1.一种双锂箔制备装置，其特征在于：包括上轧制辊(1)和下轧制辊(2)，所述上轧制辊(1)和下轧制辊(2)之间设有隔离板(5)，所述上轧制辊(1)与所述隔离板(5)之间形成上轧制通道，所述下轧制辊(2)与所述隔离板(5)之间形成下轧制通道。
2.如权利要求1所述的双锂箔制备装置，其特征在于：所述上轧制辊(1)和隔离板(5)之间的轧制速度比与所述下轧制辊(2)与隔离板(5)之间的轧制速度比相同或不同。