专利名称：：加热处理方法和装置的制作方法
技术领域：
：5本发明涉及加热处理方法和装置，特别是关于等离子体显示器面板(以下称为PDP)的制造工序中所使用的加热处理方法和装置。
背景技术：
：在制造PDP时，在玻璃基板上形成显示电极，形成覆盖该显示电io极的介电体层和保护层而制作前面基板，在另--玻璃基板上形成地址电极，在该地址电极上形成介电体层、隔离壁和荧光体层而制作背面基板，将该前面基板与背面基板贴合，使显示电极与地址电极交叉。而且，在形成厚膜的显示电极和地址扫描电极、介电体层、隔离壁以及荧光体层的各工序中，是在基板上形成糊状物(Paste)层后，对该15糊状物层加热，实施干燥和烧结处理(例如参照专利文献l)。图8是表示现有的连续式加热炉的模式图，以及以该加热炉的位置为横坐标、以基板的温度为纵坐标来表示炉温分布的曲线图。如图8所示，现有的连续式加热炉101由升温部102、均热部103、以及降温部104构成，各部分由炉室105构成。在加热炉101内，作20为被加热物的基板(玻璃基板)111沿箭头112方向移动，通过升温部102、均热部103以及降温部104。升温部102是将基板111从室温升到温度T的部分，均热部103是将基板111保持为温度T的部分，降温部104是将基板111从温度T冷却的部分。日本专利特开平11-25854号公报2
发明内容然而，在将基板表面涂敷有同样厚度的糊状物的隔离壁(肋)形成用材料层在干燥炉中进行干燥的情况下，当基板很大时，难以均匀地干燥，会产生干燥不均。所以，如果是由喷砂处理而形成隔离壁(肋)，30则该干燥不均会作为隔离壁(肋)的宽度的偏差而明显化，存在有PDP制造工序中成品率下降的问题。本发明提供一种加热处理方法，将各自具有加热器的多个加热室串联连接，贯穿上述多个加热室并从上游向下游搬送被加热物，对每个加热室供给、排出温风，设定各加热室的温风的供气量与排气量，使得在向着上述被加热体的温度上升的方向上生成气流。对于各加热室的温风的供气量之和与排气量之和相等，也可以为一定o此外，从另一观点看，本发明提供一种加热处理装置，设置有各自具有加热器并串联连接的多个加热室；贯穿上述多个加热室并从上游向下游搬送被加热物的搬送部；对各加热室供给温风的供气部；从各加热室排出温风的排气部，设定各加热室的温风的供气量与排气量，使得在向着所述被加热体的温度上升的方向上生成气流。根据本发明，由于是从最上游的加热室向最下游的加热室生成温风的气流，由加热器而生成的被加热物的温度分布由该温风气流的热能与动能的作用而均匀化，所以，例如在适用于糊状物层的干燥工序的情况下，能够抑制干燥不均的发生。图1是适用于本发明的PDP的主要部分的分解立体图。图2是表示PDP隔离壁形成工序的说明图。图3是本发明的加热装置的结构图。图4是图3的主要部分的放大图。图5是表示向图3所示的装置导入温风的状态的说明图。图6是表示由图3所示的装置所发生的气流的流动的说明图。图7是被加热物的温度曲线图的一例。图8是现有的加热炉与炉温分布的说明图。符号说明1加热处理装置2被加热物6搬入口7搬出口9搬送辊<table>tableseeoriginaldocumentpage6</column></row><table>15具体实施例方式下面使用附图详细说明本发明的实施方式。但不以此对本发明进行限制。本发明所适用的PDP，是在相对的2枚基板之间配置有矩阵状的显示用的放电单元的装置。具体地，是由如图l所示的一对基板部件，20即背面基板部件50与前面基板部件50a所构成。其中，图中表示像素(RGB的3单元)。在前面基板部件50a中，在玻璃基板ll的内面上，在用于产生沿着基板面的面放电的横方向上延伸的电极X、Y，作为决定显示行的显示电极对S而配置。电极X、Y分别由ITO薄膜构成的宽带状的透明25电极41、以及由金属薄膜构成的窄带状的总线电极42所构成。总线电极42是用于确保适当的导电性的辅助电极。设置有介电体层17覆盖电极X、Y。介电体层17的表面被保护膜18所覆盖。