本实用新型涉及割炬喷口技术领域，尤其是一种等离子弧割炬的喷口。
背景技术：
割炬是气焊的重要工具，由于在等离子弧割炬的使用过程中电极产生的离子弧通过喷口小端聚焦喷出产生高能量的切割离子弧，因此喷口的实际使用工况常伴随高温，这也就导致了喷口容易损耗，使用周期短，属于消耗件，目前喷口的冷却方式以气冷较为常见，然而在电流达到200A及以上时，喷口则必须使用水冷，否则喷口的使用寿命会严重下降，但是目前喷口采用水冷时普遍存在密封效果不好及喷口的水冷路径短导致冷却效果差的问题。
技术实现要素：
本实用新型要解决的技术问题是：为了解决现有技术中喷口采用水冷时密封效果不佳及喷口的水冷路径短冷却效果差的问题，现提供一种等离子弧割炬的喷口。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种等离子弧割炬的喷口，包括内部中空的喷口本体，所述喷口本体的上端大下端小，所述喷口本体的小端向前延伸有安装部，所述安装部的底端端面向上开设有与喷口本体内部连通的中心喷孔，所述安装部靠近喷口本体的一端向外延伸有轴肩，所述安装部的外周面上开设有下密封凹槽，所述下密封凹槽内设置有下密封圈，所述下密封圈位于轴肩的下方，所述喷口本体的上端外周面开设有上密封凹槽，所述上密封凹槽内设置有上密封圈。
优选地，所述喷口本体的材质为紫铜。
本实用新型的有益效果是：本实用新型等离子弧割炬的喷口其上端依靠上密封圈与所接触的部件实现密封，其下端依靠下密封圈实现与所接触的部件实现密封，密封效果好，且通过将用于喷口本体固定的轴肩设置在下密封圈的上方，可延长冷却液对喷口的冷却路径，从而可提高对喷口的冷却效果，进而提升喷口的使用寿命。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型等离子弧割炬的喷口的三维示意图；
图2是本实用新型等离子弧割炬的喷口的主视示意图；
图3是本实用新型等离子弧割炬的喷口的俯视示意图；
图4是本实用新型等离子弧割炬的喷口的安装示意图。
图中：1、喷口本体，1-1、安装部，1-11、中心喷孔，1-12、轴肩，2、下密封圈，3、上密封圈，4、内绝缘体，5、铜压帽，5-1、端面环，6、分配器，7、割炬底座，8、喷口水冷室。
具体实施方式
现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成，方向和参照(例如，上、下、左、右、等等)可以仅用于帮助对附图中的特征的描述。因此，并非在限制性意义上采用以下具体实施方式，并且仅仅由所附权利要求及其等同形式来限定所请求保护的主题的范围。
实施例1
如图1-3所示，一种等离子弧割炬的喷口，包括内部中空的喷口本体1，喷口本体1的上端大下端小，喷口本体1的小端向前延伸有安装部1-1，安装部1-1的底端端面向上开设有与喷口本体1内部连通的中心喷孔1-11，安装部1-1靠近喷口本体1的一端向外延伸有轴肩1-12，安装部1-1的外周面上开设有下密封凹槽，下密封凹槽内设置有下密封圈2，下密封圈2位于轴肩1-12的下方，喷口本体1的上端外周面开设有上密封凹槽，上密封凹槽内设置有上密封圈3，喷口本体1的材质为紫铜。
如图4所示，喷口在安装到等离子弧割炬上时，具体如下：等离子弧割炬包括内绝缘体4及位于喷口本体1外的铜压帽5，铜压帽5的底端具有端面环5-1，喷口本体1通过分配器6抵在内绝缘体4上，喷口本体1的安装部1-1穿过端面环5-1的内孔，安装部1-1上的下密封圈2与端面环5-1的内壁接触；
通过将铜压帽5螺纹连接在割炬底座7上，并使铜压帽5上的端面环5-1的上端面抵住喷口本体1上的轴肩1-12的下端面，从而实现将喷口本体1固定，进而在喷口本体1的外壁与铜压帽5的内壁之间形成喷口水冷室8，喷口本体1的上端采用上密封圈3与内绝缘体4密封，喷口本体1的下端采用安装部1-1的下密封圈2与铜压帽5的端面环5-1密封；其中，将轴肩1-12设置在下密封圈2的上方，可以延长对喷口冷却的路径，由于轴肩1-12与端面环5-1抵住后，轴肩1-12至端面环5-1之间并非完全密封，因此喷口水冷室8中还会有部分冷却液流至下密封圈2，从而实现延长喷口冷却的路径，在割炬工作时，由于喷口的温度极高，稍微部分冷却路径的延长均为对喷口性能产生较大的提升。
上述依据本实用新型的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。