专利名称：低腐蚀磨料制品及其制备方法
技术领域：
本公开内容一般涉及低腐蚀磨料制品以及制备这种低腐蚀磨料制品的方法。
背景技术：
磨料制品如涂布磨料和粘合磨料被用在诸如通过研磨、打烙印或抛光对工件进行 机械加工的各种工业中。利用磨料制品的机械加工横跨了从光学工业、汽车油漆修复工业 至金属制造工业的广阔工业范围。在这些实例的每一个中，制造设备利用磨料以去除松散 材料或者影响产品的表面特性。典型的磨料制品如涂布磨料制品和粘合磨料制品一般包括粘合料和磨料颗粒。粘 合料经常由聚合物组分制成并且一般在制造过程期间固化。在具体的粘合料配制中，该固 化过程引起腐蚀性副产物或试剂的释放。这种腐蚀性副产物或试剂损坏了与制备过程相关 的设备。例如，在粘合磨料制品的情况下，模具可以由金属材料制成，或者在涂布磨料产品 的清况下，涂布磨料可以通过利用金属刀片在背衬上浇注粘合料而制成。这种金属设备当 暴露于腐蚀性副产物或试剂时可能腐蚀，导致降低的设备寿命。除了设备寿命降低外，腐蚀还可能导致沾污磨料制品本身。例如，腐蚀的材料可能 污染磨料制品，改变制品的着色或者粘合料系统的特性。此外，这种腐蚀的材料可能影响磨 料制品的性能。特别地，磨料制品中腐蚀的材料或腐蚀性副产物可能导致由这种磨料制品 打磨的工件腐蚀。因此，改进的磨料制品和制备这种磨料制品的方法将是期望的。
发明内容
在一具体实施方式
中，磨料制品包括粘合料和磨料颗粒。粘合料是用包括聚合物 组分、固化剂和酸粘合剂的制剂制成的。在另一实施方式中，磨料制品包括粘合料和磨料磨粒。粘合料是用包括阳离子可 聚合组分、阳离子催化剂和酸粘合剂的制剂制成的。在进一步的实施方式中，制备磨料制品的方法包括制备包括阳离子可聚合组分、 阳离子催化剂和酸粘合剂的制剂；制成包括所述制剂和磨料颗粒的磨料制品；以及固化所 述制剂。
通过参考附图，可以更好地理解本公开内容，并且使得其多个特征和优点对于本 领域技术人员来说显而易见。图1包括示例性涂布磨料制品的图解。图2包括示例性构造 的或设计的磨料制品的图解。图3包括示例性粘合磨料制品的图解。图4包括用于测定迁 移指数的示例性测试工件的图解。
具体实施例方式在具体实施方式
中，磨料制品包括粘合料和磨料颗粒。粘合料是用涂布制剂制成 的，所述涂布制剂包括可聚合组分和酸粘合剂。涂布制剂还可包括固化剂，如阳离子光引发 剂。在示例性实施方式中，可聚合组分是阳离子可聚合组分，如环氧或氧杂环丁烷组分。在具体实施方式
中，酸粘合剂包括氟化聚醚。在另一示例性实施方式中，制备磨料制品的方法包括提供涂布制剂；制成包括涂 布制剂和磨料颗粒的磨料制品；以及固化涂布制剂。涂布制剂可包括可聚合组分和酸粘合 剂。此外，涂布制剂可包括固化剂。在示例性实施方式中，涂布制剂被固化以形成粘合料或涂层。粘合料或涂层可被 用作以下的部分背胶料层、应允层(或应力缓冲层)、构造层、胶料层、上胶料层或其组合。 在一实例中，涂布制剂包括可聚合组分和酸粘合剂。此外，涂布制剂可包括固化剂，如催化 剂或光引发剂。另外，涂布制剂可包括消泡剂、均化剂或其它添加剂或填料，或其组合。涂布制剂可包括用于制备聚合物的一种或多种反应成分或聚合物成分。聚合物成 分可包括单体分子、聚合物分子或其组合。涂布制剂或背胶料制剂可进一步包括选自下列 的组分溶剂、增塑剂、链转移剂、催化剂、稳定剂、分散剂、固化剂、反应调节剂或用于影响 分散体流动性的试剂。聚合物成分可形成热塑性材料或热固性材料。