本发明属于透镜阵列技术领域,特别涉及一种利用飞秒激光制备均匀、可控微透镜结构的方法。
背景技术:
透镜阵列广泛应用于光学器件,有机电致发光二极管,仿生复眼等领域。目前,存在多种方法制备微透镜,其中,光刻热熔,化学腐蚀等方法,工序复杂,可控性差,这些缺点是限制其发展的重大原因。而超快激光加工,由于超高的空间分辨率及“冷加工”的特性,广泛应用于精细加工技术领域。
传统激光制备膨胀结构一般都在几十微米左右,尺寸可调控范围较小;利用激光加工单层材料很难得到尺寸百微米级的透镜阵列。
技术实现要素:
为了克服上述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种利用飞秒激光制备均匀、可控微透镜结构的方法,提高了微透镜阵列直径和高度可控范围。
为了实现上述目的,本发明采用的技术方案为:
一种利用飞秒激光制备均匀、可控微透镜结构的方法,包括以下步骤:
1)将pmma颗粒溶于甲苯,配制pmma质量分数为15%-25%的溶液,涂敷在黑色亚克力板2上,固化得双层加工样片;双层加工样片上层的透明pmma层1作为膨胀层材料;下层的黑色亚克力板2作为吸收层材料;
2)搭建光路,光路包括飞秒激光器4,飞秒激光器4输出光经过第一反射镜5使光路转90°,反射光依次经过衰减片6、光圈7、半波片8、分光棱镜9、快门10、第二反射镜11、聚焦物镜12垂直照射在移动载物台13的加工工位上,飞秒激光器4、快门10、移动载物台13和电脑14连接,利用半波片8和分光棱镜9调节激光功率,同时电脑14通过快门10控制光路的通断,采用聚焦物镜12用于飞秒激光器4输出激光的聚焦;
3)利用电脑14调节飞秒激光器4输出激光,激光波长为800nm,重频为1khz,脉宽为120fs,脉冲数为1000-2500,激光功率为20-60mw,阵列间距400-600μm;
4)将步骤1)制备的双层加工样片固定在移动载物台13加工工位上,调节移动载物台13位置,使激光3聚焦于双层加工样片的下层黑色亚克力板2,制备微透镜阵列。
通过调节激光功率和阵列间距,能够调节微透镜阵列直径和高度。
本发明的有益效果:利用上层的透明pmma层1和下层的黑色亚克力板2的光吸收率差异,使得激光能量可以沉积到黑色亚克力板2,由黑色亚克力板2的光热作用和光化学作用产生的热应力梯度形成透镜结构;同时,沿激光3传播路线上,透明pmma层1可吸收少量的激光能量引起材料软化,有效减小表面约束力,同时使微透镜阵列结构不易破裂,本发明极大的提高了微透镜阵列直径和高度可控范围,能够获得直径和高度可控范围分别为100-500μm、20-300μm的微透镜阵列。
附图说明
图1为本发明双层加工样片的示意图。
图2为本发明光路的示意图。
图3为实施例1功率20mw、脉冲数为1500、间距为400μm的结果图。
图4为实施例2功率60mw、脉冲数为2000、间距为500um的结果图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
实施例1
一种利用飞秒激光制备均匀、可控微透镜结构的方法,包括以下步骤:
1)将pmma颗粒溶于甲苯,配制pmma质量分数为15%-25%的溶液,涂敷在2cm*2cm黑色亚克力板2上,固化得双层加工样片,如图1所示,上层的透明pmma层1具有小的能量吸收率,作为膨胀层材料;下层的黑色亚克力板2具有大的能量吸收率,作为吸收层;透明pmma层1的透光性较强,能量传递至黑色亚克力板2;被黑色亚克力板2吸收的能量引起材料的分解,透明pmma层1吸收的能量产生软化效应,通过激光参数的调节实现透明pmma层1的软化效应与黑色亚克力板2分解效应的平衡,实现膨胀结构的可控加工;
2)搭建光路,参照图2,光路包括飞秒激光器4,飞秒激光器4输出光经过第一反射镜5使光路转90°,反射光依次经过衰减片6、光圈7、半波片8、分光棱镜9、快门10、第二反射镜11、聚焦物镜12垂直照射在移动载物台13的加工工位上,飞秒激光器4、快门10、移动载物台13和电脑14连接,利用半波片8和分光棱镜9调节激光功率,同时电脑14通过快门10控制光路的通断,采用数值孔径为0.6的聚焦物镜12用于飞秒激光器4输出激光的聚焦;
3)利用电脑14调节飞秒激光器4输出激光,激光波长为800nm,重频为1khz,脉宽为120fs,脉冲数为1500,激光功率为20mw,阵列间距400μm;
4)将步骤1)制备的双层加工样片固定在移动载物台13加工工位上,调节移动载物台13位置,使激光3聚焦于双层加工样片的下层黑色pmma层2,制备微透镜阵列。
本实施例的效果:参照图3,本实施例得到直径和高度分别为149、43μm的微透镜阵列。
实施例2
将实施例1步骤3)中的激光功率设置为60mw,脉冲数2000,阵列间距为500μm;参照图4,本实施例可得到直径和高度分别为482、280μm的微透镜阵列。
实施例3
将实施例1步骤3)中的激光功率设置为40.8mw,脉冲数2500,阵列间距为450μm;可以得到直径和高度介于实施例1和实施例2的微透镜阵列。