介电体层17和保护膜18都具有透光性。接着，在背面基板部件50中，在背面侧的玻璃基板21的内面上，30与电极X、Y正交的纵方向上配置有地址电极A，设置有介电体层25，覆盖地址电极A。在介电体层25上的各地址电极A之间，逐个地设置有直线状(或格子状)的肋(隔离壁)29。在背面基板部件50中，通过这些隔离壁29，放电空间(放电单元)30被划分为各子像素(单位发光区域)EU,且规定放电空间30的间隙尺寸。5而且，设置有用于进行彩色显示的R、G、B的3色荧光层28，包含介电体层25的上部和隔离壁29的侧面，覆盖背面侧的壁面。隔离壁29是由低熔点的玻璃所构成，不透过紫外线。其中，作为隔离壁29的形成方法，如后面所述，在覆盖膜(《夕S莫)状的低熔点玻璃层上通过光刻而设置蚀刻掩模，使用由喷砂而形成图案的工序。io显示电极S与矩阵显示中的一行相对应，-个地址电极A与-列相对应。而且，3列与一个像素(Pixel)EG相对应。就是说，一个像素EG由在线方向上并列的R、G、B的3个子像素EU所构成。通过地址电极A与电极Y之间的相对放电(地址放电)，进行用于选择应该显示的单元的介电体层17中壁电荷的形成。对电极X、Y15交互施加脉冲时，在由上述地址放电形成了壁电荷的子像素EU中产生显示用的面放电(主放电)。荧光体层28由面放电所产生的紫外线而被局部激励，发出规定颜色的可见光。在该可见光内，透过玻璃基板11的光成为显示光。由于肋29的配置图案、即所谓条纹图案，使对应于放电空间30内各列的20部分，跨越全部的线而在列方向上连续。各列内的子像素EU的发光颜色相同。接着，对这样的PDP中的隔离壁(肋)29的形成工序加以说明。(1)首先，如图2所示，在形成有地址电极A和覆盖其的介电体层25的玻璃基板21上，涂敷隔离壁形成用糊状物并干燥，由此形成25隔离壁形成材料层31。(2)接着，在隔离壁形成材料层31上设置具有耐喷砂性的感光性保护层之后，通过遮光模而选择性地照射活性光线，随后通过显影而形成具有隔离壁对应的开口图案的喷砂用掩模32。(3)之后，对设置有隔离壁形成材料层31与喷砂用掩模32的被30加工基板33实施喷砂处理。由该喷砂的磨削作用，将除了喷砂用掩模32以外的隔离壁形成材料层31去除。(4)接着，去除掩模32，露出隔离壁对应的材料层并烧结。由上述工序(1)(4)，形成隔离壁29。接着，使用图3图7对上述工序(1)中隔离壁形成用糊状物的千燥处理加以说明。5图3是原理性地表示本发明的加热装置的结构图。图4是图3的主要部分的放大图。图5是表示向图3所示的装置导入温风的状态的说明图。图6是表示炉内所发生的气流的流动状态的说明图。如图3所示，加热处理装置1设置有各自具有加热器的多个加热室R1R6，贯穿多个加热室R1R6而从上游向下游、即沿着箭头3io的方向搬送被加热物2，同时进行热处理。如图4所示，在加热处理装置1中，设置有作为将从搬入口6搬入的被加热物2沿箭头3的方向贯通加热室R1R6并搬送到搬出口7的搬送部的搬送辊9，以及作为从上下对搬送的被加热物2进行加热的加热部的多个加热器10。15加热室R1R6分别在其下部具有供气口13，上部具有排气口14。各供气口13通过节气闸15与未图示的温风供给源相连接，各排气口14通过节气闸16与未图示的排气装置相连接。各个加热室R1R6具有0.110m3的容积，上下加起来有输出为503000kW的红外线加热器。20这里，作为被加热物2，例如如图2所示，在形成有地址电极A和其的介电体层25、尺寸为1003000mmX1002000mmX0.340mmt的玻璃基板21上，作为隔离壁形成用糊状物，例如涂敷有10500pm厚的、玻璃粉末77重量％，溶剂(二甘醇二乙醚与二甘醇二乙醚醋酸酯的混合物)21重量％，黏结剂(乙基纤维素)2重量％的混25合物。在加热处理装置l中，通过对上述溶剂的挥发而进行干燥。所以，如图5所示，在加热处理装置1中，向加热室R1R6分别供给流量为P1P6的温风，同时从加热室R1R6分别排出流量为Q1Q6的温风。