作为实例，聚合物成分可包括用 于制成下列的单体和树脂聚氨酯、聚脲、聚合环氧、聚酯、聚酰亚胺、聚硅氧烷(有机硅树 脂)、聚合醇酸树脂、苯乙烯_ 丁二烯橡胶、丙烯腈_ 丁二烯橡胶、聚丁二烯、或一般地用于 生产热固性聚合物的反应性树脂。另一实例包括丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯聚合物成分。前 体聚合物成分典型地为可聚合有机材料(即，聚合物单体或材料，其在暴露于热或其它能 源，如电子束、紫外光、可见光等后能够聚合或交联，或者在加入化学催化剂、湿气或引起聚 合物固化或聚合的其它试剂后，随着时间，能够聚合或交联)。前体聚合物成分实例包括用 于制成下列的反应性成分氨基聚合物或氨基塑料聚合物，如烷基化脲-甲醛聚合物、三聚 氰胺_甲醛聚合物和烷基化苯胍胺_甲醛聚合物；包括丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯聚合物在 内的丙烯酸酯聚合物、丙烯酸烷酯、丙烯酸酯环氧、丙烯酸酯聚氨酯、丙烯酸酯聚酯、丙烯酸 酯聚醚、乙烯基醚、丙烯酸酯油或丙烯酸酯硅氧烷；醇酸聚合物，如聚氨酯醇酸聚合物 ’聚 酯聚合物；反应性聚氨酯聚合物；酚醛聚合物，如可溶性酚醛和线型酚醛聚合物；酚醛/胶 乳聚合物；环氧聚合物，如双酚环氧聚合物；异氰酸酯；异氰脲酸酯；聚硅氧烷聚合物，其包 括烷基烷氧基硅烷聚合物；或反应性乙烯基聚合物。涂布制剂可包括单体、低聚物、聚合物 或其组合。在具体实施方式
中，涂布制剂包括至少两种类型聚合物的单体，其当固化时可交 联。例如，涂布制剂可包括环氧成分和丙烯酸成分，其当固化时形成环氧/丙烯酸聚合物。在示例性实施方式中，聚合物反应成分包括阴离子或阳离子可聚合成分。例如，涂 层制剂可包括至少一种阳离子可聚合成分，例如至少一种环状醚成分、环状内酯成分、环状缩 醛成分、环状硫醚成分、螺原酸酯成分、环氧官能成分或氧杂环丁烷官能成分。一般地，涂布制 剂包括至少一种选自下列的成分环氧官能成分和氧杂环丁烷官能成分。涂布制剂可包括， 相对于涂布制剂的总重量，至少约10. 0wt%的阳离子可聚合成分，例如至少约20. 0wt%,-般地至少约40. Owt%或至少约50. Owt%的阳离子可聚合成分。一般地，涂布制剂包括，相对 于涂布制剂的总重量，不大于约95. 0衬％的阳离子可聚合成分，例如不大于约90. 0衬％、不大于约80. 0wt%或不大于约70. 0衬％的阳离子可聚合成分。一般地，成份的量被表示为，相 对于涂布制剂的总重量的该成分的重量百分数)，除非另外明确指明。涂布制剂可包括至少一种环氧官能成分，例如芳族环氧官能成分(“芳族环 氧")或脂肪族环氧官能成分(“脂肪族环氧")。环氧官能成分是包括一个或多个环氧 基团的成分，即一个或多个三元环结构(环氧乙烷)。芳族环氧成分包括一个或多个环氧基团和一个或多个芳环。涂布制剂可包括一种 或多种芳族环氧成分。芳族环氧成分的实例包括衍生自多酚例如双酚的芳族环氧，如双酚 A(4,4'-异亚丙基双酚)、双酚F(双[4-羟苯基]甲烷)、双酚S(4，4'-磺酰基双酚)、 4,4'-亚环己基双酚、4，4'-双酚或4，4' -(9-亚芴基)双酚。双酚可以是烷氧基化的 (例如乙氧基化或丙氧基化)或卤化的(例如溴化的)。双酚环氧的实例包括双酚缩水甘 油醚，如双酚A或双酚F的缩水甘油醚。芳族环氧另外的实例包括三羟苯基甲烷三缩水甘油醚、1，1，1_三(对羟苯基)乙 烷三缩水甘油醚；或这样的芳族环氧，其衍生自单酚例如衍生自间苯二酚(例如间苯二酚 二缩水甘油醚)或衍生自氢醌(例如氢醌二缩水甘油醚)。