专利名称：一种精密抛光布及其制备方法
技术领域：
本发明涉及一种精密抛光布及其该抛光布的制备方法，该抛光布用于薄膜晶体管液晶 显示器TFT-LCD制程中偏光片贴附前的基板表面的清洁处理。
背景技术：
近年来液晶显示器(LCD)得到广泛应用，电视、手机、笔记本电脑、相机等等都采用 液晶显示器，液晶显示器已经深入到我们生活的各个领域。液晶显示器目前最高端的要属 薄膜晶体管液晶显示器，即TFT-LCD,该类显示器具有轻便、功耗低、高彩色保真度，高亮 度，高对比度，高响应速度、易于集成化和更新换代等优势，是大规模半导体集成电路技 术和光源技术的完美结合。在TFT-LCD的制造过程中，其中一个工序称为Cell制程，在Cell 制程中，液晶灌注、封口、切割、磨边后，基板表面会留下顽固的玻璃屑、封口胶、油渍 等杂质，这些杂质在后续进行偏光片贴附前必须清洗干净。早期采用无尘布擦拭、刀片刮 等手工方式去除，效率非常低，并且容易划伤玻璃基板，已经不能满足高世代产线的生产 需要。近年来，日本、台湾等TFT-LCD生产厂家纷纷采用研磨的方法清洁基板上的这些杂 质，生产效率很高。目前使用的主要有两种研磨材料 一种以聚酯薄膜为基材的研磨带进 行研磨清洁，研磨效率高，但是由于聚酯薄膜较硬，研磨下来的玻璃屑、胶块等夹杂在研 磨带和玻璃基板之间，容易造成玻璃基板的划伤，影响产品的成品率；另一种是以聚氨酯 垫为底材做成研磨带，研磨成品率较好，但是研磨效率略低。
发明内容
本发明针对现有技术中存在的缺陷或不足，提供一种精密抛光布及其该抛光布的制备 方法，将该抛光布用于TFT-LCD的Cell制程中偏光片贴附前基板的清洁处理，可以有效地
去除基板表面的玻璃屑、残胶、油渍等杂质，同时又避免对玻璃基板造成划伤。 本发明的发明目的是通过以下技术方案实现的
一种精密抛光布，包括布基，其特征在于，所述布基采用编织布料，布基表面具有由 经向纱线和纬向纱线编织形成的凹坑，在所述布基表面上具有通过涂布带有研磨微粉的研 磨浆料所形成的研磨涂层，所述研磨涂层具有容屑坑，所述容屑坑与所述布基表面的凹坑相对应。
所述涂布采用刮涂或辊涂或喷涂；所述研磨浆料是包括所述研磨微粉与胶粘剂、溶剂 和固化剂的混合物。
所述研磨微粉为金刚石或碳化硅或氧化铝或氧化铈或二氧化硅，粒径为0. 1 30微米。 所述布基的纤维直径为3 20微米。
所述布基的纱线密度为23 49根/厘米2 (150 320根/英寸2)。
精密抛光布的制备方法，其特征是包括以下步骤将研磨微粉与胶粘剂、溶剂混合均 匀，再加入固化剂，制得研磨浆料；将研磨桨料涂布于布基表面；再经固化处理而形成研 磨涂层。
所述研磨微粉的中值粒径为0. 1 20微米。
所述胶粘剂指的是酚醛树脂、聚氨酯树脂、醇酸树脂、环氧树脂、丙烯酸酯树脂、 聚乙烯醇、羧甲基纤维素、尿素-甲醛树脂、聚醚树脂、聚酯树脂中的一种或几种的混合物； 所述的溶剂是乙酸乙酯、乙醚、石油醚、甲苯、甲醇、乙醇、异丙醇、丁酮、环己酮、 氯仿、四氢呋喃中的一种或几种的混合物或者是水。
所述固化剂指的是聚异氰酸酯、聚酰胺、酸酐、多元胺中的一种或几种的混合物。 所述的固化处理是指将抛光布经涂布机的干燥道干燥后，在40 150'C下放置5 60小时。
本发明的技术效果如下本发明的精密抛光布以柔软富有弹性的布基为底材，布基表 面本身具有由经向纱线和纬向纱线编织形成的凹坑，形成了凹凸不平的表面，因此在布基