30其中，流量P1P6与Q1Q6，分别由节气闸15、16进行控制。通常设定为P1=P2=P3=P4=P5=P6=A，Q1=Q2=Q3=Q4=Q5=Q6=A。这里，例如A-l10mV分。在本发明中，对于上游的加热室，设定供给流量大、排出流量小，而对于下游的加热室，设定供给流量小、排出流量大。例如，将对加热室R1、R2的供给流量P1、P2设定为P1=P2=1.2A，5将对加热室R3R6的供给流量P3P6设定为P3=P4=P5=P6=0.9A。而且，将来自加热室Rl、R2的排出流量Ql、Q2设定为Q1=Q2=0.6A，将来自加热室R3R6的排出流量Q3Q6设定为Q3=Q4=Q5=Q6=1.2A。其中，P1+P2+P3+P4+P5+P6-Q1+Q2+Q3+Q4+Q5+Q6=6A为定值。io由此，如图6所示，生成从加热室R1贯通加热室R2R5，向着加热室R6的温风流S。因此，在将温风供给源的温风温度设定为适当的值(例如IO(TC)时，由于温风气流S的热能与动能的作用，就能够促进对于被加热物(隔离壁形成用糊状物层)2的搬送方向的后端侧溶剂的挥发。其结果是，被加热物2的前端侧与后端侧的溶剂的挥发速15度大体相同，能够防止被加热物2的干燥不均匀。图7是将图2所示的被加热物2等速、水平地搬送到加热室RlR6时，被加热物2的中央的温度曲线图的一例。如图7所示，在常温下搬入加热室Rl的被加热物2的温度，以大体-定的温度梯度而上升，60分钟后在加热室R6达到180°C。由此可20知，在被加热物2的温度梯度方向，即在被加热物2的温度上升的方向，形成了图6所示的温风气流S。而且，被加热物2的隔离壁形成用糊状物中所含有的溶剂，在大体10014(TC的温度范围内挥发。所以，图7的温度曲线表示在加热室R3与R4，溶剂发生了挥发。权利要求1.一种加热处理方法，其特征在于将各自具有加热器的多个加热室串联连接，贯穿所述多个加热室而从上游向下游搬送被加热物，对每个加热室供给、排出温风，设定各加热室的温风的供气量与排气量，使得在向着所述被加热体的温度上升的方向上生成气流。2.根据权利要求1所述的加热处理方法，其特征在于对于各加热室的温风的供气量之和与排气量之和相等且一定。3.根据权利要求1所述的加热处理方法，其特征在于与下游的加热室相比，上游的加热室的供气量大且排气量小。4.根据权利要求1所述的加热处理方法，其特征在于从温风供给源经由第一节气闸向各加热室供给温风，从各加热室经由第二节气闸向排气装置排出温风，由第一和第二节气闸设定供气量与排气量。5.—种加热处理装置，其特征在于，包括20各自具有加热器并串联连接的多个加热室；贯穿所述多个加热室而从上游向下游搬送被加热物的搬送部；对各加热室供给温风的供气部；和从各加热室排出温风的排气部，其中，设定各加热室的温风的供气量与排气量，使得在向着所述被加热体的温度上升的方向上生成气流。6.根据权利要求5所述的加热处理装置，其特征在于对于各加热室的温风的供气量之和与排气量之和相等且一定。7.根据权利要求5所述的加热处理装置，其特征在于与下游的加热室相比，上游的加热室的供气量大且排气量小。8.根据权利要求5所述的加热处理装置，其特征在于各加热室具有供气口与排气口，供气口经由第一节气闸与温风供给源连接，排气口经由第二节气闸与排气装置连接，由第一和第二节气闸分别设定供气量与排气量。全文摘要本发明能够防止被加热物的干燥不均匀。本发明的加热处理方法，将各自具有加热器的多个加热室串联连接，贯穿所述多个加热室而从上游向下游搬送被加热物，对每个加热室供给或排出温风，设定各加热室的温风的供气量与排气量之比，使得在向着所述被加热体的温度上升方向上生成气流。文档编号H01J11/12GK101106050SQ200610169948公开日2008年1月16日申请日期2006年12月25日优先权日2006年7月12日发明者大矢根博志,柳桥靖男,石塚和德,藤尾俊介,藤永昭弘,金江达利申请人:富士通日立等离子显示器股份有限公司