另一实例是壬苯基缩水甘油醚。此外，芳族环氧的实例包括环氧线型酚醛，例如苯酚环氧线型酚醛和甲酚环氧线 型酚醛。甲酚环氧线型酚醛的商业实例包括例如EPICLON N-660、N-665、N-667、N-670、 N-673、N-680、N-690 或 N-695，其由 Dainippon Ink and Chemicals，Inc 制造。苯酚环氧线 型酚醛的实例包括，例如 EPICLON N-740、N-770、N-775 或 N-865，其由 Dainippon Ink and Chemicals, Inc 制造。在一种实施方式中，涂布制剂可包含，相对于涂布制剂的总重量，至少约10. Owt % 的一种或多种芳族环氧。脂肪族环氧成分具有一个或多个环氧基团并且不含芳环。涂布制剂可包括一种或 多种脂肪族环氧。脂肪族环氧的实例包括C2-C30烷基的缩水甘油醚；C3-C30烷基的1，2 环氧；脂肪醇或多元醇的单或多缩水甘油醚，多元醇如1，4_ 丁二醇、新戊二醇、环己烷二甲 醇、二溴新戊二醇、三羟甲基丙烷、聚四亚甲氧醚、聚环氧乙烷、聚环氧丙烷、甘油和烷氧基 化脂肪醇；多元醇；或其任意组合。在一种实施方式中，脂肪族环氧包括一个或多个脂环族环结构。例如，脂肪族环 氧可具有一个或多个环己烷氧化物结构，例如两个环己烷氧化物结构。包含环结构的脂肪 族环氧的实例包括氢化双酚A 二缩水甘油醚、氢化双酚F 二缩水甘油醚、氢化双酚S 二缩 水甘油醚、双(4-羟环己基)甲烷二缩水甘油醚、2，2-双(4-羟环己基)丙烷二缩水甘油 醚、3，4_环氧环己基甲基-3，4-环氧环己甲酸酯、3，4_环氧-6-甲基环己基甲基_3，4_环 氧-6-甲基环己甲酸酯、二(3，4_环氧环己基甲基)己二酸酯、二(3，4-环氧-6-甲基环己 基甲基)己二酸酯、亚乙基双(3，4_环氧环己甲酸酯)、乙二醇二(3，4_环氧环己基甲基) 醚、2-(3，4_环氧环己基-5，5-螺-3，4-环氧)环己烷-1，3-二噁烷或其组合。脂肪族环氧 的实例也列在美国专利6，410，127中，其通过引用以其全部内容并于此。在一实施方式中，涂布制剂包括，相对于涂布制剂的总重量，至少约5. Owt %的一 种或多种脂肪族环氧，例如至少约10. 0衬％或至少约20. 0衬％的脂肪族环氧。一般地，涂 布制剂包括，相对于涂布制剂的总重量，不大于约70. 0衬％的脂肪族环氧，例如不大于约 50. Owt %，或者甚至不大于约40. Owt %的脂肪族环氧。
一般地，涂布制剂包括下列醇的一种或多种单或多缩水甘油醚脂肪醇、脂肪族多 元醇、聚酯多元醇、聚醚多元醇或其组合。这种成分的实例包括1，4_ 丁二醇二缩水甘油醚、 分子量约200至约10，000的聚氧乙烯或聚氧丙烯二醇或三醇的缩水甘油醚；聚丁二醇或聚 (氧乙烯-氧丁烯)无规或嵌段共聚物的缩水甘油醚。商业上可得的缩水甘油醚的实例包 括多官能缩水甘油醚，如 Heloxy 48,Heloxy 67、Heloxy68、Heloxy 107 和 Grilonit F713 ； 或单官能缩水甘油醚，如 Heloxy 71、Heloxy 505、Heloxy 7、Heloxy 8 或 Heloxy 61 (由 Resolution Performances 出售)。涂布制剂可包含约3. Owt %至约40. Owt %、或更典型地约5. Owt %至约20. Owt % 的脂肪醇、脂肪族多元醇、聚酯多元醇或聚醚多元醇的单或多缩水甘油醚。涂布制剂可包括一种或多种氧杂环丁烷官能成分(“氧杂环丁烷")。氧杂环丁 烷是具有一个或多个氧杂环丁烷基团的成分，即一个或多个包含一个氧和三个碳成员的四 元环结构。