表面上涂布研磨涂层时，使研磨涂层在与布基表面的凹坑相对应的地方形成容屑坑，具有 收集研磨时产生的磨屑的功能。研磨时，柔软富有弹性的布基对玻璃基板的贴附性良好， 通过精密研磨微粉的研磨，能有效地去除基板表面的玻璃屑、残胶、油渍等杂质；同时研 磨产生的磨屑能够储存在容屑坑处，从而避免对玻璃基板造成划伤，既满足了成品率的要 求，又能满足生产效率的要求。
图l是本发明的结构示意图。
附图标记列示如下l一研磨涂层，2—容屑坑，3—布基纬向纱线，4一布基径向纱线， 5—布基凹坑，6—研磨微粉。
具体实施方式
以下结合附图对本发明作进一步说明如图1所示， 一种精密抛光布，所述抛光布包括布基，布基采用编织布料，布基表面具有由经向纱线4和绎向纱线3编织形成的凹坑5，在布基表面上涂布带有研磨微粉6的研 磨浆料所形成的研磨涂层l，所述研磨涂层具有容屑坑2，容屑坑2与布基表面的凹坑5的 位置相对应。其中，涂布采用刮涂或辊涂或喷涂；研磨浆料是包括研磨微粉与胶粘剂、溶剂和固化 剂的混合物；研磨微粉主要为金刚石或碳化硅或氧化铝或氧化铈或二氧化硅，粒径为0. l 30微米；布基是指由涤纶、锦纶、氨纶、丙纶、粘胶中的一种或它们混纺制成的面料。布 基的纤维直径为3 20微米，优选为5 15微米;布基的纱线密度为23 49根/厘米2(150 320根/英寸2)，优选是径向纱密度为39 102根/厘米(100 260根/英寸)或纬向纱密度 为23 86根/厘米(60 220根/英寸)。精密抛光布的制备方法，包括以下步骤将研磨微粉与胶粘剂、溶剂混合均匀，再加 入固化剂，制得研磨浆料；将研磨浆料涂布于布基表面；再经固化处理而形成研磨涂层。 其中，研磨微粉的中值粒径为0.1 20微米；胶粘剂指的是酚醛树脂、聚氨酯树脂、醇 酸树脂、环氧树脂、丙烯酸酯树脂、聚乙烯醇、羧甲基纤维素、尿素-甲醛树脂、聚醚树脂、 聚酯树脂中的一种或几种的混合物；溶剂指的是乙酸乙酯、乙醚、石油醚、甲苯、甲醇、 乙醇、异丙醇、丁酮、环己酮、氯仿、四氢呋喃中的一种或几种的混合物，除上述有机溶剂外，所述的溶剂还可以是水；固化剂指的是聚异氰酸酯、聚酰胺、酸酐、多元胺中的一 种或几种的混合物；所述研磨浆料的固含量优选为10 90%，研磨微粉与胶粘剂的比例优 选为1: 9 9: 1;所述的涂布的方法是指刮涂或辊涂或喷涂；所述的固化处理是指将抛 光布经涂布机的干燥道干燥后，在40 150'C下放置5 60小时。以使胶粘剂充分反应，获 得良好的力学性能。另外，根据需要，在研磨浆料中加入适量的添加剂，所述添加剂是指 偶联剂、增塑剂、抗静电剂、润湿剂、分散剂、抗刮剂中的一种或几种的混合物。 实施例1在浆料桶中依次加入200g中值粒径为6微米的氧化铝微粉，4000g固含量为50%的聚 酯树脂，3000g混合溶剂(含乙酸乙酯、甲苯、丁酮)，20g抗静电剂、20g分散剂，高速搅 拌分散10分钟，然后加入5000g聚异氰酸酯固化剂(上海新光化工厂)，搅拌均匀制得研 磨浆料，将研磨浆料涂布在布基表面，在130'C下固化24小时。实施例2在浆料桶中依次加入200g中值粒径为6微米的氧化铝微粉，3000g固含量为40%的聚 酯树脂，3000g混合溶剂(含乙酸乙酯、甲苯、丁酮)，30g抗静电剂、30g分散剂，高速搅 拌分散10分钟，然后加入4000g聚异氰酸酯固化剂(上海新光化工厂)，搅拌均匀制得研 磨浆料，将浆料涂布在布基表面，在13(TC下固化30小时。 实施例3在浆料桶中依次加入200g中值粒径为3微米的氧化铝微粉，4000g固含量为50%的聚 酯树脂，，3000g混合溶剂(含乙酸乙酯、甲苯、丁酮)，20g抗静电剂、20g分散剂，高速 搅拌分散10分钟，然后加入5000g聚异氰酸酯固化剂(上海新光化工厂)，搅拌均匀制得 研磨浆料，将浆料涂附在布基表面，在13(TC下固化30小时。应当指出，以上所述具体实施方式
