基板容器清洗装置的制造方法

文档序号:9014533阅读:880来源:国知局
基板容器清洗装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及基板生产技术领域,特别是涉及基板容器清洗装置。
【背景技术】
[0002]在TFT (Thin Film Transistor,薄膜晶体管)-LCD (Liquid Crystal Display,液晶显示器)基板生产过程中,TFT-1XD基板需要用篮子盛放进行转运,为了保证篮子内玻璃基板的清洁度,需要对篮子进行定期清洗,尤其是篮子内部如果不被清洗干净的话,内部的灰尘很容易污染到基板进而影响到基板的良率。目前清洗篮子的喷嘴在水平设置于篮子上方,在篮子清洗过程中喷嘴不能伸入到篮子的内部,影响到了篮子内部边角及支架的彻底清洗。
【实用新型内容】
[0003]基于此,有必要针对现有盛放基板的容器清洗效果不佳,只能清洗到篮子上方部分,清洗效率低下的缺陷,提供一种新的基板容器清洗装置。
[0004]一种基板容器清洗装置,包括:具有通孔的容器,所述容器上方活动设置有第一喷嘴,所述第一喷嘴连接一驱动机构,所述第一喷嘴还连接一供水管,所述第一喷嘴竖直设置于所述容器上方,所述容器底部间隔设置有多个支架。
[0005]在一个实施例中,所述供水管为软管。
[0006]在一个实施例中,所述驱动机构设置为气缸。
[0007]在一个实施例中,所述第一喷嘴数量为两个。
[0008]在一个实施例中,所述容器下方设置有与所述容器驱动连接的旋转机构。
[0009]在一个实施例中,所述旋转机构设置为旋转电机。
[0010]在一个实施例中,所述通孔设置于所述容器的底部。
[0011 ] 在一个实施例中,所述通孔设置于所述容器的侧面。
[0012]在一个实施例中,所述容器外侧设置有至少一个第二喷嘴。
[0013]在一个实施例中,所述第二喷嘴数量为四个。
[0014]上述基板容器清洗装置,对基板容器的清洗效果佳,且清洗效率高,极大的节省了清洗时间。
[0015]上述基板容器清洗装置,还对基板容器内部全方位清洗,进一步提高清洗效果。
[0016]上述基板容器清洗装置,还加快了清洗水流流动速度,进一步提高清洗效率。
【附图说明】
[0017]图1为本实用新型一个实施例的一种基板容器清洗装置的示意图;
[0018]图2为本实用新型一个实施例的容器的另一方向示意图;
[0019]图3为本实用新型一个实施例的容器的一方向剖视图。
【具体实施方式】
[0020]为了便于理解本发明,下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施方式。但是,本发明可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施方式。相反地,提供这些实施方式的目的是使对本发明的公开内容理解的更加透彻全面。
[0021]需要说明的是,当元件被称为“设置于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。
[0022]除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的,不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0023]如图1所示,其为本实用新型一较佳实施例的基板容器清洗装置10,包括:
[0024]具有通孔的容器100,例如,所述容器100设置为方形,方形的容器100与基板形状匹配,更适于放置基板,且可放置更多的基板,所述容器100顶部具有开口,所述容器100上方活动设置有第一喷嘴200,所述第一喷嘴200连接一驱动机构220,所述第一喷嘴200还连接一供水管210,所述第一喷嘴200竖直设置于所述容器100上方,所述第一喷嘴200在所述驱动机构220驱动下在容器100内移动,例如沿上方竖直方向上运动,如图2、图3所示,所述容器100底部间隔设置有多个支架110,所述支架110用于支撑放置基板,第一喷嘴200用于竖直伸入容器100内部,对容器100内部喷射、冲洗,例如,第一喷嘴200设置水平喷射端,用于水平喷射水流,尤其可对容器100的边角和支架110之间进行喷射、冲洗,使灰尘随着冲洗的水流冲走,并由容器100的通孔流出;例如,所述容器100为篮子。
[0025]为使第一喷嘴200可灵活在容器100上方和容器100内部运动,例如,所述供水管为软管210和驱动机构220,软管210还与供水装置(图未示)连接,供水装置为第一喷嘴200供水,水流经软管210输出到第一喷嘴200,且软管210具有良好的伸缩性,例如,所述软管210为伸缩软管210,又如所述软管210为折叠软管210 ;例如,所述软管210为塑料软管210。软管210用于随第一喷嘴200运动而伸长或缩短,使第一喷嘴200的运动更为灵活。