Q zQ2—Z-R2氧杂环丁烷的实例包括由下式所表示的成分w r'CVu其中Ql表示氢
O
原子；具有1至6个碳原子的烷基(如甲基、乙基、丙基或丁基)；具有1至6个碳原子的氟 代烷基；烯丙基；芳基；呋喃基或噻吩基；Q2表示具有1至6个碳原子的亚烃基(如亚甲基、亚乙基、亚丙基或亚丁基基团) 或包含醚键的亚烃基，例如，氧化烯基团如氧乙烯、氧丙烯或氧丁烯基团；Z表示氧原子或硫原子；以及R2表示氢原子、具有1-6个碳原子的烷基(例如甲基、乙基、丙基或丁基)、具有 2-6个碳原子的链烯基(例如1-丙烯基、2-丙烯基、2-甲基-1-丙烯基、2-甲基-2-丙烯 基、I" 丁烯基、2- 丁烯基或3- 丁烯基)、具有6-18个碳原子的芳基(例如苯基、萘基、蒽基 或菲基)、具有7-18个碳原子的取代或未取代芳烷基(例如苯甲基、氟代苯甲基、甲氧基苯 甲基、苯乙基、苯乙烯基、肉桂基、乙氧基苯甲基)、芳氧基芳基(例如苯氧基甲基或苯氧基 乙基)、具有2-6个碳原子的烷基羰基(例如乙基羰基、丙基羰基或丁基羰基)、具有2-6个 碳原子的烷氧羰基(例如乙氧羰基、丙氧羰基或丁氧羰基)、具有2-6个碳原子的N-烷基氨 基甲酰基(例如乙基氨基甲酰基、丙基氨基甲酰基、丁基氨基甲酰基或戊基氨基甲酰基)或 者具有2-1000个碳原子的聚醚基。一个特别有用的氧杂环丁烷包括3-乙基-3-(2-乙基 己氧基甲基)氧杂环丁烷。除了或代替一种或多种阳离子可聚合成分，涂布制剂可包括一种或多种自由基 可聚合成分，例如一种或多种具有一个或多个烯键式不饱和基团的自由基可聚合成分，如 (甲基)丙烯酸酯(即丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯)官能成分。单官能烯键式不饱和成分的实例包括丙烯酰胺、N，N-二甲基丙烯酰胺、(甲基)丙 烯酰基吗啉、(甲基)丙烯酸7-氨基-3，7-二甲基辛酯、异丁氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、 (甲基)丙烯酸异冰片氧基乙酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、 (甲基)丙烯酸乙基二甘醇酯、叔辛基(甲基)丙烯酰胺、双丙酮(甲基)丙烯酰胺、(甲 基)丙烯酸二甲氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙氨基乙酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基) 丙烯酸二环戊二烯酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯酯、(甲基)丙烯酸N，N-二甲基(甲基)丙烯酰胺四氯苯酯、(甲基)丙烯酸2-四氯苯氧基乙酯、 (甲基)丙烯酸四氢化糠基酯、(甲基)丙烯酸四溴苯酯、(甲基)丙烯酸2-四溴苯氧基乙 酯、(甲基)丙烯酸2-三氯苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸三溴苯酯、(甲基)丙烯酸2-三溴 苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、乙烯基己内酰胺、N-乙 烯基吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸五 氯苯酯、(甲基)丙烯酸五溴苯酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙 烯酸酯、(甲基)丙烯酸冰片酯、(甲基)丙烯酸甲基三甘醇酯或其组合。