可以使本领域的技术人员更全面地理解本发明创造， 但不以任何方式限制本发明创造。因此，尽管本说明书参照附图和实施例对本发明创造己 进行了详细的说明，但是，本领域技术人员应当理解，仍然可以对本发明创造进行修改或 者等同替换；而一切不脱离本实用新型的精神和范围的技术方案及其改进，其均涵盖在本 发明创造专利的保护范围当中。
权利要求
1.一种精密抛光布，包括布基，其特征在于，所述布基采用编织布料，所述布基表面具有由经向纱线和纬向纱线编织形成的凹坑，在所述布基表面上具有通过涂布带有研磨微粉的研磨浆料所形成的研磨涂层，所述研磨涂层具有容屑坑，所述容屑坑与所述布基表面的凹坑相对应。
2. 根据权利要求l所述的精密抛光布，其特征在于，所述涂布采用刮涂或辊涂或喷涂；所 述研磨浆料是包括所述研磨微粉与胶粘剂、溶剂和固化剂的混合物。
3. 根据权利要求l所述的精密抛光布，其特征在于所述研磨微粉为金刚石或碳化硅或氧化 铝或氧化铈或二氧化硅，粒径为0. 1 30微米。
4. 根据权利要求l所述的精密抛光布，其特征在于所述布基的纤维直径为3 20微米。
5. 根据权利要求1所述的精密抛光布，其特征在于所述布基的纱线密度为23 49 根/厘米2 (150 320根/英寸2)。
6. 精密抛光布的制备方法，其特征在于包括以下步骤将研磨微粉与胶粘剂、溶剂混合均 匀，再加入固化剂，制得研磨浆料；将研磨浆料涂布于布基表面；再经固化处理而形成 研磨涂层，所述研磨涂层具有容屑坑，所述容屑坑与所述布基表面的凹坑相对应。
7. 根据权利要求6所述的精密抛光布的制备方法，其特征在于所述研磨微粉的中值粒径为 0.1 20微米。
8. 根据权利要求6所述的精密抛光布的制备方法，其特征在于所述胶粘剂指的是酚醛树月旨、聚氨酯树脂、醇酸树脂、环氧树脂、丙烯酸酯树脂、聚乙烯醇、羧甲基纤维素、尿素-甲醛树脂、聚醚树脂、聚酯树脂中的一种或几种的混合物；所述的溶剂指的是乙酸乙酯、乙醚、石油醚、甲苯、甲醇、乙醇、异丙醇、丁酮、环己酮、氯仿、四氢呋喃 中的一种或几种的混合物或者是水。
9. 根据权利要求6所述的精密抛光布的制备方法，其特征在于所述固化剂指的是聚异氰酸 酉旨、聚酰胺、酸酐、多元胺中的一种或几种的混合物。
10. 根据权利要求6所述的精密抛光布的制备方法，其特征在于所述的固化处理是指将抛 光布经涂布机的干燥道干燥后，在40 15(TC下放置5 60小时。
全文摘要
一种精密抛光布及其制造方法，所述抛光布包括布基，所述布基采用编织布料，布基表面具有由经向纱线和纬向纱线编织形成的凹坑，在所述布基表面上具有通过涂布带有研磨微粉的研磨浆料所形成的研磨涂层，所述研磨涂层具有容屑坑，所述容屑坑与所述布基表面的凹坑相对应。本发明以柔软富有弹性的布基为底材，布基表面的研磨涂层具有容屑坑，具有收集研磨时产生的磨屑的功能。将该抛光布用于TFT-LCD的Cell制程中偏光片贴附前基板的清洁处理，能有效地去除基板表面的玻璃屑、残胶、油渍等杂质；同时研磨产生的磨屑能够储存在容屑坑处，从而避免对玻璃基板造成划伤，既满足了成品率的要求，又能满足生产效率的要求。
文档编号B24D11/00GK101648368SQ200910092219
公开日2010年2月17日 申请日期2009年9月7日 优先权日2009年9月7日
发明者张增明, 葛丙恒 申请人:北京国瑞升科技有限公司