
[004引F1;第一按压力
[004引F2;第二按压力
[0050]X1、Y1、Y2、Y、Z;距离
[0051]a;摩擦角
[0052] 0、0 1、0 2;包绕角
[00閲 y;动摩擦系数
【具体实施方式】
[0054] W下，根据附图对本发明的优选实施形态加W说明。本发明是通过W下的优选实 施形态来进行说明。可在不偏离本发明的范围的情况下，通过多种方法进行变更，且可利用 本实施形态W外的其他实施形态。因此，本发明的范围内的所有变更包括在权利要求的范 围内。
[00巧]该里，图中W同一记号表示的部分为具有相同功能的相同要素。另外，本说明书 中，在使用"~"表示数值范围的情况下，视为"~"所表示的上限、下限的数值也包括在数 值范围内。
[0056] 参照图1的制造流水线20来对本实施形态的光学膜的制造方法进行说明。在光学 膜的制造流水线20中，将卷形状的连续的支撑体26设置在送出机66中。从送出机66中 送出支撑体26,向下游的工序搬送。所送出的支撑体26是由导漉68所引导，向除尘机25A 搬送。通过除尘机25A将附着在支撑体26的表面上的灰尘除去。
[0057] 例如，支撑体26是从送出机66中WIm/min~50m/min的搬送速度送出。但是， 不限定于该搬送速度。另外，在送出时，例如对支撑体26施加25N/m~500N/m的张力。从 防止皱權和防止由膜滑动所致的伤痕的观点来看，优选为50N/m~300N/m。
[0058] 连续的支撑体26具有相向的第一面与第二面，且具有长条的形状。支撑体26的 第一面与第二面的距离、即厚度优选为10ym~100ym。从所应用的产品的减小厚度的要 求和防止皱權的观点来看，支撑体26更优选的是具有15ym~60ym的厚度。另外，支撑 体26例如具有300mm~1500mm的宽度，且具有100m~5000m的长度。支撑体26的厚度 及宽度是根据所应用的产品而适当选择。支撑体26有时被称为网（web)、膜、片（sheet)。
[0059] 支撑体26优选的是含有选自酷化纤维素（celluloseacylate)、环状締姪、丙締 酸系树脂、聚对苯二甲酸己二醋树脂及聚碳酸醋树脂中的至少一种作为主成分。另外，支撑 体26中，除了所述主成分的树脂W外，例如可含有塑化剂、紫外线吸收剂等。
[0060] 将支撑体26搬送到设置在除尘机25A下游的椿式涂布装置21A中。通过椿式涂 布装置21A将含有取向层形成用树脂的涂布液涂布在支撑体26上，在支撑体26的第一面 上形成含有取向层形成用树脂的涂膜。另外，也可W采用其他涂布机构代替椿式涂布装置 21A。其他涂布机构可W应用；凹版涂布机（gravurecoater)、漉式涂布机（转送漉式涂布 机（transferrollcoater)、逆转漉式涂布机（reverserollcoater)等）、模式涂布机 (diecoater)、挤压式涂布机（extrusioncoater)、喷注式涂布机（fountaincoater)、帘 幕式涂布机（州rtaincoater)、浸溃涂布机（dipcoater)、喷雾涂布机（spraycoater)或 滑动料斗（slidehopper)等。
[0061] 用于取向层形成用树脂的聚合物可使用其本身可交联的聚合物或通过交联剂而 交联的聚合物的任一种。另外，也可使用多种该些聚合物的组合。聚合物的例子中，可W举 出；聚甲基丙締酸甲醋、丙締酸/甲基丙締酸共聚物、苯己締/马来酷亚胺共聚物、聚己締醇 及改性聚己締醇、聚（N-哲甲基丙締酷胺）、苯己締/7締基甲苯共聚物、氯横化聚己締、硝基 纤维素、聚氯己締、氯化聚締姪、聚醋、聚酷亚胺、己酸己締醋/氯己締共聚物、己締/己酸己 締醋共聚物、駿甲基纤维素、明胶（gelatin)、聚己締、聚丙締及聚碳酸醋等聚合物及硅烷偶 合剂等化合物。优选聚合物的例子为聚（N-哲甲基丙締酷胺）、駿甲基纤维素、明胶、聚己締 醇及改性聚己締醇等水溶性聚合物，进而优选明胶、聚己締醇及改性聚己締醇，特别优选聚 己締醇及改性聚己締醇，尤其优选将聚合度不同的2种聚己締醇或改性聚己締醇并用。
[0062] 在第一面上形成有涂膜的支撑体26.被依次搬送到干燥区76A、加热区78A中。通 过使含有取向层形成用树脂的涂膜干燥，而在支撑体26的第一面上形成取向层形成层。在 第一面上形成有取向层形成层的支撑体26是由导漉68所引导，向摩擦处理的工序搬送。
[0063] 所谓摩擦处理，是指使用纸或纱布（gauze)、毛拉（felt)、橡胶或巧龙、聚醋纤维 等将取向层形成层的表面朝一定方向摩擦的处理。通常通过W下方式来实施：将平均地植 毛有长度及粗细度均匀的纤维的布等贴附在漉上，摩擦几次左右。
[0064] 在摩擦处理的工序中，为了对取向层形成层实施摩擦处理而配置着摩擦漉72。摩 擦漉72是由圆筒状的漉、及贴附在漉的外周面上的摩擦布所构成。摩擦布例如是由基布及 织入到基布中的绒头纱线（pileyarn)所构成。例如，基布及绒头纱线例如可W使用选自 W下材料中的一