多官能烯键式不饱和成分的实例包括二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲基)丙 烯酸二环戊烯酯、二丙烯酸三甘醇酯、二(甲基)丙烯酸四甘醇酯、二(甲基)丙烯酸三环 癸二基二亚甲酯、三(甲基)丙烯酸三羟甲基丙酯、三(甲基)丙烯酸乙氧基化三羟甲基丙 酯、三(甲基)丙烯酸丙氧基化三羟甲基丙酯、二(甲基)丙烯酸三丙二醇酯、二(甲基) 丙烯酸新戊二醇酯、双酚A 二缩水甘油醚的两端(甲基)丙烯酸加合物、二(甲基)丙烯酸 1，4_ 丁二醇酯、二(甲基)丙烯酸1，6_己二醇酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(甲基) 丙烯酸官能季戊四醇衍生物(例如三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸季戊 四醇酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、五(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯或四(甲基)丙 烯酸二季戊四醇酯)、四(甲基)丙烯酸二三羟甲基丙酯、二(甲基)丙烯酸乙氧基化双酚 A酯、二(甲基)丙烯酸丙氧基化双酚A酯、二(甲基)丙烯酸乙氧基化氢化双酚A酯、二 (甲基)丙烯酸丙氧基化改性氢化双酚A酯、二(甲基)丙烯酸乙氧基化双酚F酯或其任意 组合。在一实施方式中，涂布制剂包括一种或多种成分，其具有至少3个(甲基)丙烯酸 酯基团，例如3至6个(甲基)丙烯酸酯基团或5至6个(甲基)丙烯酸酯基团。在具体实施方式
中，涂布制剂包括，相对于涂布制剂的总重量，至少约3. Owt % 的一个或多个自由基可聚合成分，例如至少约5. Owt %或至少约9. Owt %。一般地，涂布 制剂包括不大于约50. 0衬％的自由基可聚合成分，例如不大于约35. 0wt%、不大于约 25. Owt %、不大于约20. Owt %、或甚不大于约15. Owt %的自由基可聚合成分。一般地，聚合物反应成分或前体平均具有至少两个官能团，例如平均至少2. 5或 至少3.0个官能团。例如，环氧前体可具有2个或多个环氧官能团。在另一实例中，丙烯酸 前体可具有两个或多个甲基丙烯酸酯官能团。已经惊奇地发现，包括具有聚醚主链的成分的涂布制剂在该涂布制剂固化后显示 出优良的机械性能。具有聚醚主链的化合物的实例包括聚丁二醇、聚丁二醇的缩水甘油醚、 聚丁二醇的丙烯酸酯、包含一个或多个聚碳酸酯基团的聚丁二醇或其任意组合。在一实施 方式中，涂布制剂包括5. 0衬％与20. 之间的具有聚醚主链的化合物。涂布制剂还可包括固化剂，如催化剂或引发剂。例如，固化剂可包括阳离子催化 剂，如阳离子引发剂。在一实例中，阳离子引发剂可催化阳离子可聚合成分之间的反应。在 另一实例中，固化剂可包括自由基引发剂，其可激发自由基可聚合成分的自由基聚合。该引 发剂可通过热能或光化学辐射进行激发。例如，引发剂可包括阳离子光引发剂，其当暴露于 光化学辐射时催化阳离子聚合反应。在另一实例中，引发剂可包括自由基光引发剂，其当暴 露于光化学辐射时引发自由基聚合反应。光化学辐射包括粒子或非粒子辐射并且意图包括 电子束辐射和电磁辐射。在具体实施方式