[0026]为提高第一喷嘴200的灵敏性,例如,所述驱动机构220设置为气缸220,气缸220具有较小的体积和较小的重量,可为第一喷嘴200在竖直方向上提供驱动力,同时避免对第一喷嘴200的运动和供水造成影响。
[0027]为进一步提高清洗效果,提高清洗效率,所述第一喷嘴200数量为两个,两个第一喷嘴200喷射效率更高,清洗效果更佳,且提高了清洗效率,例如,所述第一喷嘴200数量为三个,又如,所述第一喷嘴200数量为四个,例如,第一喷嘴200数量可根据容器100的容量大小设置,满足不同容器100的清洗需求。例如,两个第一喷嘴的夹角为O至160度,即两者喷射方向的夹角为O至160度,又如,两个第一喷嘴的夹角为120至150度,即两者喷射方向的夹角为120至150度;又如,两个第一喷嘴平行设置,即其喷射方向平行设置,又如,两个第一喷嘴的喷头位于同一水平位置;这样,可以获得更全面的喷洗效果。
[0028]为进一步提高清洗效果,使容器100的内部各个方位、各个部位都可得到充分冲洗,所述容器100下方设置有与所述容器100驱动连接的旋转机构300,所述旋转机构300驱动所述容器100旋转,使第一喷嘴200在容器100内部喷射时,喷射的水流可冲洗容器100的各个方位和部位,在一个实施例中,所述旋转机构300设置为旋转电机300,所述容器100在旋转电机300驱动下匀速旋转,提高清洗效果,例如,当清洗完毕后,旋转电机300加速旋转,将附在容器100上的水滴甩出,可在短时间内使容器100风干。
[0029]为使清洗后的水流可迅速流出,例如,通孔(图未示)可以设置在容器100的底部,便于水流排出,例如通孔设置在容器100的侧面,又如通孔设置在容器100的底部和侧面,这样,水流可快速从容器100的底部和侧面同时排出。
[0030]为进一步提高清洗效果,例如,所述容器100外侧设置有至少一个第二喷嘴400,第二喷嘴400水流朝容器100外壁喷射,对容器100外壁进行清洗,例如,所述第二喷嘴400数量为四个,四个第二喷嘴400设置于方形容器100的四个面的外侧,例如,第一喷嘴200在容器100内部向外部喷射,第二喷嘴400在容器100外部向容器100喷射,加快水流流动速度,进一步提高清洗效率。
[0031]以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
[0032]以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
【主权项】
1.一种基板容器清洗装置,其特征在于,包括具有通孔的容器,所述容器上方活动设置有第一喷嘴,所述第一喷嘴连接一驱动机构,所述第一喷嘴还连接一供水管,所述第一喷嘴竖直设置于所述容器上方,所述容器底部间隔设置有多个支架。2.根据权利要求1所述的基板容器清洗装置,其特征在于,所述供水管为软管。3.根据权利要求1所述的基板容器清洗装置,其特征在于,所述驱动机构设置为气缸。4.根据权利要求1-3任一项所述的基板容器清洗装置,其特征在于,所述第一喷嘴数量为两个。5.根据权利要求1所述的基板容器清洗装置,其特征在于,所述容器下方设置有与所述容器驱动连接的旋转机构。6.根据权利要求5所述的基板容器清洗装置,其特征在于,所述旋转机构设置为旋转电机。7.根据权利要求1所述的基板容器清洗装置,其特征在于,所述通孔设置于所述容器的底部。8.根据权利要求1所述的基板容器清洗装置,其特征在于,所述通孔设置于所述容器的侧面。9.根据权利要求7或8所述的基板容器清洗装置,其特征在于,所述容器外侧设置有至少一个第二喷嘴。10.根据权利要求9所述的基板容器清洗装置,其特征在于,所述第二喷嘴数量为四个。
【专利摘要】本实用新型涉及一种基板容器清洗装置,包括:具有通孔的容器,所述容器上方活动设置有第一喷嘴,所述第一喷嘴连接一驱动机构,所述第一喷嘴还连接一供水管,所述第一喷嘴竖直设置于所述容器上方,所述容器底部间隔设置有多个支架。本实用新型对基板容器的清洗效果佳,且清洗效率高,极大的节省了清洗时间。
【IPC分类】G02F1/13, B08B3/02
【公开号】CN204667003
【申请号】CN201520384283
【发明人】张正洋, 邓泽新, 黄伟东, 李建华
【申请人】信利(惠州)智能显示有限公司
【公开日】2015年9月23日
【申请日】2015年6月5日
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