中，电磁辐射包括具有至少一个在约IOOnm至约
8700nm范围内的波长以及尤其在电磁光谱的紫外范围内的波长的辐射。一般地，阳离子光引发剂是形成活性种类的材料，其如果暴露于光化学辐射，能至 少部分聚合环氧化物或氧杂环丁烷。例如，阳离子光引发剂可在暴露于光化学辐射后形成 能引发阳离子可聚合成分如环氧化物或氧杂环丁烷反应的阳离子。阳离子光引发剂的实例包括例如具有弱亲核性阴离子的鐺盐。阳离子光引发 剂的实例可包括卤鐺盐、亚碘酰基盐或锍盐，如在公布的欧洲专利申请EP 153904和WO 98/28663中所述，氧化锍盐，如在例如公布的欧洲专利申请EP 35969、44274、54509和 164314中所述，或重氮盐，如在例如美国专利3，708，296和5，002, 856中所述。所有这八篇 公开内容通过引用以其全部内容并入本文。阳离子光引发剂的其它实例包括金属茂盐，如 在例如公布的欧洲专利申请EP 94914和94915中所述，其申请两者均通过引用以其全部内 容并入本文。在示例性实施方式中，涂布制剂包括通过下式(1)或(2)所表示的一种或多种光
权利要求
磨料制品，其包括粘合料，其由包括聚合物组分、固化剂和酸粘合剂的制剂制成；和磨料颗粒。
2.权利要求1所述的磨料制品，其中所述制剂包括约IOppm至约1.的酸粘合剂。
3.权利要求2所述的磨料制品，其中所述制剂包括约IOppm至约IOOOppm的酸粘合剂。
4.权利要求1至3中任一项所述的磨料制品，其中所述酸粘合剂包括氟化聚醚。
5.权利要求4所述的磨料制品，其中所述氟化聚醚是丙烯酸封端的氟化聚醚。
6.权利要求4所述的磨料制品，其中所述氟化聚醚是羟基封端的氟化聚醚。
7.权利要求4所述的磨料制品，其中所述氟化聚醚包括约5个至约25个重复单元。
8.权利要求7所述的磨料制品，其中所述氟化聚醚的每个重复单元包括氟化烷氧基。
9.权利要求8所述的磨料制品，其中所述氟化烷氧基包括约1个至约3个碳。
10.权利要求1至9中任一项所述的磨料制品，其中所述制剂包括约10.Owt %至约 90. Owt %的所述聚合物成分。
11.权利要求1至10中任一项所述的磨料制品，其中所述聚合物成分包括阳离子可聚 合成分。
12.权利要求11所述的磨料制品，其中所述阳离子可聚合成分包括环氧成分或氧杂环 丁烷成分。
13.权利要求1至12中任一项所述的磨料制品，其中所述制剂进一步包括不大于约 40. 0衬％的自由基可聚合成分。
14.权利要求13所述的磨料制品，其中所述自由基可聚合成分包括丙烯酸成分。
15.权利要求1至14中任一项所述的磨料制品，其中所述固化剂包括阳离子光引发剂。
16.权利要求15所述的磨料制品，其中所述制剂包括约0.1衬％至约20. 0wt%的阳离 子光引发剂。
17.权利要求1至16中任一项所述的磨料制品，其中所述磨料颗粒具有至少约0.1微 米的平均颗粒大小。
18.权利要求1至17中任一项所述的磨料制品，其中所述磨料颗粒选自二氧化硅、氧化 铝、氧化锆、碳化硅、氮化硅、氮化硼、石榴石、金刚石、共熔氧化铝氧化锆、铈土、二硼化钛、 碳化硼、燧石、金刚砂、氮化铝、凝聚颗粒和其任意混合物。
19.权利要求1至18中任一项所述的磨料制品，其中所述制剂进一步包括平均颗粒大 小约3nm至约200nm的纳米尺度填料。
20.权利要求19所述的磨料制品，其中所述制剂包括约5.0衬％至约50. 的纳米 尺度填料。
21.权利要求19所述的磨料制品，其中所述纳米尺度填料是溶液法形成的无机颗粒。
22.权利要求19所述的磨料制品，其中所述纳米尺度填料包括二氧化硅。
23.权利要求19所述的磨料制品，其中所述制剂进一步包括平均颗粒大小至少约1微 米的第二填料。
24.权利要求1至23中任一项所述的磨料制品，其进一步包括所述粘合料置于其上的 背衬。
25.权利要求24所述的磨料制品，其中所述背衬包括聚合物膜。
26.权利要求25所述的磨料制品，其中所述聚合物膜是由热塑性聚合物制成的。
27.权利要求1至26中任一项所述的磨料制品，其中所述制剂具有不大于约4mm的迁 移指数。
28.磨料制品，其包括粘合料，其由包括阳离子可聚合组分、阳离子催化剂和酸粘合剂的制剂制成；和 磨料颗粒。
29.权利要求28所述的磨料制品，其中所述制剂包括约IOppm至约1.0衬％的酸粘合剂。
30.权利要求28或权利要求29所述的磨料制品，其中所述酸粘合剂包括氟化聚醚。
31.权利要求30所述的磨料制品，其中所述氟化聚醚是丙烯酸封端的氟化聚醚。
32.权利要求30所述的磨料制品，其中所述氟化聚醚是羟基封端的氟化聚醚。
33.权利要求30所述的磨料制品，其中所述氟化聚醚包括约5个至约25个重复单元。
34.权利要求33所述的磨料制品，其中所述氟化聚醚的每个重复单元包括氟化烷氧基。
35.权利要求28至34中任一项所述的磨料制品，其中所述制剂包括约10.0衬％至约 90. Owt%的阳离子可聚合成分。
36.权利要求28至35中任一项所述的磨料制品，其中所述阳离子可聚合成分包括环氧 成分或氧杂环丁烷成分。
37.权利要求28至36中任一项所述的磨料制品，其中所述阳离子催化剂包括阳离子光 引发剂。
38.权利要求28至37中任一项所述的磨料制品，其中所述制剂包括约0.1衬％至约 20. 的阳离子催化剂。
39.权利要求28至38中任一项所述的磨料制品，其中所述磨料颗粒具有至少约0.1微 米的平均颗粒大小。
40.权利要求28至39中任一项所述的磨料制品，其中所述磨料颗粒选自二氧化硅、 氧化铝、氧化锆、碳化硅、氮化硅、氮化硼、石榴石、金刚石、共熔氧化铝氧化锆、铈土、二硼化 钛、碳化硼、燧石、金刚砂、氮化铝、凝聚颗粒和其任意混合物。
41.权利要求28至40中任一项所述的磨料制品，其进一步包括所述粘合料置于其上的 背衬。
42.权利要求28至41中任一项所述的磨料制品，其中所述制剂具有不大于约4mm的迁 移指数。
43.制备磨料制品的方法，所述方法包括制备一种制剂，所述制剂包括阳离子可聚合组分、阳离子催化剂和酸粘合剂； 制成所述磨料制品，所述磨料制品包括所述制剂和磨料颗粒；以及 固化所述制剂。
44.权利要求43所述的方法，其中制成所述磨料制品包括将所述制剂涂布在背衬上。
45.权利要求43所述的方法，其中所述阳离子催化剂包括阳离子光引发剂，其中固化 所述制剂包括照射所述磨料制品。
全文摘要
磨料制品包括粘合料和磨料颗粒。粘合料是用包括聚合物组分、固化剂和酸粘合剂的制剂制成的。
文档编号B24D11/00GK101939140SQ200780047899
公开日2011年1月5日 申请日期2007年12月20日 优先权日2006年12月21日
发明者X·尤 申请人:圣戈本磨料股份有限公司;圣戈本磨料公司